[发明专利]一种半导体芯片的封装结构及其封装方法有效

专利信息
申请号: 201711454291.1 申请日: 2017-12-28
公开(公告)号: CN107910307B 公开(公告)日: 2020-01-31
发明(设计)人: 张黎;赖志明;陈锦辉;陈栋 申请(专利权)人: 江阴长电先进封装有限公司
主分类号: H01L23/48 分类号: H01L23/48;H01L23/31;H01L21/56
代理公司: 32200 南京经纬专利商标代理有限公司 代理人: 赵华
地址: 214400 江苏省无锡市江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种半导体芯片的封装结构及其封装方法,属于半导体芯片封装技术领域。其硅基本体的上方设置再布线金属层Ⅰ,在所述输入/输出端Ⅰ设置金属柱,所述包封层包裹金属柱和再布线金属层Ⅰ的裸露面以及硅基本体的侧壁,并露出金属柱的上表面,所述介电层设置在包封层的上表面,并开设介电层开口露出金属柱的上表面,所述介电层的上表面设置再布线金属层Ⅱ,所述再布线金属层Ⅱ通过介电层开口与金属柱固连,所述输入/输出端Ⅱ设置在金属柱的垂直区域之外,所述保护层填充再布线金属层Ⅱ和介电层的裸露面并露出连接件的上表面;所述包封层于硅基本体至介电层的厚度H>40微米。提供了一种有效保护芯片的封装结构及其封装方法。
搜索关键词: 一种 半导体 芯片 封装 结构 及其 方法
【主权项】:
1.一种半导体芯片的封装结构的封装方法,其实施步骤如下:/n步骤一、提供硅基晶圆,其正面有钝化层并嵌有芯片电极,钝化层开口露出芯片电极的上表面,并设有切割道;/n通过干法刻蚀方法沿切割道刻蚀硅基晶圆形成沟槽,沟槽不穿透硅基晶圆,硅基晶圆的背面仍旧连接,或用刀片直接切割形成沟槽;/n步骤二、在硅基晶圆正面依次通过溅射、光刻、电镀制作再布线金属层Ⅰ和输入/输出端Ⅰ;/n步骤三、在再布线金属层Ⅰ的上表面依次通过溅射、光刻、电镀方式形成高度大于40微米的金属柱,所述金属柱与输入/输出端Ⅰ固连;/n步骤四、用包封料通过层压方式包封金属柱、再布线金属层Ⅰ和沟槽以及硅基晶圆的裸露部分,形成包封层;/n步骤五、研磨包封层露出金属柱的上表面;/n步骤六、在上述包封层上覆盖介电层,并形成介电层开口,露出金属柱的上表面;/n步骤七、在介电层的上表面依次通过溅射、光刻、电镀形成再布线金属层Ⅱ和输入/输出端Ⅱ;/n步骤八、用保护层通过层压方式保护再布线金属层Ⅱ和介电层的裸露部分,并形成保护层开口露出输入/输出端Ⅱ,在输入/输出端Ⅱ形成焊球,完成硅基晶圆正面的包封工艺;/n步骤九、对硅基晶圆背面进行研磨减薄,减薄至露出沟槽的底部,并对减薄后的硅基晶圆的背面用硝酸、氢氟酸这些强酸进行腐蚀,再用弱碱性清洁的方法,形成较利于背面金属层粘结紧密的背面预处理面;/n步骤十、在背面预处理面贴上背胶膜形成背面保护层;/n步骤十一、进行切割形成单颗半导体芯片封装结构。/n
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