[发明专利]半导体装置以及制造半导体装置的方法有效

专利信息
申请号: 201611023256.X 申请日: 2016-11-21
公开(公告)号: CN107039417B 公开(公告)日: 2022-06-21
发明(设计)人: 都桢湖;李昇映;郑钟勋;林辰永;梁箕容;白尚训;宋泰中 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 刘培培
地址: 韩国京畿道水*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 半导体装置包含:导体,其安置于衬底上;第一触点,其安置于导体上;第二触点,其具有安置于第一触点上的第一部分以及在平行于衬底的方向上远离第一部分伸出的第二部分,其中第一和第二触点安置于绝缘层中;通孔,其安置于绝缘层和第二触点的第二部分上;以及金属线,其安置于通孔上。
搜索关键词: 半导体 装置 以及 制造 方法
【主权项】:
一种半导体装置,其特征在于,包括:导体,其安置于衬底上;第一触点,其安置于所述导体上;第二触点,其具有安置于所述第一触点上的第一部分以及在平行于所述衬底的方向上远离所述第一部分伸出的第二部分,其中所述第一触点和所述第二触点安置于绝缘层中;通孔,其安置于所述绝缘层和所述第二触点的所述第二部分上;以及金属线,其安置于所述通孔上。
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