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[发明专利]外延晶圆的清洗方法-CN202180067367.3在审
发明人：田中纪通;桝村寿;中田哲平;深津佑平 -专利权人：信越半导体株式会社
申请日： 2021-09-13 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明是一种外延晶圆的清洗方法，用于清洗正面形成有外延膜的晶圆，包括：第1清洗工序，对所述晶圆的正面、背面及端面的所有面供给含有O3的清洗液而进行旋转清洗；第2清洗工序，在所述第1清洗工序之后，对所述晶圆的背面及端面供给清洗液，通过辊型刷进行清洗；第3清洗工序，在所述第2清洗工序之后，对所述晶圆的正面供给含有O3的清洗液而进行旋转清洗；以及第4清洗工序，在所述第3清洗工序之后，对所述晶圆的正面供给含有HF的清洗液而进行旋转清洗。由此，提供一种外延晶圆的清洗方法，其在形成外延膜后进行，且用于在半导体器件制造程序中制造从晶圆的背面及边缘部的微粒附着为最小限度的外延晶圆。
外延清洗方法

[发明专利]用于特大型发电机的无取向硅钢生产方法及其绝缘涂料-CN201910551775.0在审
发明人：刘金学;沈科金;高煜;陈晓;肖盼;尤佳勇 -专利权人：宝山钢铁股份有限公司
申请日： 2019-06-25 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： C23G3/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于特大型发电机的无取向硅钢生产方法，包括带钢清洗工艺，还包括依次设于所述带钢清洗工艺后道的带钢清洗促进工艺和带钢涂层工艺；所述带钢清洗工艺，包括开卷工序、清洗工序、烘干工序和高温退火工序；所述带钢清洗促进工艺，包括二次清洗工序和二次烘干工序；所述带钢涂层工艺，包括涂层涂覆工序和烘烤干燥工序。
用于特大型发电机取向硅钢生产方法及其绝缘涂料

[实用新型]刃具工件清洗工序使用的清洗盘-CN201120384517.7有效
发明人：侯国庆;陈勇;樊华;侯霄寒;陈栋华 -专利权人：成都航威精密刃具有限公司
申请日： 2011-10-11 - 公布日： 2012-06-20 - 主分类号： B08B1/00 文献下载
摘要：本实用新型公布了刃具工件清洗工序使用的清洗盘，包括盛放盒，盛放盒具有底面和连接在底面上的4个等高侧面，在盛放盒的底面上设置有多个高度小于盛放盒侧面高度的存放架，存放架与盛放盒的两个侧面、以及存放架之间相互平行本实用新型凹槽之间的存放架为光滑的弧面，工件的转动翻转更加容易，利用毛刷蘸油对工件进行清洗，工件上多余的油落入存放架之间的盛放盒底面，并通过漏流孔落入集油容器中，工件表面的油量少，利于后续的包装，同时避免了油脂的浪费和时间的浪费
刃具工件清洗工序使用

[发明专利]信息记录介质用玻璃基板的制造方法-CN201280062443.2有效
发明人：岛津典子 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2012-12-19 - 公布日： 2014-11-19 - 主分类号： G11B5/84 文献下载
摘要：玻璃基板的制造方法具有进行玻璃基板的研磨的工序、和在进行了玻璃基板的研磨后进行玻璃基板的清洗的工序。进行玻璃基板的清洗的工序包含如下工序：在槽内表面是由不锈钢或树脂构成的多个第1槽中，分别进行玻璃基板的清洗；以及，在槽内表面是由石英构成的第2槽中进行玻璃基板的清洗。在多个第1槽中分别进行玻璃基板的清洗的工序包含至少1次超声波清洗。在多个第1槽中分别进行玻璃基板的清洗的工序完成之后，进行在第2槽中清洗玻璃基板的工序。
信息记录介质玻璃制造方法

[发明专利]基板清洗方法、基板清洗装置和存储介质-CN200980127593.5有效
发明人：田村明威;柿本明修;土桥和也 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2009-07-27 - 公布日： 2011-06-15 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种清洗方法，其根据清洗液将表面形成有图案的基板清洗的清洗，在去除清洗液或干燥时，能够抑制图案凸部的倒塌并将该基板清洗。清洗方法包括：将基板装载到装载台的工序、加热基板的工序和向所述基板的表面供给清洗液的工序。在供给清洗液的工序中，发生莱顿弗罗斯特现象，在向基板供给的清洗液的液滴和基板之间存在所述清洗液的蒸汽，在加热基板的工序中基板被加热。
清洗方法装置存储介质

