[发明专利]半导体封装件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201710541530.0 申请日: 2013-09-02
公开(公告)号: CN107195602A 公开(公告)日: 2017-09-22
发明(设计)人: 郑斌宏 申请(专利权)人: 日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31;H01L23/13;H01L21/56
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司31100 代理人: 骆希聪
地址: 中国台湾高雄市*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 封装 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种半导体封装件,其特征在于,包括:

一基板,具有多个分割道,该多个分割道贯穿该基板;

一芯片,设于该基板上;以及

一底胶,形成于该芯片与该基板之间;

其中,该基板具有一重布线路层;该多个分割道横向地经过该重布线路层,但未分割该重布线路层。

2.如权利要求1所述的半导体封装件,其特征在于,该基板具有数个导电孔,该芯片透过该重布线路层电性连接该些导电孔。

3.如权利要求1所述的半导体封装件,其特征在于,该些个分割道使该基板形成数个彼此分离的子基板,且该重布线路层连接相邻的该些子基板。

4.如权利要求1所述的半导体封装件,其特征在于,该基板包括:

一基材,具有一上表面及一下表面;

一第一介电层,形成于该基材的该下表面,并露出该基板的一导电孔;

一重布线路层,形成于露出的该导电孔;以及

一第二介电层,形成于该重布线路层上并露出的该重布线路层的一部分。

5.如权利要求4所述的半导体封装件,其特征在于,该基板更包括:

一第一介电层,形成于该基材的该上表面,并露出该基板的该导电孔;

一重布线路层,形成于露出的该导电孔;以及

一第二介电层,形成于该重布线路层上并露出的该重布线路层的一部分。

6.如权利要求1所述的半导体封装件,其特征在于,该底胶部分形成于该多个分割道。

7.一种半导体封装件的制造方法,其特征在于,包括:

设置一基板于一载板上;

形成多个分割道贯穿该基板;

设置一芯片于该基板上;

形成一底胶于该芯片与该基板之间;以及

移除该载板;

其中,该基板具有一重布线路层;且该多个分割道横向地经过该重布线路层,但未分割该重布线路层。

8.如权利要求7所述的制造方法,其特征在于,该底胶部分形成于该多个分割道。

9.如权利要求7所述的制造方法,其特征在于,于设置该基板于该载板的步骤中,该基板具有数个导电孔;于形成该多个分割道的步骤中,该多个分割道横向地绕过该些导电孔;于设置该芯片于该基板的步骤中,该芯片电性连接该些导电孔。

10.如权利要求7所述的制造方法,其特征在于,一第一介电层形成于该基板的一表面,并露出该基板的一导电孔;

该重布线路层形成于露出的该导电孔;以及

一第二介电层形成于该重布线路层上并露出的该重布线路层的一部分。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日月光半导体制造股份有限公司,未经日月光半导体制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710541530.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top