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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]一种便于清洁的气相沉积炉-CN202223544318.5有效
发明人：王保平;曹彬;潘永平;查长清 -专利权人：弘元能源科技(包头)有限公司
申请日： 2022-12-22 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种便于清洁的气相沉积炉，涉及气相沉积技术领域。本实用新型包括气相沉积炉主体、第一置物盒和第二置物盒，气相沉积炉主体内侧卡接有减速电机，气相沉积炉主体内侧一端卡接有第一置物盒，第一置物盒一端贯穿卡接有第一防尘网，第一置物盒内侧一端贴合有刮刀，气相沉积炉主体内侧相对于第一置物盒另一端卡接有第二置物盒，第二置物盒内侧插接有沉积板，第二置物盒一侧设置有沉积桶。本实用新型通过气相沉积炉主体、第一置物盒和第二置物盒，解决了现有的气相沉积炉的炉体虽能够进行分离清洗，但由于炉体体积较大，且清洗过程中需要对炉体和过滤结构分别进行清洗，清洗较为不便，由于固体的位置不同可能导致沉积厚度不均匀的问题
一种便于清洁沉积

[发明专利]一种可插入式气相团簇软沉积方法-CN201911273496.9有效
发明人：骆智训;黄奔奔;杨梦周 -专利权人：中国科学院化学研究所
申请日： 2019-12-12 - 公布日： 2021-04-06 - 主分类号： C23C16/30 文献下载
摘要：本发明涉及一种可插入式气相团簇软沉积装置和方法，包括：依次连接的软沉积腔和样品腔，以及与样品腔连通的真空模块和配气模块；软沉积腔内设质谱仪，质谱仪用于对气相团簇进行质谱分析；样品腔与软沉积腔通过设置在二者连接处的插板阀分割或连通，样品腔内设有能够往复运动的样品台，样品台上设有沉积基底；真空模块对软沉积腔和样品腔抽真空；配气模块向经过抽真空的软沉积腔和样品腔内通入惰性气体。本装置将气相团簇的质谱分析装置与软沉积实验装置结合，能够在进行质谱实验过程中方便地使用软沉积功能，并且在软沉积过程中实时监控气相团簇的沉积量，保证了沉积的气相团簇足够进行后续实验。
一种插入式气相团簇软沉积方法

[发明专利]一种在碳材料粉体表面包覆电绝缘涂层的制备方法和应用-CN202110922147.6有效
发明人：韩飞;谭瑞轩;王彩娟 -专利权人：湖南碳导新材料科技有限公司
申请日： 2021-08-12 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： C04B35/565 文献下载
摘要：通过通入稀释气体，采用流化床化学气相沉积方法在碳材料粉体表面涂覆陶瓷层。所述化学气相沉积工艺为：化学气相沉积反应温度为600‑1400ºC，化学气相沉积反应压力为100‑2000 Pa，化学气相沉积反应时间为0.2‑5 h；通过改变反应气可以得到不同的陶瓷层，进而扩大材料的应用范围
一种材料体表面包绝缘涂层制备方法应用

[发明专利]在连续在线阴影掩模沉积工序中利用选择性等离子蚀刻形成过孔的系统及方法-CN200580045262.9有效
发明人：托马斯·P·布罗迪;约瑟夫·A·马尔卡尼奥 -专利权人：阿德文泰克全球有限公司
申请日： 2005-12-20 - 公布日： 2007-12-19 - 主分类号： H01L23/52 文献下载
摘要：本发明公开一种阴影掩模气相沉积系统，在该系统中，在基板上气相沉积第一导体，在所述第一导体上气相沉积绝缘体。然后至少在所述绝缘体上气相沉积第二导体。在气相沉积所述第二导体之前或之后等离子蚀刻所述绝缘体，以便在其中限定过孔，所述第一导体的至少一部分透过所述过孔露出。经由所述过孔在所述第一导体和所述第二导体之间建立电连接。
连续在线阴影沉积工序利用选择性等离子蚀刻形成系统方法

[实用新型]气相沉积炉废气过滤系统-CN202121523490.5有效
发明人：董家海 -专利权人：浙江诺华陶瓷有限公司
申请日： 2021-07-06 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： B01D50/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及气相炉设备技术领域，更具体的说是气相沉积炉废气过滤系统。本实用新型提供气相沉积炉废气过滤系统，其有益效果为可以实现对气相炉的废气进行处理，并对废气中的灰尘进行吸附。气相沉积炉废气过滤系统，包括废气桶、进气孔、排水口和过滤板，废气桶上设有进气孔，废气桶上设有排水口，过滤板滑动连接在废气桶内。气相沉积炉废气过滤系统还包括搅拌扇，搅拌扇转动连接在废气桶内。气相沉积炉废气过滤系统还包括气孔，过滤板上设有多个气孔。
沉积废气过滤系统

