[发明专利]半导体非易失性存储器器件在审

专利信息
申请号: 202110572803.4 申请日: 2021-05-25
公开(公告)号: CN113764426A 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 孙永顺;卓荣发;陈学深;蔡新树;王蓝翔 申请(专利权)人: 格芯新加坡私人有限公司
主分类号: H01L27/11521 分类号: H01L27/11521;H01L27/11526
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 林莹莹;于静
地址: 新加坡*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开涉及半导体非易失性存储器器件。提供一种存储器器件。该存储器器件包括在衬底中的有源区域、电隔离电极和电介质层。电隔离电极被设置在有源区域之上。电介质层被设置在电隔离电极与有源区域之间,并包括具有第一厚度的第一电介质部分和具有第二厚度的第二电介质部分。
搜索关键词: 半导体 非易失性存储器 器件
【主权项】:
暂无信息
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