专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体晶圆的清洗方法-CN202180028415.8在审
  • 五十岚健作 - 信越半导体株式会社
  • 2021-02-18 - 2022-11-25 - H01L21/304
  • 本发明是一种半导体晶圆的清洗方法,其清洗研磨后的半导体晶圆,进行利用臭氧水清洗所述研磨后的半导体晶圆而形成氧化膜的第一臭氧水处理工序,在该第一臭氧水处理工序后,进行利用碳酸水对所述半导体晶圆进行刷清洗的刷清洗工序,之后,进行1次以上的第二臭氧水处理工序,在所述第二臭氧水处理工序中,利用氢氟酸清洗所述半导体晶圆而去除所述氧化膜后,利用臭氧水进行清洗而再次形成氧化膜。由此,提供一种半导体晶圆的清洗方法,其能够达成与SC1同等的清洗水平,并且能够减少或防止如使用了SC1的情况那样在晶圆面上产生缺陷或表面粗糙度的恶化,而能够进一步削减成本、降低环境负荷。
  • 半导体清洗方法
  • [发明专利]基板处理装置和基板处理装置的清洗方法-CN201980073310.7在审
  • 竹林舟成 - 东京毅力科创株式会社
  • 2019-11-11 - 2021-06-18 - H01L21/304
  • 基板处理装置的控制部执行以下工序清洗工序,在将从由基板保持部保持的基板(清洗用基板)的上表面起至盖构件的下表面为止的上下方向距离设为第一距离的状态下,一边通过旋转驱动部使基板旋转,一边从清洗液供给部向基板的上表面供给清洗液,由此通过充满基板的上表面与盖构件的下表面之间的空间的清洗液来至少清洗盖构件的下表面;以及干燥工序,在清洗工序之后,在将所述上下方向距离设为比第一距离大的第二距离的状态下,停止从清洗液供给部供给清洗液,
  • 处理装置清洗方法
  • [发明专利]气化器的清洗方法及气化装置-CN202080017984.8在审
  • 大谷浩辉;川崎光广;浅井稔之 - 古河电气工业株式会社
  • 2020-02-27 - 2021-11-02 - C03B8/04
  • 本发明的目的在于,提供一种即使产生原料的聚合物也能够简易除去的气化器的清洗方法及气化装置。气化器的清洗方法,使在常温常压下呈液体状的原料在气化器进行气化,使该气化后的原料在供给管路中向反应部供给,其中,所述气化器的清洗方法包括清洗工序,在该清洗工序中,使所述原料一边维持为液体状,一边在所述气化器流动而清洗所述气化器也可以为,所述气化器的清洗方法还包含将所述原料与载气混合而生成混合流体的混合工序,在所述清洗工序中,一边使所述混合流体的所述原料维持为液体状,一边使所述混合流体在所述气化器流动而清洗所述气化器。
  • 气化清洗方法装置
  • [发明专利]冲水大便器-CN201910922686.2有效
  • 三宅翼;山崎洋式;末永光宏;吉冈隆;桧皮康一郎 - TOTO株式会社
  • 2019-09-27 - 2021-12-07 - E03D11/02
  • 本发明为能够使装置整体小型化的冲水大便器,具有:便器本体(2);供水路(26),可将清洗水从贮水箱(18)供给到内缘吐水口(8a)及喷射吐水口(10a);切换部(22),对供水路径进行切换,以便执行将供水路内的清洗水从内缘吐水口吐出的第1清洗工序,其后执行将供水路内的清洗水至少从喷射吐水口吐出的第2清洗工序;及加压泵(20),将清洗水从贮水箱供给到供水路,切换部具备承接被加压泵加压的清洗水的水压而机械性进行动作的切换阀体(34),该切换阀体根据由加压泵产生的水压来切换到可执行第1清洗工序或第2清洗工序的供水路径。
  • 冲水大便
  • [发明专利]自动分析装置-CN201580004859.2有效
  • 斋藤佳明;折桥敏秀;中村和弘 - 株式会社日立高新技术
  • 2015-01-16 - 2017-08-25 - G01N35/02
  • 以下述方式进行控制在未向反应盘(105)所搭载的全部的反应容器(104)分注试样的状态下输入分析开始的指示后,在清洗用于最先被分析的试样的分析的反应容器(104)的分析准备清洗工序结束前,开始浸渍清洗工序,该浸渍清洗工序向与该反应容器(104)不同的反应容器(104)分注浸渍清洗用洗涤剂,并进行预定时间的浸渍清洗。由此,能不妨碍分析处理而有效地进行反应容器的浸渍清洗
  • 自动分析装置
  • [发明专利]HDD用玻璃基板的制造方法以及清洗支架-CN201280041947.6有效
  • 岛津典子;福本直之 - HOYA株式会社
  • 2012-06-27 - 2017-06-27 - G11B5/84
  • 本发明提供一种HDD用玻璃基板的制造方法,在清洗工序中,保持着玻璃基板稳定地支撑于清洗支架的状态增大清洗槽内的清洗液的置换率。HDD用玻璃基板的制造方法包括清洗工序,将玻璃基板收容于清洗支架(20),并将清洗支架(20)放入清洗槽,使清洗液在清洗槽内流动,以便清洗玻璃基板,其中,在清洗工序中,利用具有在收容于清洗支架(20)的玻璃基板的侧方相对置的一对侧壁(24)的清洗支架(20),在清洗支架(20)的侧壁(24)形成有开口,清洗液在清洗槽内沿着通过清洗支架(20)的侧壁(24)的方向流动,使通过清洗槽的清洗液的流量为20~70L/分钟。
  • hdd玻璃制造方法记录介质以及使用清洗支架
  • [发明专利]一种自动化瓶子清洗工艺-CN202110001683.2在审
  • 陈小娟 - 陈小娟
  • 2021-01-04 - 2021-05-25 - B08B9/30
  • 本发明涉及一种自动化瓶子清洗工艺,包括传输工序,瓶子在传输带的带动下向后传输;上料工序,瓶子转移至夹持组件上;瓶子转移工序,瓶子向水池传输;洗涤机构传输工序,洗涤机构向水池传输;推送工序,侧推组件将洗涤机构推送进对应的瓶子内;灌水工序,进入瓶子内的洗涤机构进入水池后,通过进水口向洗涤机构内部灌水;喷水工序,喷水组件向瓶子内壁喷洒;洗刷工序,洗刷组件对瓶子进行洗刷;摆动去污工序,摆动组件将水池中的瓶子进行摆动去污,本发明解决了现有清洗瓶子过程中效率低、连续性差、人工成本消耗大以及清洗步骤繁琐等问题。
  • 一种自动化瓶子清洗工艺

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