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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]气相沉积-CN01815762.9有效
发明人： J·A·F·M·沙德范维斯特鲁姆;J·L·林登;J·F·M·维尔图伊斯 -专利权人：科鲁斯技术有限公司
申请日： 2001-07-17 - 公布日： 2003-11-26 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：根据本发明，在扼流的状态下通过气相沉积施加涂层。
沉积

[发明专利]气相沉积装置及气相沉积设备-CN202210758919.1在审
发明人：李志;宁艳华;王俊朝;李亚文;宁志升;李业涛;张五平;唐圭;唐太家;梁剑铭;高云峰 -专利权人：大族激光科技产业集团股份有限公司;深圳市大族光伏装备有限公司
申请日： 2022-06-30 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本申请适用于真空镀膜技术领域，提供一种气相沉积装置及气相沉积设备，该气相沉积装置包括安装座、基座、供气管、多个电极组件和多个射频电源，电极组件安装于安装座，任意两个电极组件之间绝缘设置；基座的顶部与电极组件的底部间隔且平行设置
沉积装置设备

[发明专利]气相沉积系统及气相沉积方法-CN201510043633.5有效
发明人：张慧娟;刘建宏 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2015-01-28 - 公布日： 2019-08-27 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明公开了一种气相沉积系统及气相沉积方法。气相沉积系统包括：容纳室；设置在所述容纳室内的用于承载基板的基台，所述基台将容纳室隔开形成可密闭的反应室；设置在所述反应室内的与基台相对设置的喷淋装置，其中，所述喷淋装置用于喷淋气相沉积用的工艺气体；设置在所述容纳室内且所述反应室外的风冷装置使用上述气相沉积系统的气相沉积方法。本发明的气相沉积系统及气相沉积方法，每个出风口的出风量可单独控制，使得基板的各个区域温度相对均匀，进而使得气相沉积形成的薄膜厚度更加均匀。
气相沉积气相沉积系统出风口基台单独控制风冷装置喷淋装置出风量容纳室室内冷风容纳沉积系统承载基板工艺气体相对设置反应室隔开基板密闭喷淋薄膜室外

[发明专利]气相沉积设备以及气相沉积方法-CN202010208273.0有效
发明人：张文强;史小平;兰云峰;秦海丰;纪红;赵雷超 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2020-03-23 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供一种气相沉积设备以及沉积方法，所述气相沉积设备包括：反应腔室、通过管路与所述反应腔室连接的臭氧发生器，所述臭氧发生器包括氧气输入端和臭氧输出端，所述臭氧发生器用于基于输入的氧气生成臭氧并将生成的臭氧输出至所述反应腔室通过本发明，提高了气相沉积工艺中氧气的使用效率，降低了工艺成本。
沉积设备以及方法

[实用新型]气相沉积炉及气相沉积系统-CN201921828411.4有效
发明人：刘鑫培;朱小刚;刘慧敏 -专利权人：苏州创瑞机电科技有限公司
申请日： 2019-10-29 - 公布日： 2020-07-31 - 主分类号： C23C16/513 文献下载
摘要：本实用新型揭示了气相沉积炉及气相沉积系统，其中气相沉积炉，包括罩体及盖板，它们均连接一轴，罩体的侧壁上设置有第一气道、第二气道及第一电极及第二电极，第一电极电连接架设于罩体内的导电工件放置架，第二电极电连接位于罩体内且与导电工件放置架位置对应的导电板
沉积系统

[实用新型]一种加热区温度防逸散的气相沉积车床-CN202121540154.1有效
发明人：池行强;朱建友;齐国在 -专利权人：武汉瀚宇品新材料有限公司
申请日： 2021-07-07 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： C03B37/018 文献下载
摘要：本实用新型提供一种加热区温度防逸散的气相沉积车床，涉及气相沉积设备技术领域，包括气相沉积外箱，气相沉积外箱的底部固定连接有第一支撑杆，气相沉积外箱的顶部一侧连接有合页，合页连接有外箱顶盖，气相沉积外箱的内部底面固定连接有第二支撑杆，采用设置气相沉积内箱与气相沉积外箱之间设置隔离层，减少了热量的散失，同时设置螺旋状的排气管，将反应后的带有温度的废气在气相沉积内箱与气相沉积外箱之间进行热量再利用，提高了气相沉积内箱与气相沉积外箱之间隔离层的温度，利用废气的温度对气相沉积内箱的温度进行维持，避免了外部温度对气相沉积内箱内部的影响，减少了加热装置的二次工作时间，同时降低了热量逸散造成的损耗。
一种加热温度防逸散沉积车床

