专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]等离子装置-CN201580009953.7在审
  • T·B·胡比彻 - 兰德股份公司
  • 2015-01-22 - 2016-10-12 - A61B18/04
  • 本发明提供一种用于向人体施加等离子等离子生成装置,所述装置包括:包含气体的贮存器,与所述贮存器流体连接的等离子区,用于通过在所述等离子区中放电来生成等离子的器件,以及第一激光生成装置,其中所述等离子区具有用于分配等离子的出口,并且其中所述第一激光生成装置被布置来生成激光以用于同时用等离子和激光处理表面。
  • 等离子体装置
  • [发明专利]等离子装置-CN201980102799.6在审
  • 池户俊之 - 株式会社富士
  • 2019-12-13 - 2022-07-15 - H05H1/26
  • 本发明提供能够保护气体供给管不受卡合爪的影响的等离子装置等离子装置具备:等离子头,使用处理气体而喷出等离子气体;气体供给单元,向等离子头供给处理气体;气体供给管,该气体供给管的前端部与等离子头连接,该气体供给管的基端部与气体供给单元连接,该气体供给管从气体供给单元向等离子头供给处理气体;安装部件,具有与气体供给管卡合的卡合爪,通过使卡合爪与气体供给管卡合而将气体供给管安装于等离子头;及旋转限制部件,在比与卡合爪卡合的位置靠气体供给管的基端侧处限制气体供给管的旋转。
  • 等离子体装置
  • [发明专利]等离子装置-CN201711326795.5有效
  • 马场哲治;加藤典之 - 丰田自动车株式会社
  • 2017-12-13 - 2020-02-18 - C23C16/04
  • 本发明提供一种等离子装置,在对工件进行等离子处理的等离子装置中,抑制处理对象物的变形。等离子装置具备容器,该容器具有相向配置的第一模及第二模,将工件密封在关闭的第一模及第二模的内部。第一模具有:相向平面部,与工件的外周表面相向配置;第一凹陷部,与处理对象部分相向配置并产生等离子;及第二凹陷部,在相向平面部与第一凹陷部之间与非处理对象部分相向配置并产生等离子
  • 等离子体装置
  • [发明专利]等离子装置-CN201010169836.6有效
  • 山崎舜平 - 株式会社半导体能源研究所
  • 2004-01-30 - 2010-09-29 - H05H1/26
  • 本发明的半导体器件的制造方法,具有使用喷射导电性材料的第1溶液喷射单元来形成布线的工序;使用第2溶液喷射单元在上述布线上形成抗蚀剂掩膜的工序;以及以上述抗蚀剂掩膜作为掩膜,使用具有线状等离子发生单元的大气压等离子装置或将多个等离子发生单元呈线状排列的大气压等离子装置将上述布线进行刻蚀的工序
  • 等离子体装置
  • [发明专利]等离子装置-CN200510129428.7有效
  • 崔熙焕;金湘甲;吴旼锡;秦洪基 - 三星电子株式会社
  • 2005-12-08 - 2006-06-28 - H01L21/3065
  • 本发明公开了一种等离子装置。所述等离子装置包括:反应室,具有反应空间以容纳被处理的基板;线圈,位于所述反应空间的外部上;电源,将交流频率电源施加到所述线圈上;以及导电板,位于所述线圈和所述反应空间之间且从施加到所述线圈上的交流频率电源产生感应电流因此,本发明提供了等离子装置,其在反应室的内部气体中诱发均匀的电场。
  • 等离子体装置
  • [发明专利]等离子装置-CN201980102527.6在审
  • 泷川慎二;神藤高广 - 株式会社富士
  • 2019-12-24 - 2022-07-12 - H05H1/00
  • 本发明提供能够进行与漏电电流的产生状况对应的通知的等离子装置。本公开的等离子装置具备:电极,通过放电而产生等离子;电源装置,生成向电极供给的电力;电力线缆,从电源装置向电极供给电力;漏电检测装置,检测电力线缆的漏电电流;及控制装置,基于对由漏电检测装置检测出的漏电电流与第一阈值进行比较的结果而执行第一通知
  • 等离子体装置
  • [发明专利]等离子装置-CN201710316726.X有效
  • 苏恒毅 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2017-05-08 - 2022-06-17 - H05H1/46
  • 本发明公开了一种等离子装置,所述等离子装置包括反应腔室和线圈,所述反应腔室用于容纳待处理晶片,所述线圈设置在所述反应腔室外侧,所述等离子装置还包括导磁件,所述导磁件内部设置有容纳空间,所述线圈设置在所述容纳空间内本发明的等离子装置,能够有效降低线圈中的电流,从而可以降低线圈中的能量损耗,提高了该等离子装置的能量耦合效率,同时,还能够有效降低线圈发热带来的安全隐患,提高该等离子装置的使用寿命。
  • 等离子体装置
  • [发明专利]等离子装置-CN201180054048.5无效
  • 安东靖典 - 日新电机株式会社
  • 2011-01-12 - 2013-07-10 - C23C14/34
  • 由此,在靶部件(4、5)的表面附近基于电感耦合产生等离子。低频电源(16)对电极(2、3)施加交变电压。由此,等离子中的电子流入与被施加正偏压的电极(电极(2、3)中的一个)接触配置的靶部件(靶部件(4、5)中的一个),等离子中的正离子流入与被施加负偏压的电极(电极(2、3)中的另一个)接触配置的靶部件从而,等离子中的电子及正离子滞留在电极(2、3)间及靶部件(4、5)的表面附近。
  • 等离子体装置
  • [发明专利]等离子装置-CN201410359001.5在审
  • 徐逸明;王立民;李安仁 - 馗鼎奈米科技股份有限公司
  • 2014-07-25 - 2015-11-04 - H05H1/28
  • 本发明提供一种等离子装置,包括一外壳、一第一电极、一第二电极、一喷嘴以及一气体喷出口。外壳具有一第一腔室。该第一电极为一第一管状电极,第一管状电极设置在第一腔室中,且具有一第二腔室。第二腔室与第三腔室适于容纳第一电极与第二电极间所形成的一等离子。喷嘴与气体喷出口分别独立地设置在第二电极的底部,其中喷嘴用以喷出等离子,并与第二电极的旋转轴心之间具有一夹角或与轴心相距一段距离,而气体喷出口用以喷出一冷却气体。
  • 等离子体装置

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