[发明专利]彩色滤色用玻璃片-CN201510817989.X在审
发明人：伊崎靖浩;三石刚大;松叶康 -专利权人：安瀚视特韩国有限公司;安瀚视特控股株式会社
申请日： 2013-08-01 - 公布日： 2016-04-13 - 主分类号： C03C17/32 文献下载
摘要：本发明的在表面上形成黑色基质树脂的彩色滤色用玻璃片的制造方法具备清洗玻璃片表面来去除附着在表面的异物的玻璃片清洗工序。玻璃片清洗工序具有第1清洗工序和第2清洗工序。在第1清洗工序中，采用已添加界面活化剂的无机碱系列的清洗剂来清洗表面。在第2清洗工序中，采用四甲基氢氧化铵来清洗表面。
彩色滤色用玻璃片

[发明专利]一种低漏电二极管芯片制作方法-CN201010269751.5无效
发明人：陶小鸥;杨秋华 -专利权人：南通康比电子有限公司
申请日： 2010-09-02 - 公布日： 2012-03-21 - 主分类号： H01L21/329 文献下载
摘要：本发明公开了一种低漏电二极管芯片制作方法，主要由以下步骤构成：原硅片清洗、排磷纸、扩磷、分片、单面喷砂、涂硼前清洗、涂硼、扩硼、双面喷砂、镀镍前清洗、一次镀镍、合金、二次镀镍；其特征在于：所述单面喷砂和涂硼前清洗工序之间增加预清洗工序；所述预清洗工序为两步超声清洗。本发明工艺在传统工艺上作改进，将单面喷砂和涂硼前清洗工序之间增加预清洗工序，增加该工序后硅片表面的杂质总量会少很多，再用后面同样清洗方法后，漏电会降低。
一种漏电二极管芯片制作方法

[发明专利]一种硅片清洗工艺-CN202211422506.2在审
发明人：南仲焘;李海龙;韩建威;王淇;王帅;谭永麟;孙晨光;王彦君 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2022-11-14 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： B08B3/04 文献下载
摘要：本发明提供一种硅片清洗工艺，设定清洗工序时间和甩干工序时间，依次进行上片、清洗、甩干和下片，进行硅片清洗；清洗工序时间为2200‑2500s，甩干工序时间为290‑310s。本发明的有益效果是整个硅片清洗过程中清洗机械手节拍动作与清洗工序中各个槽的清洗时间及甩干时间相适应，无上料等待时间，无空槽等待时间，无甩干待料时间，提高机台的产能和满载率。
一种硅片清洗工艺

[发明专利]磁分离清洗方法-CN201911097563.6在审
发明人：宋德键;薛蛟生;张靖 -专利权人：广州科方生物技术股份有限公司
申请日： 2019-11-08 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： G01N1/34 文献下载
摘要：本发明涉及医疗器械领域，具体涉及了一种磁分离清洗方法，进行第一注液工序后，在反应杯的其中一侧对待清洗物质进行第一外侧磁吸工序以迫使待清洗物质在清洗液中运动，使待清洗物质与清洗液充分接触，在第一吸液工序抽吸清洗液后，再进行第二注液工序，在反应杯的另一侧对待清洗物质进行第一内侧磁吸工序以迫使待清洗物质在清洗液中运动，进一步使待清洗物质与清洗液充分接触，再进行第二吸液工序以抽吸清洗液，该次分离清洗方法通过在反应杯的两侧对待清洗物质进行交替吸附，迫使待清洗物质在清洗液中来回运动，提升清洗效果，降低磁珠损失率。
分离清洗方法

[发明专利]一种电解液桶清洗方法-CN201711214711.9在审
发明人：张锦俊;钟永亮 -专利权人：大同新成新材料股份有限公司
申请日： 2017-11-28 - 公布日： 2019-06-04 - 主分类号： B08B9/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种电解液桶清洗方法，其为对已经使用且满足二次利用的电解液桶进行清洗的工艺流程，清洗工艺流程包括电解液桶桶内的清洗工序，电解液桶桶内的清洗工序包括：草酸液洗工序、脱脂液洗工序、去离子水洗工序、超声波清洗工序、高纯水洗工序。本发明采用多工序、自动控制清洗，操作安全，清洗效果好，提高生产效率，对深孔、细缝和工件隐蔽处亦可清洗干净；对工件表面无损伤，节省溶剂、热能、工作场地和人工。本发明相对于现有的清洗方法，整个过程布局合理、工作流畅、手工劳动强降低度、工作效率高、安全防护到位，设备成本低，并解决了维修保养困难的问题。
清洗电解液桶清洗工序水洗工序工艺流程超声波清洗工序草酸工作效率高安全防护操作安全二次利用工件表面工作场地过程布局清洗效果设备成本生产效率手工劳动维修保养多工序降低度脱脂液无损伤隐蔽处溶剂高纯深孔细缝液洗离子