[发明专利]化学气相沉积装置、化学气相沉积方法-CN201110319031.X有效
发明人：周鸣 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2011-10-19 - 公布日： 2013-04-24 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：一种化学气相沉积装置、化学气相沉积方法，所述化学气相沉积装置包括：腔体，设置有进气口，所述进气口用于通入反应气体；射频信号源，位于所述腔体外，用于提供激发等离子体的射频信号；上电极，位于所述腔体内，所述上电极设置有射频信号输入点所述化学气相沉积装置可以提高薄膜的均匀性。
化学沉积装置方法

[发明专利]一种气相沉积工艺的控制方法、装置、介质及电子设备-CN201811038782.2有效
发明人：杨正杰;吕翼君 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2018-09-06 - 公布日： 2021-07-27 - 主分类号： C23C16/52 文献下载
摘要：本发明实施例提供了一种气相沉积工艺的控制方法、装置、介质及电子设备，包括：当接收到气相沉积材料储量低的提示消息后，对使用气相沉积材料进行化学气相沉积工艺的次数进行计数，获得计数结果；将计数结果与预设的化学气相沉积工艺的最大次数进行对比，获得对比结果；基于对比结果实现控制气相沉积工艺。本发明实施例的技术方案能够检测化学气相沉积材料使用状况，在低材料液位警报后，对化学气相沉积工艺的次数进行计数，当到达设定最高次数后，控制停止化学气相沉积设备的使用，并发出通知对进行化学气相沉积材料进行更换，从而提高了化学气相沉积材料的使用率，节约了材料成本。
一种沉积工艺控制方法装置介质电子设备

[发明专利]能够在线检测气体分离膜性能的气相沉积设备及制膜方法-CN201910973262.9有效
发明人：王来军;徐庐飞;张平;陈崧哲 -专利权人：清华大学
申请日： 2019-10-14 - 公布日： 2020-09-22 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：能够在线检测气体分离膜性能的气相沉积设备及制膜方法，属于气相沉积和气体分离膜领域。气相沉积设备包括：包括进气系统、真空系统、气相沉积系统和在线检测系统，所述进气系统为双载气进气系统；进气系统与气相沉积系统连接，气相沉积系统与进气系统、真空系统和在线检测系统连接，真空系统与气相沉积系统和在线检测系统连接，在线检测系统与真空系统和气相沉积系统连接；制备气体分离膜时，两种载气携带沉积源进入气相沉积系统，通过气相沉积得到气体分离膜；在线检测气体分离膜性能时，通过气路切换，将双载气转换为气体分离膜的分离对象，
能够在线检测气体分离性能沉积设备方法

[发明专利]气相沉积材料源及其制造方法-CN201180072857.9有效
发明人： M.朗;M.格斯多夫;B.P.戈皮 -专利权人：艾克斯特朗欧洲公司
申请日： 2011-06-22 - 公布日： 2014-07-16 - 主分类号： C23C14/12 文献下载
摘要：一种用于气相沉积工艺中的气相沉积材料源和用于形成气相沉积材料源的方法，所述气相沉积材料源包括：传导性三维开孔式网状结构；以及通过气相沉积而气相沉积到传导性三维开孔式网状结构上的选定的气相沉积材料的固体涂层
沉积材料及其制造方法

[发明专利]一种气相沉积方法-CN201310302856.X在审
发明人：戴煜;胡祥龙 -专利权人：湖南顶立科技有限公司
申请日： 2013-07-18 - 公布日： 2013-10-09 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明公开了一种气相沉积方法，包括以下步骤：对参与沉积反应的原料进行加热，直至成为气相化学物质；将所述气相化学物质引进放置好待加工产品的沉积室内进行沉积反应；旋转所述沉积室内的所述待加工产品。从上述的技术方案可以看出，本发明实施例提供的气相沉积方法，在对沉积室内的待加工产品进行气相沉积时，通过令待加工产品在沉积室内进行转动，从而对沉积室内的气相进行一定程度的搅拌，令产品在沉积室内边转动边进行气相沉积，因此，有利于最终成品的沉积均匀性，保证产品质量的一致性。从而，采用上述气相沉积方法能够得到均匀材质的气相沉积成品，有效解决了目前大型碳-碳复合材料的化学沉积生产制造困难的难题。
一种沉积方法

