[发明专利]半导体元件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210217467.2 申请日: 2012-06-28
公开(公告)号: CN103137601A 公开(公告)日: 2013-06-05
发明(设计)人: 许芝菁;欧英德 申请(专利权)人: 日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: H01L23/528 分类号: H01L23/528;H01L21/768
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陆勍
地址: 中国台湾高雄市*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明关于一种半导体元件及其制造方法。该半导体元件包括一基板、一介电层、一金属层、一互连金属及一圆形绝缘层。该基板具有至少一通孔。该介电层邻近于该基板。该金属层邻近于该介电层。该互连金属位于该至少一通孔。一圆形绝缘层环绕该互连金属,其中该绝缘层具有一上表面,且该上表面接触该介电层。藉此,该金属层可经由该互连金属电性连接至该基板的另一表面。
搜索关键词: 半导体 元件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种半导体元件,包括一基板,其内具有至少一导电孔道,该至少一导电孔道包含一互连金属及一绝缘层,该绝缘层环绕该互连金属;一介电层,位于该基板的一第一表面,且覆盖该绝缘层的一上表面的至少一部份;及一金属层,邻近于该介电层,且电性连接至该互连金属。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日月光半导体制造股份有限公司,未经日月光半导体制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210217467.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top