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- [发明专利]溅射沉积设备和方法-CN202080092671.9在审
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M.伦德尔
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戴森技术有限公司
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2020-11-10
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2022-08-26
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H01J37/34
- 一种溅射沉积设备(100)，包括：远程等离子体产生装置(106)，布置成在溅射沉积区(112)内为靶材料(102)的溅射沉积提供等离子体(120)；限制装置，布置成提供限制磁场以基本上将等离子体限制在所述溅射沉积区中；设置在所述溅射沉积区内的基板(104)；以及一个或多个靶支撑组件(108)，布置成支撑所述溅射沉积区中的一个或多个靶，以便在所述基板上提供靶材料的溅射沉积；其中，所述限制装置将远程等离子体限制到所述靶支撑组件，使得在使用中沉积：作为基板上的第一区域的靶材料；作为基板上的第二区域的靶材料；和所述第一区域和第二区域之间的中间区域，包括靶材料的混合物。
- 溅射沉积设备方法
- [发明专利]溅射沉积-CN202080092664.9在审
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M.伦德尔
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戴森技术有限公司
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2020-11-10
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2022-08-19
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H01J37/34
- 一种溅射沉积设备(100)，包括：远程等离子体产生装置(106)，布置成在溅射沉积区(112)内为靶材料(102)的溅射沉积提供等离子体(120)；限制装置，布置成提供限制磁场以基本上将等离子体限制在所述溅射沉积区中；设置在所述溅射沉积区内的基板(104)；以及一个或多个靶支撑组件(108)，布置成支撑所述溅射沉积区中的一个或多个靶，以便在所述基板上提供靶材料的溅射沉积；其中，所述限制装置将远程等离子体限制到所述靶支撑组件，使得在使用中沉积：作为基板上的第一区域的靶材料；作为基板上的第二区域的靶材料；以及位于所述第一区域和第二区域之间的中间区域，其中没有靶材料。
- 溅射沉积
- [实用新型]具有磁场增强装置的等离子体装置-CN200720169925.4无效
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陈强;张跃飞;付亚波;杨丽珍;孙运金
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北京印刷学院
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2007-07-27
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2008-05-28
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H05H1/10
- 具有磁场增强装置的等离子体装置属于等离子体应用技术领域，用于提高等离子体区内等离子体的密度；采用磁场增强装置，将等离子体约束在一定的磁场区域内；磁场增强装置为与电极结构配套的永久性磁体组成的磁块组合体(12)，引入磁场的强度为10～1000mT；在适宜基材连续卷绕工艺的等离子体化学气相沉积装置中，磁块组合体(12)，由与左、右转辊电极(2)、(3)相应的外、内磁块组合体(13)、(14)组成；有益效果，用于等离子体化学气相沉积，可于基材表面沉积聚合成纳米级厚的功能保护膜，致密度高，阻隔性好；用于大气放电装置，对物料改性处理及对物体表面改性处理；能提高等离子体的应用性能和效果，并且速度快。
- 具有磁场增强装置等离子体
- [发明专利]纳米涂层设备的电磁过滤装置-CN201710300658.8有效
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王书文;刘彩霞;沈丽霞
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上海理工大学
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2017-05-02
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2019-10-01
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C23C14/32
- 本发明涉及一种纳米涂层设备的电磁过滤装置，真空电弧的阴极与阳极之间产生电弧，在垂直于电弧阴极表面的附近产生等离子,在磁场的作用下，等离子体中的宏观粒子、中性原子和离子团被偏移到过滤屏幕上，而纯净的等离子体被偏移到更高磁场分量的位置，最终到达放置基体的转台，并沉积在基体上。本发明可以减少离子体中宏观粒子、离子团和中性原子在工件表面的沉积,同时确保电磁过滤后沉积粒子的离化率、提高等离子体在过滤屏幕中的有效传输,从而能将离子源产生等离子体中的宏观粒子、离子团和中性原子过滤干净，且经过电磁过滤后沉积粒子的离化率为100%，最终实现致密均匀、平整光滑、抗腐蚀性能好且与基体结合力很强的纳米涂层的制备。
- 纳米涂层设备电磁过滤装置
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