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[发明专利]抛光处理装置、基板处理装置及抛光处理方法-CN201510651437.6有效
发明人：山口都章;小畠严贵;水野稔夫 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2015-10-10 - 公布日： 2019-05-28 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明涉及抛光处理装置、基板处理装置及抛光处理方法，抑制基板的损伤并且进行研磨。或者高效率地清洗去除粘性较大的异物等。用于对基板进行抛光处理的抛光处理装置具备：抛光台，所述抛光台是用于支承基板的抛光台，并构成为能够旋转；及抛光头，所述抛光头能够安装用于对基板进行抛光处理的抛光垫。抛光头构成为能够旋转，并且构成为能够向接近抛光台的方向及远离抛光台的方向移动。用于向基板供给抛光处理用的处理液的内部供给线路形成于抛光头的内部。抛光处理装置还具备除所述内部供给线路以外另外设置的外部喷嘴，该外部喷嘴用于向基板供给处理液。
抛光处理抛光台抛光处理装置抛光头基板处理装置供给线路喷嘴对基板基板供给处理液方向移动基板供给支承基板研磨处理液高效率抛光垫抑制基外部异物去除清洗损伤

[发明专利]抛光处理组件、基板处理装置及抛光垫清洗方法-CN201510532601.1有效
发明人：山口都章;小畠严贵;水野稔夫;宫崎充;丰村直树;井上拓也 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2015-08-26 - 公布日： 2019-08-06 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明提供抛光处理组件、基板处理装置及抛光垫清洗方法。抛光处理组件具有：抛光台，该抛光台用于设置处理对象物；抛光头，该抛光头用于保持抛光垫，该抛光垫用于对所述处理对象物进行规定的处理；抛光臂，该抛光臂对所述抛光头进行支承并摆动；修整件，该修整件用于对所述抛光垫进行修整；以及清洗机构，该清洗机构配置在所述抛光台与所述修整件之间，用于对所述抛光垫进行清洗。
抛光处理组件装置清洗方法

[发明专利]修正部、抛光处理组件、基板处理装置及修整冲洗方法-CN201910539068.X有效
发明人：山口都章;小畠严贵;水野稔夫;宫崎充;丰村直树;井上拓也 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2015-08-26 - 公布日： 2021-10-08 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本发明提供抛光处理组件、基板处理装置及抛光垫清洗方法。抛光处理组件具有：抛光台，该抛光台用于设置处理对象物；抛光头，该抛光头用于保持抛光垫，该抛光垫用于对所述处理对象物进行规定的处理；抛光臂，该抛光臂对所述抛光头进行支承并摆动；修整件，该修整件用于对所述抛光垫进行修整；以及清洗机构，该清洗机构配置在所述抛光台与所述修整件之间，用于对所述抛光垫进行清洗。
修正抛光处理组件装置修整冲洗方法

[实用新型]一种液压油缸表面处理用抛光机-CN202320092196.6有效
发明人：赵海涛 -专利权人：鼎业智能科技（江苏）有限公司
申请日： 2023-01-31 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： B24B9/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种液压油缸表面处理用抛光机，涉及液压油缸表面处理技术领域，包括液压油缸表面处理抛光机主体，所述液压油缸表面处理抛光机主体包括有抛光处理台，所述抛光处理台的上表面设置有分段抛光处理机构，所述分段抛光处理机构的右侧设置有液压油缸固定机构；所述分段抛光处理机构包括有移动抛光单元和驱动移动单元，所述驱动移动单元设置在抛光处理台的上表面的左侧。本实用新型通过电机一驱动螺纹杆转动使抛光组件安装移动架在抛光处理台滑槽的限位配合进行移动，抛光组件安装移动架底部的滑轮与抛光处理台上表面的导轨配合使抛光组件可以前进后退便于抛光轮对液压油缸内表面一点点分段抛光，提高抛光的质量。
一种液压油表面处理抛光机

[发明专利]一种大米抛光残渣处理去尘装置-CN201811097663.4有效
发明人：徐祖辉 -专利权人：湖北昌丰粮机有限公司
申请日： 2018-09-20 - 公布日： 2020-12-22 - 主分类号： B02B5/02 文献下载
摘要：本发明提供的一种大米抛光残渣处理去尘装置，包括大米抛光机、抛光残渣处理去尘机、二次去尘处理机、废尘残渣处理室、调风板组、操作控制台，工作人员通过操作控制台开启大米抛光机，抛光残渣处理去尘机将抛光过程中产生的抛光粉排入到抛光粉沉降处理仓一种进行沉降，管道中的废尘与部分抛光粉经过二次去尘机进行二次去尘处理，将内部废尘进入废尘残渣处理室进行处理，部分抛光粉经过处理进入抛光粉沉降处理仓二中进行沉降，通过调风板组调节连接管道内部风量，保证整体风量平衡，使得抛光残渣处理去尘机与二次去尘处理机将抛光粉和废尘进行最大化处理，提高大米抛光质量，减少废尘残渣对室外空气污染。
一种大米抛光残渣处理装置

