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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]半导体机台的改进结构-CN200620119831.1无效
发明人：刘相贤;梁金堆;林俊良 -专利权人：联萌科技股份有限公司
申请日： 2006-08-02 - 公布日： 2007-08-01 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种适用于半导体的晶圆制程，具有降低污染物附着效果，以及提高清洁操作效率的半导体机台的改进结构。此半导体机台包括一制程室、一承载装置、一晶圆载盘、一真空阻绝件、以及一遮套。承载装置设置于制程室内。晶圆载盘设置于承载装置上。真空阻绝件则设置于承载装置内。遮套设置于承载装置外侧并连接于制程室的内壁，其具有阻隔污染物附着于承载装置上的功能，使半导体机台污染物附着降低并提高清洁操作效率。
半导体机台改进结构

[实用新型]适用于SiC离子注入机的非破真空快速更换离子源模组-CN202320188326.6有效
发明人：张俊 -专利权人：淄博绿能芯创电子科技有限公司
申请日： 2023-02-08 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： H01J37/08 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种半导体离子注入制程装置领域的适用于SiC离子注入机的非破真空快速更换离子源模组，包括带嵌入口的离子源腔室、带可视窗口的可拆装过渡腔室、适配离子源拆装的治具、可移动腔室拖车以及真空泵，带嵌入口的离子源腔室连接带可视窗口的可拆装过渡腔室，带可视窗口的可拆装过渡腔室连接适配离子源拆装的治具，带可视窗口的可拆装过渡腔室底部分别连接可移动腔室拖车和真空泵。本实用新型通过带可视窗口的可拆装过渡腔室来进行真空大气交换、代替带嵌入口的离子源腔室的破真空动作，减少维护保养时间；利用带可视窗口的可拆装过渡腔室及其可移动腔室托车降低了作业难度。
适用于 sic 离子注入真空快速更换离子源模组

[发明专利]半导体制程机台-CN202010025322.7在审
发明人：杨胜钧;林艺民;谢主翰;李佳蓉;郑智龙;黄柏智 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2020-01-10 - 公布日： 2021-07-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种半导体制程机台，包含缓冲室、机器手臂、气流供应源、抽气系统以及多个腔室。缓冲室具有一缓冲室本体，其中缓冲室本体具有进气口、抽气口、一第一晶圆通道以及一第二晶圆通道，其中进气口邻近该第一晶圆通道，抽气口邻近该第二晶圆通道，其中该第一晶圆通道与该第二晶圆通道相对设置。机器手臂设置于缓冲室中。气流供应源连接进气口。抽气系统连接抽气口。多个腔室分别连接缓冲室的第一晶圆通道以及第二晶圆通道。
半导体机台

[实用新型]半冲压超薄均热板-CN202021672570.2有效
发明人：韩一丹;于全耀;梁平平 -专利权人：东莞领杰金属精密制造科技有限公司
申请日： 2020-08-12 - 公布日： 2021-04-20 - 主分类号： H05K7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种半冲压超薄均热板，包括上盖、下盖及吸液芯，上盖与下盖焊接连接能够形成封闭的腔室，吸液芯设置在腔室内，上盖通过蚀刻制成，下盖通过冲压制成，上盖上设置有与下盖相配合的焊接槽及用于支撑腔室的支撑柱，支撑柱位于腔室内。本实用新型的支撑柱能够对腔室的空间结构起到支撑作用，可以增强均热板的结构强度和力学性能，有效防止产品变形，上盖通过蚀刻制成，便于支撑柱加工成型，能够保证产品的制程能力和产量以满足生产需求，下盖通过冲压制成，有效降低了生产成本，上盖上的焊接槽便于上盖与下盖连接的更加紧密、牢靠，从而提高了产品的稳定性和可靠性，增强了产品的竞争力，扩大了产品的应用和发展。
冲压超薄均热

[发明专利]制程反应室的定压控制方法及其调压阀-CN200310103697.7有效
发明人：张知天;吴学昌;巫尚霖;黄见翎;彭进兴;周梅生 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2003-10-30 - 公布日： 2004-06-30 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：一种制程反应室的定压控制方法，通过一PID控制器控制第一调压阀和至少一个第二调压阀，对制程反应室执行第一预定压力控制，且第一调压阀的反应时间比第二调压阀的反应时间较长，该定压控制方法叙述如下：(a)第一调压阀提供该制程反应室第二预定压力；(b)第二调压阀对制程反应室执行压力的控制，将压力由第二预定压力调整至第一预定压力。本发明还提供一种用于制程反应室定压的调压阀，以实现上述控制方法。
反应控制方法及其调压

