[发明专利]平面介质集成电路无效
| 申请号： | 98105409.9 | 申请日： | 1998-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN1134844C | 公开（公告）日： | 2004-01-14 |
| 发明（设计）人： | 石川容平;坂本孝一;山下贞夫;梶川武久 | 申请（专利权）人： | 株式会社村田制作所 |
| 主分类号： | H01L23/66 | 分类号： | H01L23/66;H01P3/02;H01P7/10;H03F3/189 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 张政权 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供了一种平面介质集成电路，从而平面介质线与电子元件之间的能量转换损耗较小且在它们之间容易获得阻抗匹配。通过设置与电路衬底的两个主表面都相对的槽，构成了两个平面介质线。在包括槽的第一平面介质线的端部设置有槽线和第一线转换导体图案，该第一线转换导体图案连到槽线与第一平面介质线的电磁场以进行线转换。在包括槽的第二平面介质线的末端部分处设置使第二线转换导体图案沿与第二平面介质线垂直的方向伸出的共面线。以在共面线和槽线上延伸的方式放置的半导体器件。 | ||
| 搜索关键词： | 平面 介质 集成电路 | ||
【主权项】：
1.一种平面介质集成电路，其特征在于包括：平面介质线，从而通过在介质板第一主表面上的固定距离处放置两个导体来形成第一槽，通过在所述介质板第二主表面上的固定距离处设置两个导体来形成与第一槽相对的第二槽，夹在所述介质板的所述第一槽和所述第二槽之间的区域形成平面波传播区；共面线，设置在所述平面介质线的末端部分或中点处；线转换导体图案，沿与平面介质线垂直的方向从共面线的中央导体中伸出；以及电子元件，以在所述共面线上延伸的方式设置。
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