[发明专利]铝材的电解抛光处理方法-CN201711320047.6在审
发明人：关雄辅;海老原健 -专利权人：日本轻金属株式会社
申请日： 2014-10-31 - 公布日： 2018-05-22 - 主分类号： C25F3/20 文献下载
摘要：本发明提供能够在工业上容易地制造具有光泽和均匀且优良的外观的铝材的铝材的电解抛光处理方法。该方法是在电解处理槽内的电解处理液中浸渍铝材、将铝材作为阳极而施加电解电压来对铝材的表面进行电解抛光处理的电解抛光方法，它是包含以下步骤的铝材的电解抛光处理方法：实施阳极氧化处理作为电解抛光处理的预处理；在电解抛光处理时实施气泡扩散防止处理；以及实施电解抛光皮膜的皮膜剥离处理作为电解抛光处理的后处理。
电解抛光处理方法

[发明专利]铝材的电解抛光处理方法-CN201480069286.7在审
发明人：关雄辅;海老原健 -专利权人：日本轻金属株式会社
申请日： 2014-10-31 - 公布日： 2016-08-03 - 主分类号： C25F3/20 文献下载
摘要：本发明提供能够在工业上容易地制造具有光泽和均匀且优良的外观的铝材的铝材的电解抛光处理方法。该方法是在电解处理槽内的电解处理液中浸渍铝材、将铝材作为阳极而施加电解电压来对铝材的表面进行电解抛光处理的电解抛光方法，它是包含以下步骤的铝材的电解抛光处理方法：实施阳极氧化处理作为电解抛光处理的预处理；在电解抛光处理时实施气泡扩散防止处理；以及实施电解抛光皮膜的皮膜剥离处理作为电解抛光处理的后处理。
电解抛光处理方法

[实用新型]一种应用于线材在线酸洗设备中的线材抛光装置-CN201120298261.8有效
发明人：盛代华;吴明辉;王权;王洪;陶训龙;谢道金 -专利权人：芜湖楚江合金铜材有限公司
申请日： 2011-08-17 - 公布日： 2012-05-02 - 主分类号： B24B29/08 文献下载
摘要：本实用新型提供一种线材在线酸洗设备中的线材抛光装置，所述的线材抛光装置包括抛光装置安装支架(1)，抛光装置安装支架(1)上安装能够对线材(16)进行抛光处理的抛光处理装置(2)，所述的抛光处理装置(2)包括主动抛光轮(5)，与主动抛光轮(5)配合使用的被动抛光轮(6)，所述的抛光处理装置(2)与控制抛光处理装置(2)工作的驱动机构(3)连接，所述的驱动机构(3)与控制抛光处理装置(2)启停的电控装置(本实用新型的应用于线材在线酸洗设备中的线材抛光装置，能够对线材在生产过程中表面粗糙而不光滑表面进行彻底处理，并且本实用新型的装置适合各种铜合金线材。
一种应用于线材在线酸洗设备中的抛光装置

[发明专利]晶圆抛光方法-CN201911348422.7有效
发明人：李振华;刘会红 -专利权人：深圳佰维存储科技股份有限公司
申请日： 2019-12-24 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种晶圆抛光方法，对待处理晶圆进行第一次抛光处理；然后对第一次抛光处理后的抛光盘的抛光面进行打磨，使抛光面表面粗糙；用打磨后的抛光盘的抛光面对待处理晶圆进行第二次抛光处理。本发明通过对第一次抛光处理后的抛光盘进行打磨，使其表面具有一定的粗糙度，然后再用打磨后的抛光盘对待处理晶圆进行第二次抛光处理，使得在晶圆表面可形成微粗糙的磨痕，克服了现有技术中铜离子污染的技术问题，达到了保证原有的抛光功能
抛光方法

[发明专利]一种改善硅片R型轮廓的边缘抛光工艺-CN202111502766.6在审
发明人：路一辰;库黎明;王玥;陈海滨;陈信;刘云霞;闫志瑞 -专利权人：山东有研艾斯半导体材料有限公司
申请日： 2021-12-09 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种改善硅片R型轮廓的边缘抛光工艺，包括以下步骤：(1)对硅片进行寻参处理：使用边缘抛光机寻找硅片的V槽，使硅片的V槽与槽口抛光布对准；(2)对硅片的V槽进行抛光处理；(3)将完成V槽抛光的硅片进行对心处理，使硅片圆心与机台圆心对准；(4)将完成对心处理的硅片进行圆边边缘抛光处理，所使用的抛光鼓包括斜边抛光鼓和顶端抛光鼓，斜边抛光鼓加工角度范围为25°～70°，顶端抛光鼓加工角度为70°～90°。本发明通过改进圆边边缘抛光工艺，使用特殊构造的抛光鼓，并控制其中斜边抛光鼓与顶端抛光鼓的加工角度范围，使硅片整个边缘均匀抛光，避免固定角度的抛光鼓对边缘造成的局部过度抛光或失效抛光。
一种改善硅片轮廓边缘抛光工艺