[发明专利]晶片投片方法与晶片投片装置-CN201110139479.3有效
发明人：范安涛;邓俊弦;陈波;钱红兵;赵晨;吕庆麟 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2011-05-26 - 公布日： 2012-11-28 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种晶片投片方法，包括：获取当前可使用反应室的信息；将所有完成相同工艺步骤的可使用反应室进行分组，以得到对应该工艺步骤的至少一个反应室组；根据制程包括的工艺步骤及各工艺步骤对应的至少一个反应室组，获得所有可能的制程方案；计算各制程方案对应的反应室利用率；将待处理晶片按反应室利用率高的制程方案进行投片。采用本发明提供的晶片投片方法与晶片投片装置，可以提高反应室利用率。
晶片方法装置

[实用新型]一种水冷式切粒机-CN201821169037.7有效
发明人：马俊;王开明 -专利权人：福融辉实业（福建）有限公司
申请日： 2018-07-24 - 公布日： 2019-02-22 - 主分类号： B29B9/06 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种水冷式切粒机，包括切粒机组、沥水甩干机组及振筛机组，沥水甩干机组包含沥水装置、离心脱水机及循环水箱，沥水装置包括倾斜的沥水腔，沥水腔底端有进料口，顶端有出料口，沥水腔底端进料口通过制程回水管与切粒室上部连通；沥水腔内设有橡胶绞龙，沥水腔底部设有沥水层，沥水层外侧设有导流层，导流层底部有出水口，出水口通过回收管与循环水箱相连，循环水箱通过制程出水管与切粒室下部连通；沥水腔顶端出料口与离心脱水机进料口相连；振筛机组包括振筛箱体
沥水腔振筛进料口沥水离心脱水机机组循环水箱出料口甩干沥水装置出水口导流层沥水层切粒机切粒室水冷式底端切粒制程连通本实用新型冷却水循环管路结构生产效率装置结构出水管回收管回水管输料管绞龙橡胶塑料

[发明专利]一种ICP离子源分区氧化镀膜设备-CN202211665063.X在审
发明人：徐旻生;张永胜 -专利权人：深圳奥卓真空设备技术有限公司
申请日： 2022-12-22 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明包括装卸站、进出片室、搬送室、制程室，其中，制程室内包括镀膜圆鼓、升降悬挂机构、阴极系统、ICP反应源、加热器、分子泵以及镀膜电源，制程室为圆桶式设计，设有多个隔离排气腔体，且隔离排气腔体分布在制程室的上
一种 icp 离子源分区氧化镀膜设备

[实用新型]一种ICP离子源分区氧化镀膜设备-CN202223444377.5有效
发明人：徐旻生;张永胜 -专利权人：深圳奥卓真空设备技术有限公司
申请日： 2022-12-22 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型包括装卸站、进出片室、搬送室、制程室，其中，制程室内包括镀膜圆鼓、升降悬挂机构、阴极系统、ICP反应源、加热器、分子泵以及镀膜电源，制程室为圆桶式设计，设有多个隔离排气腔体，且隔离排气腔体分布在制程室的上
一种 icp 离子源分区氧化镀膜设备

[发明专利]监控电浆制程的方法-CN200310118264.9有效
发明人：邱显光;詹博文;彭宝庆;邱远鸿;陶宏远 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2003-12-09 - 公布日： 2004-06-30 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种监控电浆制程的方法，包括下列步骤：提供一电浆反应室；进行一既定电浆制程，并同时临场量测该电浆反应室的电浆参数，如电子碰撞频率与电子密度；以及，根据其电浆参数值评估电浆反应室的制程品质。
监控电浆制程方法

[实用新型]12英寸多功能扩展化学沉积制程腔设备-CN201820955515.0有效
发明人：张德培 -专利权人：上海陛通半导体能源科技股份有限公司
申请日： 2018-06-21 - 公布日： 2019-01-15 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：12英寸多功能扩展化学沉积制程腔设备，包括传送腔、准备腔、制程腔、冷却腔、晶圆承载台、工作台和机械手臂。所述的工作台呈长方形，与传送腔相连；所述的传送腔呈方形，中间有圆形孔洞，用于放置机械手臂，传送腔与工作台、冷却腔和制程腔相连；所述的冷却腔在传送腔和准备腔之间，内部含有晶圆承载台，用于晶圆在传送腔和准备腔间传输中转；所述的准备腔呈方形，与冷却腔、制程腔相连。本实用新型最多可进行10个制程反应，极大提高设备整体生产效率，进行制程优化配置。
制程传送腔冷却腔准备腔工作台多功能扩展晶圆承载台化学沉积机械手臂本实用新型设备整体生产效率优化配置圆形孔洞晶圆传输

