[发明专利]半导体装置及其制造方法在审
申请号: | 202210127822.0 | 申请日: | 2022-02-11 |
公开(公告)号: | CN114927482A | 公开(公告)日: | 2022-08-19 |
发明(设计)人: | 卢俊良;贾钧伟;周俊豪;李国政 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/00 | 分类号: | H01L23/00;H01L23/16 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 一种半导体装置及其制造方法,半导体装置包含第一晶圆及第二晶圆。半导体装置包含密封环结构,其包含在第一晶圆的主体内的第一金属结构、在第一晶圆的主体内的第二金属结构、在第二晶圆的主体内的第三金属结构及金属接合结构。金属接合结构包括透过第一晶圆及第二晶圆之间的界面连接第一金属结构及第三金属结构的第一金属元件组,以及透过第一晶圆及第二晶圆之间的界面连接第二金属结构及第三金属结构的第二金属元件组。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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