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- [发明专利]一种胡萝卜清洗装置-CN202011034799.8有效
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许凤
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萧县威辰机电工程设备有限公司
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2020-09-27
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2021-11-02
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A23N12/02
- 本发明公开了一种胡萝卜清洗装置，包括第一清洗箱和第二清洗箱，所述第一清洗箱的内部设置有刷洗箱，靠近所述阻挡板第二清洗箱的内部设置有调节箱体，所述调节箱体的内部依次设置有调节室、第一清洗室和第二清洗室，所述第二清洗箱的内部底端安装有两组第一液压缸本发明所述的一种胡萝卜清洗装置，通过设置的刷洗箱、调节箱体和第一液压缸之间相互配合使用，可以将胡萝卜清洗的更加干净，通过设置的刷洗箱可以对胡萝卜进行第一步清洗工序，设置的第一清洗室可以对胡萝卜进行第二步清洗工序，设置的第二清洗室可以对胡萝卜的表面凹陷的部位进行深入刷洗，通过设置的以上三步清洗工序配合使用，可以将胡萝卜清洗的更加干净，效率较高。
- 一种胡萝卜清洗装置
- [发明专利]滚筒式洗衣机-CN201280031346.7有效
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堀部泰之;铃木将大
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松下电器产业株式会社
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2012-08-30
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2014-03-05
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D06F39/08
- 具备：水槽(2)，其用于蓄积清洗水；旋转槽(4)，其以能够旋转的方式配设在水槽(2)内并在前表面侧设置有开口部(5)；电动机(9)，其用于对旋转槽(4)进行驱动；循环水路(20)，其使水槽(2)内的清洗水向旋转槽(4)循环；泵(21)，其用于将水槽(2)内的清洗水送水到循环水路(20)；喷嘴水路(22)，其与循环水路(20)相连通，大致圆形地设置在旋转槽(4)的开口部(5)的周缘部(23)的外侧；多个喷嘴(26)，这些喷嘴设置于喷嘴水路(22)，以将通过泵(21)被送水的清洗水朝向旋转槽(4)的内部喷出；以及控制部(32)，其对电动机(9)和泵(21)进行驱动来进行清洗工序。清洗工序具有第一旋转工序和第二旋转工序，在该第一旋转工序中，以旋转槽(4)内的洗涤物不会贴附于旋转槽(4)的内周壁这种程度的速度进行旋转，在该第二旋转工序中，以旋转槽(4)内的洗涤物会贴附于旋转槽(4)控制部(32)在第二旋转工序中对泵(21)进行驱动，来对贴附于旋转槽(4)的内周壁的洗涤物供给清洗水。
- 滚筒洗衣机
- [发明专利]半导体基板的热氧化膜形成方法-CN202180032465.3在审
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大槻刚;阿部达夫
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信越半导体株式会社
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2021-03-08
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2022-12-16
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H01L21/316
- 本发明为一种半导体基板的热氧化膜形成方法，该方法具有下述工序：相关关系获取工序，其中，预先准备多个化学氧化膜的构成不同半导体基板，在相同的热氧化处理条件下形成热氧化膜，求出化学氧化膜的构成与热氧化膜的厚度的相关关系；基板清洗工序，其中，对半导体基板进行清洗；热氧化膜的厚度推定工序，其中，求出由基板清洗工序中的清洗形成于半导体基板的化学氧化膜的构成，根据相关关系，推定假设在相关关系获取工序中的热氧化处理条件下对半导体基板进行热氧化处理时的热氧化膜的厚度；热氧化处理条件确定工序，其中，以相关关系获取工序中的热氧化处理条件为基准，以使热氧化膜的厚度为规定厚度的方式确定热氧化处理条件；热氧化膜形成工序，其中，在热氧化处理条件确定工序中确定的热氧化处理条件下在半导体基板上形成热氧化膜
- 半导体氧化形成方法
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