[实用新型]一种等离子刻蚀尾气处理装置-CN201720722096.1有效
发明人：吕康理;刘亚坤;吕承鹏;于玉斋;王明明;吕飞;涂亮亮;魏明德 -专利权人：徐州同鑫光电科技股份有限公司
申请日： 2017-06-21 - 公布日： 2018-05-01 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型公开一种等离子刻蚀尾气处理装置，属于等离子刻蚀制程领域，包括用于尾气反应的腔室，所述腔室呈凸字形，腔室包括上腔体和下腔体；所述下腔体内设有处理液，下腔体一侧设有排气管路，所述上腔体的一侧设有进气口，上腔体的顶部外设有电机，电机上接有一贯穿上腔体顶部的旋转轴，旋转轴上接有可随旋转轴转动的搅拌扇；所述搅拌扇包括与旋转轴连接的扇杆、及设置在扇杆两端的扇叶。本实用新型的装置通过在尾气处理系统内部加装搅拌扇，通过扇叶的高速旋转，将粘附在侧壁的尾气杂质剥离，使腔室的保养频率由原来的一月一次降低到三月一次，有效提高工作效率，降低人工成本。
一种等离子刻蚀尾气处理装置

[发明专利]制程反应室除尘装置及具有除尘功能的制程反应室-CN200410059425.6有效
发明人：林昆民 -专利权人：友达光电股份有限公司
申请日： 2004-06-18 - 公布日： 2005-03-16 - 主分类号： G02F1/133 文献下载
摘要：一种制程反应室除尘装置及具有除尘功能的制程反应室。为提供一种能自动化对加热板表面进行清洁、提高加热板表面的清洁效率的显示装置部件制造设备附属装置，提出本发明，制程反应室除尘装置包括设于制程反应室加热板上方的集尘舱及提供吸力来源的负压管路；集尘舱设置于加热板上方，其具有至少一集尘口一个排气口；负压管路与集尘舱排气口相连接；具有除尘功能的制程反应室包括可加热空气以进行制程中所需反应的加热板设置于加热板上方的集尘舱及负压管路；集尘舱具有至少一集尘口及一排气口；负压管路与集尘舱的排气口连接
反应除尘装置具有功能

[发明专利]遮挡机构及具有遮挡机构的基板处理腔室-CN202110265790.6在审
发明人：林俊成;郭大豪;郑啓鸿;沈祐德 -专利权人：鑫天虹(厦门)科技有限公司
申请日： 2021-03-11 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： C23C14/22 文献下载
摘要：本发明提供一种遮挡机构及具有遮挡机构的基板处理腔室，主要包括一反应腔体、一承载盘、一收纳腔体及一遮挡机构，其中反应腔体连接收纳腔体，而承载盘位于反应腔体内。在进行沉积制程时，驱动杆体会带动遮挡部位移至收纳腔体内。在进行清洁制程时，驱动杆体会带动遮挡部位移至反应腔体内，以避免在清洁处理腔室的过程中污染承载盘。
遮挡机构具有处理

[实用新型]遮挡装置及具有遮挡装置的基板处理腔室-CN202120515649.2有效
发明人：林俊成;郭大豪;郑啓鸿;沈祐德 -专利权人：鑫天虹(厦门)科技有限公司
申请日： 2021-03-11 - 公布日： 2022-03-08 - 主分类号： C23C14/22 文献下载
摘要：本实用新型提供一种遮挡装置及具有遮挡装置的基板处理腔室，主要包括一反应腔体、一承载盘、一收纳腔体及一遮挡装置，其中反应腔体连接收纳腔体，而承载盘位于反应腔体内。在进行沉积制程时，驱动杆体会带动遮挡部位移至收纳腔体内。在进行清洁制程时，驱动杆体会带动遮挡部位移至反应腔体内，以避免在清洁处理腔室的过程中污染承载盘。
遮挡装置具有处理

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