专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]混合波导及其制备方法-CN202211265859.6在审
  • 张永;冯成龙;徐子涵;沈健;苏翼凯 - 上海交通大学
  • 2022-10-17 - 2022-12-30 - G02B6/122
  • 一种混合波导及其制备方法,该混合波导由上而下依次包括:非晶层、用于防止沉积非晶时出现黑点杂质影响波导传输效果的薄膜氧化硅层、用于传输TE模的层、氧化硅掩埋层和衬底,其中:非晶层、薄膜氧化硅层和层沉积形成层次结构,作为波导结构中用于光传播的结构层。本发明在LTO晶圆上通过沉积和刻蚀技术实现异质集成的混合波导结构,光场会在传播过程中泄露到所述的波导的层中,从而实现光的层局域化,通过上述过程可以将这一具有优良特性的材料引入集成光波导中,实现对传统光波导的突破。
  • 硅基钽酸锂混合波导及其制备方法
  • [发明专利]单晶薄膜键合体及其制造方法-CN201510891747.5在审
  • 胡文 - 济南晶正电子科技有限公司
  • 2015-12-04 - 2016-03-23 - C23C14/22
  • 本发明提供了一种单晶薄膜键合体和一种制造单晶薄膜键合体的方法,所述单晶薄膜键合体包括基底、铌单晶薄膜或单晶薄膜以及位于基底与铌单晶薄膜或单晶薄膜之间的薄膜,其中,薄膜通过沉积形成在铌单晶薄膜或单晶薄膜上,并通过直接键合法与基底进行键合,薄膜为薄膜、二氧化硅薄膜或氮化硅薄膜。本发明的三层结构的单晶薄膜键合体能够有效地降低甚至消除在或铌单晶薄膜和基板之间的界面对光波和声波的反射作用,并且降低或消除了界面间的反射作用对于光或声波信号所造成的干扰。
  • 薄膜合体及其制造方法
  • [发明专利]一种压电单晶薄膜衬底的制备方法-CN202010645103.9有效
  • 欧欣;鄢有泉 - 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
  • 2020-07-07 - 2021-10-19 - H01L41/253
  • 本发明涉及材料制备技术领域,特别涉及一种压电单晶薄膜衬底的制备方法,包括:获取单晶晶圆片;在所述单晶晶圆片的表面制作热膨胀抑制层,对所述热膨胀抑制层和所述单晶晶圆片进行离子注入得到第一衬底结构,在所述单晶晶圆片内形成离子注入损伤层;本申请实施例所述的压电单晶薄膜衬底的制备方法,在对单晶晶圆片离子注入前先在其表面制作一层热膨胀抑制层,热膨胀抑制层在离子注入的过程中能够抑制的各向异性热膨胀形变,减小的弯曲幅度,提高离子注入的深度均匀性,并最终提高剥离的单晶薄膜的厚度均匀性。
  • 一种硅基钽酸锂压电薄膜衬底制备方法
  • [发明专利]颗粒的氧化铝陶瓷复合材料及其制备方法-CN200810063853.4无效
  • 张有凤;刘艳玫;贾德昌;周玉 - 哈尔滨工业大学
  • 2008-01-14 - 2008-07-16 - C04B35/10
  • 颗粒的氧化铝陶瓷复合材料及其制备方法,它涉及一种氧化铝陶瓷复合材料及其制备方法。它解决了现有技术中生产氧化铝陶瓷复合材料的烧结温度高、抗弯强度低和断裂韧性较低的问题。本发明含颗粒的氧化铝陶瓷复合材料是按体积百分比将5%~30%粉末和70%~95%氧化铝粉末混合制备而成。制备步骤:将粉末和氧化铝粉末湿混、球磨后烘干,得混合均匀的与氧化铝粉末,再放入模具中,经烧结得含颗粒的氧化铝陶瓷复合材料。本发明所得含颗粒的氧化铝陶瓷复合材料致密度达99~99.99%,具有所需烧结温度低、抗弯强度高达445.9~492.9MPa、断裂韧性达4.8~5.37MPa·m1/2
  • 含钽酸锂颗粒氧化铝陶瓷复合材料及其制备方法
  • [发明专利]一种改善铌薄膜晶圆稳定性的工艺方法-CN202210798473.5在审
  • 侯松岩 - 侯松岩
  • 2022-07-08 - 2022-09-30 - C30B29/30
  • 本发明提出一种的工艺制备过程,用来制作耐高温的单晶薄膜铌晶圆。在进行离子注入之后,在晶片和衬底旋涂氢倍半氧烷聚合物光刻胶,然后在进行晶圆键合,通过调整热退火的温度、时间以及气体,使晶片内部形成损伤层膨胀,进而将薄膜剥离,同时将氢倍半氧烷聚合物光刻胶变性成为致密的二氧化硅薄膜,之后对单晶铌晶圆另一面进行抛光打磨,得到耐高温的铌薄膜。利用此工艺制备的铌薄膜晶圆的耐高温性能将会大大提高,极大拓展了铌或者薄膜材料在微纳器件领域的应用。
  • 一种改善铌酸锂薄膜稳定性工艺方法
  • [发明专利]一种晶体的制备方法-CN201410312827.6有效
  • 王彪;朱允中;马德才 - 中山大学
  • 2014-09-01 - 2014-11-26 - C01G35/00
  • 本发明首先提供一种脲素在制备晶体中的应用。另外再公开一种晶体的制备方法。本发明利用脲素在低温分解(约120℃),使得碳酸和五氧化二在液态的脲素中进一步混合,在温度继续升高的时候,脲素分解释放大量热,可瞬时达到1200℃,为料反应提供能量。脲素不断分解同时释放大量小分子,如NH3,H2O,CO2,NOX,小分子渗透进入五氧化二和碳酸中,可大幅降低生成的反应温度本发明通过脲素大幅降低的反应温度,减少的反应时间,既缩短了周期,又降低了反应温度,使得的合成取得了重大的进步。
  • 一种钽酸锂晶体制备方法

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