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[发明专利]用于静态反应溅射的工艺气体分段-CN201480076816.0有效
发明人： A·克洛佩尔;M·哈尼卡;C·灿格尔;E·希尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2014-03-18 - 公布日： 2019-06-28 - 主分类号： C23C14/00 文献下载
摘要：描述一种用于材料在基板上的静态沉积的设备。所述设备包括：气体分布系统，所述气体分布系统用于提供一或多种工艺气体，其中所述气体分布系统被配置成用于针对沿基板传送方向的两个或更多个位置独立控制所述一或多种工艺气体中的至少一种工艺气体的流率；以及阴极阵列，所述阴极阵列具有三个或更多个阴极，所述三个或更多个阴极沿所述基板传送方向间隔开。
用于静态反应溅射工艺气体分段

[发明专利]用以涂布溅镀材料层于基板上的装置及沉积系统-CN201280075041.6有效
发明人： A·克勒佩尔;M·哈尼卡;E·谢尔;K·施沃恩特兹;F·皮耶拉利西;J·刘 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2012-07-02 - 公布日： 2017-07-28 - 主分类号： H01J37/34 文献下载
摘要：本发明描述了一种用以涂布溅镀材料层于基板(12)上的装置(10；166；224)。所述装置(10；166；224)包括至少两个磁铁组件(60、74、82、90、98、106)，其中每个磁铁组件(60、74、82、90、98、106)具有外磁极性及内磁极性。所述至少两个磁铁组件(60、74、82、90、98、106)中的一者的外磁极性不同于所述至少两个磁铁组件(60、74、82、90、98、106)中的另一者的相邻的外磁极性。并且，本发明描述了一种沉积系统(14)，所述沉积系统包括所述装置(10；166；224)。
用以涂布溅镀材料基板上装置沉积系统

[发明专利]用于PVD阵列应用的多方向跑道旋转阴极-CN201180065117.2有效
发明人： E·谢尔;M·哈尼卡;R·林德伯格;M·班德尔;A·洛珀;K·施沃恩特兹;F·皮耶拉利西;J·刘 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2011-10-24 - 公布日： 2017-03-29 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：提供了一种用于溅射沉积装置的阴极组件（130、200、300、400）以及用于涂布基板的方法。阴极组件具有用于在基板上涂布的涂布侧。此外，阴极组件包括旋转靶组件，所述旋转靶组件适合于围绕旋转轴（220、320、420）旋转靶材料（210、310、410）；至少一个第一磁体组件（230、330、340、430、431、432、433），所述至少一个第一磁体组件具有内部磁极和至少一个外部磁极且适于产生一个或多个等离子体区（240、250、340、350、440、441、442、443）。阴极组件（130、200、300、400）具有对于一个磁极的第一角坐标，将所述磁极提供用于所述涂布侧；以及对于另一磁极的第二角坐标，将所述磁极提供用于涂布侧；其中第一角坐标（260、360、460）和第二角坐标（270、370、461）界定大于约20度且小于约160度的角度α。
用于 pvd 阵列应用多方跑道旋转阴极

[发明专利]用于涂布基板的方法及涂布机-CN201280073588.2在审
发明人： E·谢尔;M·哈尼卡;K·施沃恩特兹;F·皮耶拉利西;A·克勒佩尔;J·刘;A·洛珀 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2012-05-29 - 公布日： 2015-02-11 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种通过一阴极配置来涂布一基板的方法，所述阴极配置包括至少二个可转动阴极。此方法包括于一第一方向中转动所述至少二个可转动阴极的至少一者，且同时于一第二方向中转动所述至少二个可转动阴极的至少一者。第一方向是相反于第二方向。再者，公开了一种用于控制一涂布工艺的控制器。此外，公开了一种用于涂布一基板的涂布机。此涂布机包括一阴极配置及一控制器。阴极配置具有至少二个可转动阴极。此控制器是如此处所公开的。
用于涂布基板方法涂布机

[发明专利]可调整的遮罩-CN201180072999.5无效
发明人： E·谢尔;M·哈尼卡;R·林德伯格;M·班德尔;A·洛珀;K·施沃恩特兹;F·皮耶拉利西;J·刘 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2011-08-09 - 公布日： 2014-06-25 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：说明了一种用以形成沉积材料层于基板上的沉积设备。沉积设备包括：基板支撑件，用以支撑基板；以及边缘（660）排除遮罩（640），用以在层沉积期间覆盖基板（610）的周边。遮罩具有至少一框部，该至少一框部定义一孔洞。遮罩的该至少一框部用以根据在遮罩的该至少一框部上沉积的沉积材料的数量来相对于基板移动（670，680）。进一步来说，说明了一种利用边缘排除遮罩来沉积沉积材料层于基板上的方法。
可调整

[发明专利]角落切除遮罩-CN201180072988.7在审
发明人： M·哈尼卡;R·林德伯格;C·灿格尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2011-08-25 - 公布日： 2014-05-07 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：在此叙述配置用以沉积层于一矩形基板上的遮罩结构，例如配置用以沉积层于矩形基板上的边缘排除遮罩。遮罩结构包括遮罩框，用于在层沉积过程中遮盖基板的边缘，其中遮罩框包括至少两个遮罩框侧边部分，于至少两个遮罩框侧边部分之间的角落区域形成角落，其中遮罩框是以与矩形基板的边缘重迭的方式成形，使得位于遮罩框侧边部分处的第一重迭宽度大于位于角落区域的第二重迭宽度。
角落切除

[发明专利]操作具有靶的溅射阴极的方法-CN200510088817.X有效
发明人： S·班格特;W·布施贝克;M·哈尼卡;K－A·凯姆;M·薛尼格;J·克伦佩尔－黑塞;A·勒普;H·罗斯特;J·斯克勒德;T·施托莱 -专利权人：应用薄膜股份有限公司
申请日： 2005-07-29 - 公布日： 2006-11-15 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于操作磁控管溅射阴极、特别是阴极管或形成一个阵列的几个阴极管的方法。在此类阴极中，一个靶经过磁场，因此感应电流在畸变磁场的靶中流动。这导致基底的不均匀涂层。通过在磁场和靶之间的相对移动交替地反转它的方向，能够补偿磁场畸变的结果。这得到将被涂敷的基底上的涂层更为均匀。
操作具有溅射阴极方法