[发明专利]一种新能源汽车钢制轮毂表面抛光处理方法-CN202010924772.X在审
发明人：刘先平 -专利权人：刘先平
申请日： 2020-09-05 - 公布日： 2020-11-24 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种新能源汽车钢制轮毂表面抛光处理方法，该新能源汽车钢制轮毂表面抛光处理方法采用如下钢制轮毂表面抛光处理装置，该钢制轮毂表面抛光处理装置包括底座、固定装置和抛光装置；底座的上端安装有固定装置，底座的上端面左侧安装有抛光装置。本发明通过抛光装置与内撑机构可根据轮毂的直径大小进行相应的调节，从而能对直径大小不同的轮毂进行固定以及抛光处理，从而节省了成本；通过磨动块下端设置有气囊，通过带动抛光砂片进行抛光处理，由于气囊具有变化性，可对多种不通形状的轮毂端面进行抛光，从而节省了成本，且能对不易抛光的边角和棱角处进行抛光。
一种新能源汽车钢制轮毂表面抛光处理方法

[发明专利]半导体晶片的生产方法和处理方法-CN201010143294.5有效
发明人： G·皮奇 -专利权人：硅电子股份公司
申请日： 2010-03-17 - 公布日： 2010-12-22 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明涉及处理半导体晶片的方法，其包括抛光处理A和抛光处理B；抛光处理A对半导体表面的两侧同时进行材料去除处理，其中使用不含具有研磨作用的物质的抛光衬垫，并加入含有具有研磨作用的物质的抛光剂；抛光处理B对半导体晶片的一侧或两侧进行材料去除处理，其中使用具有微结构表面且不含与半导体晶片接触并比半导体材料更硬的材料的抛光衬垫，并加入pH值大于或等于10且不含具有研磨作用的物质的抛光剂。本发明还涉及生产半导体晶片的方法，其包括下列顺序的步骤：(a)将半导体单晶分成晶片；(b)借助于除碎屑处理同时处理半导体晶片的两侧；(c)抛光半导体晶片，其包括抛光处理A和抛光处理B；(d)化学机械抛光半导体晶片的一侧
半导体晶片生产方法处理

[发明专利]一种半导体材料晶片的抛光方法-CN202211359644.0在审
发明人：李伟;高苗苗 -专利权人：深圳市冠禹半导体有限公司
申请日： 2022-11-02 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明涉及抛光技术领域，且公开了一种半导体材料晶片的抛光方法，包括以下步骤：步骤1)处理包括调配、检测、过滤和加热等工序，步骤4)浸泡抛光，步骤5)喷洗抛光，步骤6)清洗和干燥，步骤7)抛光液的回收。该半导体材料晶片的抛光方法，通过在对半导体材料晶片抛光处理前对抛光液进行处理和检测，包括过滤和加热，使得抛光液保持在较好的状态，在对半导体材料晶片进行抛光打磨，从而提高半导体材料晶片的打磨效果和状态，然后经过两侧的抛光呈现出较好的抛光效果，其次在抛光对半导体材料晶片进行干燥处理以及对抛光液的回收处理，都提高了半导体材料晶片的抛光效果和质量以及方便程度。
一种半导体材料晶片抛光方法

[发明专利]一种铜材抛光预处理液、其制备方法及使用方法-CN202010067499.3在审
发明人：刘锋;刘子林 -专利权人：东莞市美贝仕铜材处理剂开发有限公司
申请日： 2020-01-20 - 公布日： 2020-05-12 - 主分类号： C23G1/10 文献下载
摘要：本发明涉及铜材抛光技术领域，具体涉及一种铜材抛光预处理液、其制备方法及使用方法。该铜材抛光预处理液包含Fe3+和Cl‑，所述Fe3+和Cl‑的摩尔比为0.4‑1.8：1.5‑7.4，所述铜材抛光预处理液的pH值≤3。使用该铜材抛光预处理液对待处理的铜材进行抛光预处理，迅速氧化铜材表面大部分的氧化层，从而提高后续酸洗抛光液的抛光速度和处理效率，且提高后续酸洗抛光液处理后的铜材光亮度。
一种抛光预处理制备方法使用方法

[发明专利]研磨装置及处理方法-CN201510640665.3有效
发明人：山口都章;水野稔夫;小畠严贵;宫崎充;丰村直树;井上拓也 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2015-09-30 - 公布日： 2020-11-06 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨装置及处理方法，抛光处理装置及方法，能够使处理对象物的处理速度提高且使处理对象物的面内均一性提高。抛光处理构件(350)具备：头，安装有用于通过与晶片(W)接触并进行相对运动从而对晶片(W)进行规定的处理的抛光垫；以及抛光臂(600‑1、600‑2)，用于对头进行保持。头包含：安装有比晶片(W)直径小的第1抛光垫(502‑1)的第1抛光头(500‑1)；以及安装有比第1抛光垫(502‑1)直径小的第2抛光垫(502‑2)的与第1抛光头(500‑1)不同的第2抛光头(500
研磨装置处理方法

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