[实用新型]一种化学气相沉积炉进气分布装置-CN202021357059.3有效
发明人：贺鹏博;周帆 -专利权人：湖南铠欣新材料科技有限公司
申请日： 2020-07-10 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型提供一种化学气相沉积炉进气分布装置。所述化学气相沉积炉进气分布装置包括：气相沉积炉进气分布设备本体；气相沉积炉体，所述气相沉积炉体包含在气相沉积炉进气分布设备本体内；排气孔，所述排气孔开设在气相沉积炉体的顶部；环形连接板，所述环形连接板固定安装在气相沉积炉体的顶部；导流管一，所述导流管一固定安装在环形连接板上；方形收纳箱，所述方形收纳箱设置在气相沉积炉体的一侧，所述方形收纳箱的顶部设有开口。本实用新型提供的化学气相沉积炉进气分布装置具有使用方便，能够简单有效的对排出的空气进行四级过滤，避免污染资源，操作起来简单便捷的优点。
一种化学沉积炉进气分布装置

[发明专利]一种化学气相沉积方法-CN201310308530.8无效
发明人：戴煜;胡祥龙;胡高健 -专利权人：湖南顶立科技有限公司
申请日： 2013-07-22 - 公布日： 2013-10-09 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学气相沉积方法，以化学气相沉积系统进行化学气相沉积，化学气相沉积系统包括：化学气相沉积室，化学气相沉积室内设有发热体、隔热屏和与化学气相沉积室连通，且分散安装的多个喷嘴系统；真空系统，真空系统具有与多个喷嘴系统连通的真空管路，真空管路上设有真空开关阀；化学沉积气路系统，化学沉积气路系统具有与多个喷嘴系统连通的充气管路，充气管路上设有充气开关阀。本发明使用的化学气相沉积系统，设置有多个分散安装的喷嘴系统，即各个喷嘴系统并非安装在同一位置。同时设置了多个分别与多个喷嘴系统连接的真空管路和充气管路，能够有效的实现化学气相沉积产品均匀沉积，从而得到均匀材质的化学气相沉积成品。
一种化学沉积方法

[发明专利]气相沉积设备和气相沉积方法-CN201711403693.9在审
发明人：胡冬冬 -专利权人：江苏鲁汶仪器有限公司
申请日： 2017-12-22 - 公布日： 2018-05-18 - 主分类号： C23C16/50 文献下载
摘要：本发明公开一种气相沉积设备和气相沉积方法，气相沉积设备包括：壳体，其设有向上开口的凹腔；载片台，其设置在凹腔的内部；封盖组件，其对凹腔进行封盖，并与凹腔形成真空腔室；匀气组件，其设置在所述真空腔室的内部，并位于载片台的上方，且朝向载片台导出气体；以及进气组件，其贯穿封盖组件，并包括清洗气路和脉冲气路，清洗气路与匀气组件相通，脉冲气路直接与凹腔相通。本发明的气相沉积设备可以使不同生长工艺的反应气流互不干涉，同时又共用一些相同的零部件，结合在单个反应腔室中，易于精确控制。该设计可以兼容等离子体增强型化学气相沉积系统、原子层沉积系统与等离子增强原子层沉积系统，三种系统可以同时或交替式进行镀膜反应。
沉积设备和气方法

[发明专利]气相沉积设备和气相沉积方法-CN202011232047.2在审
发明人：张春雷;罗兴安;胡淼龙;蒋志超;王林 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2020-11-06 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明提供了一种气相沉积设备和气相沉积方法。气相沉积设备包括基座、阻挡部件和气体导流通道。基座用于承载衬底。阻挡部件环绕所述基座设置，所述阻挡部件具有延伸到位于所述基座上的衬底边缘上方的阻挡边。所述气体导流通道，布置为沿着所述衬底的边缘延伸，以向所述衬底的边缘引入惰性气体，其中所述惰性气体的气流方向与用于沉积的反应气体的方向相对。
沉积设备和气方法

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