[发明专利]含氟电解液的处理方法-CN201480029221.X有效
发明人：林浩志;平田浩一郎;鹤卷英范;藤泽龙太郎 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2014-06-25 - 公布日： 2017-07-28 - 主分类号： H01M10/54 文献下载
摘要：本发明的包含氟化合物及有机溶剂的电解液的处理方法具有清洗工序，用清洗溶剂清洗含有所述电解液的废旧电池来提取所述电解液；清洗后液体回收工序，回收在所述清洗工序中获得的清洗后液体；气化工序，在减压状态下使回收的所述清洗后液体中所含的挥发成分气化；氟化钙回收工序，使在所述气化工序中获得的气体中所含的氟成分与钙进行反应而成为氟化钙之后进行回收；及有机溶剂成分回收工序，回收在所述气化工序中获得的气体中所含的有机溶剂成分。
电解液处理方法

[发明专利]滚筒式洗衣机-CN201580009584.1有效
发明人：中间启人;菊川智之;仓挂敏之 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2015-06-10 - 公布日： 2018-01-30 - 主分类号： D06F33/02 文献下载
摘要：滚筒式洗衣机除了具有进行标准的清洗工序的标准程序以外，还具有发黑抑制程序，并具备检测水槽(2)内的洗涤水的污垢浓度的污垢浓度检测部(18)以及控制部(20)。清洗工序包括对旋转滚筒(3)进行旋转驱动来清洗衣物的搅拌工序。在发黑抑制程序的清洗工序中，控制部(20)执行第一次清洗动作，在该第一次清洗动作中，在以比标准程序的清洗工序中的规定的搅拌工序时间短的第一规定时间(T1)进行第一搅拌工序之后排出水槽(2)内的洗涤水。之后，执行追加清洗动作，在该追加清洗动作中，供给新的洗涤水，在以第二搅拌工序时间(T2)进行搅拌工序之后进行排水。利用污垢浓度检测部(18)检测第一搅拌工序中的洗涤水的污垢浓度，根据进行该检测所得到的污浊等级来决定追加清洗动作的次数。
滚筒洗衣机

[发明专利]反应管的清洗方法、半导体器件的制造方法及衬底处理装置-CN202110084725.3有效
发明人：森田慎也;中田彻;木村博至;濑川彻 -专利权人：信越石英株式会社;株式会社国际电气
申请日： 2021-01-21 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： B08B9/032 文献下载
摘要：本发明涉及反应管的清洗方法、半导体器件的制造方法及衬底处理装置。用含氟化合物的药液清洗也能抑制氟化合物残留在反应管内周面。该技术具有：将具有对反应管进行退火第1退火工序、用含第1浓度的氟化合物的液体对第1退火工序后的反应管的内周面进行清洗的第1清洗工序及用纯水冲洗第1清洗工序中使用的氟化合物进行的第1漂洗工序且将第1漂洗工序进行1次以上的循环作为1个循环并将其进行1次或多次；对反应管进行退火的第2退火工序；用含比第1浓度高的第2浓度的氟化合物的液体对第2退火工序后的反应管的内周面进行清洗的第2清洗工序；用纯水冲洗第2清洗工序中使用的氟化合物的第2漂洗工序，第2漂洗工序进行2次以上。
反应清洗方法半导体器件制造衬底处理装置

[发明专利]基板处理方法-CN201811638318.7有效
发明人：日野出大辉;藤井定 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-12-29 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理方法，能够降低基板污染的风险并在进行基板处理的过程中清洗相向部。该方法包括：基板液处理工序，在使相向部的下表面与基板的上表面相向且使它们以水平姿势旋转的状态下，对基板的上表面进行液处理；相向部清洗工序，在基板液处理工序的过程中执行该相向部清洗工序，清洗相向部。相向部清洗工序包括：冲洗液供给工序，向基板的上表面供给冲洗液；液膜形成工序，使基板以水平姿势旋转，来在基板的上表面形成在冲洗液供给工序中供给的冲洗液的液膜；清洗液供给工序，在通过液膜形成工序在基板的上表面形成有液膜的状态下，向相向部的下表面供给清洗液。液膜形成工序中的基板的转速小于基板液处理工序中的基板的转速。
处理方法

[发明专利]自动分析装置-CN202080083398.3在审
发明人：堀江阳介;野岛彰纮;越智学;高田英一郎;三宅由夏 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2020-10-12 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： G01N35/10 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供一种通过减少清洗探针的外侧时的使用水量的自动分析装置。因此，本发明是具备进行样品或者试剂的吸引喷出的探针、以及朝向所述探针的外侧喷出清洗水的清洗喷嘴的自动分析装置，其中，具有：第一喷出工序，在该第一喷出工序中，在所述探针的前端位于第一高度位置时，开始从所述清洗喷嘴喷出所述清洗水；以及第二喷出工序，在该第二喷出工序中，在所述探针的前端位于比所述第一高度位置靠上方的第二高度位置时，开始从所述清洗喷嘴喷出所述清洗水，在所述第一喷出工序与所述第二喷出工序之间设置有喷出停止工序，在该喷出停止工序中，停止来自所述清洗喷嘴的所述清洗水的喷出。
自动分析装置