[发明专利]化学气相沉积装置及其清洁方法-CN201210458045.4在审
发明人：马悦;袁刚;姜蔚;奚明 -专利权人：理想能源设备（上海）有限公司
申请日： 2012-11-14 - 公布日： 2014-05-21 - 主分类号： C23C16/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种化学气相沉积装置。所述化学气相沉积装置将清洁工具从传输腔传输到所述反应腔，并将所述清洁工具安装在反应腔内的顶壁上的清洁工具安装部上，以清洁所述反应腔内的承载部件；所述化学气相沉积装置还可以翻转所述清洁工具，并将所述清洁工具设置在所述承载部件上本发明的化学气相沉积装置可以自动清洁所述反应腔的顶壁和承载部件，缩短了清洁时间，提高了所述化学气相沉积装置的生产效率。本发明同时提供一种化学气相沉积装置的清洗方法。
化学沉积装置及其清洁方法

[发明专利]一种电弧法制备合金纳米颗粒的设备与方法-CN202111280216.4在审
发明人：李志杰;史桂梅;包立夫;张洪伟;赵丹娜;王馨月;王福春;修先毅 -专利权人：沈阳工业大学
申请日： 2021-11-01 - 公布日： 2022-03-11 - 主分类号： B22F9/14 文献下载
摘要：一种电弧法制备合金纳米颗粒的设备与方法，该设备的上部为气相沉积室，气相沉积室连接密封室，气相沉积室的外壁设有加热器，气相沉积室连接水冷阳极和水冷通气阴极，气相沉积室的下方通过锥形捕集罐插入捕集室中。气相沉积室通过阀门连接分子泵和机械泵，机械泵、分子泵和加热器均连接电源和控制柜。
一种电弧法制合金纳米颗粒设备方法

[实用新型]等离子体气相沉积装置用背板及等离子体气相沉积装置-CN201320335763.2有效
发明人：韩乔楠;罗阳;贺雄 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2013-06-09 - 公布日： 2013-11-13 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种等离子体气相沉积装置用背板及等离子体气相沉积装置，涉及化学气相沉积领域，以解决现有技术中等离子体气相沉积装置背板造成的气体扩散均匀性无法得到保证，从而影响成膜均匀性的问题。为了克服上述问题，本实用新型的实施例采用如下技术方案：一种等离子体气相沉积装置用背板，所述背板的一个表面设有进气孔，所述背板的另一相对表面设有多个出气孔，所述背板内部设有空腔，所述进气孔和多个所述出气孔均与所述空腔连通本实用新型用于进行等离子增强化学气相沉积操作。
等离子体沉积装置背板

[发明专利]一种炭/炭复合材料气相沉积工艺-CN202110177376.X有效
发明人：张全顺;张彦利;郝志奋;焦李周;李志强;李亚贺;任佳乐 -专利权人：内蒙古中晶科技研究院有限公司
申请日： 2021-02-07 - 公布日： 2022-01-14 - 主分类号： C04B35/83 文献下载
摘要：本发明公开了一种炭/炭复合材料气相沉积工艺，涉及炭材料制备技术领域。该制备方法包括制备炭纤维编织件、浸渍处理和气相沉积。在进行气相沉积前，先用纳米颗粒和纳米纤维预处理，气相沉积时，首先设置炉内温度800‑950℃，碳源为甲烷、丁烯、乙炔的混合气，沉积50‑150h；然后设置炉内温度1000‑1200℃，碳源为甲烷，沉积50本发明使得编织件在气相沉积时能有效提高碳原子在编织件材料的沉积速度，实现快速增密，同时获得良好的力学性能。
一种复合材料沉积工艺

[发明专利]降低非晶硅太阳能电池衰减率的方法-CN201110453173.5无效
发明人：罗毅;龚瑞;庞海燕;张立刚 -专利权人：普乐新能源（蚌埠）有限公司
申请日： 2011-12-29 - 公布日： 2012-06-13 - 主分类号： H01L31/20 文献下载
摘要：降低非晶硅太阳能电池衰减率的方法，在对太阳能电池的基板进行等离子体增强化学气相沉积法气相沉积的过程中，用接近太阳光光谱的光源对基板上的导电膜进行照射，在气相沉积的过程完成后，结束照射。由于在对基板进行等离子体增强化学气相沉积法气相沉积过程中一直用接近太阳光光谱的光源对其照射，光源照射到膜面后，产生光生亚稳态，出现硅-硅弱键断裂现象，由于气相沉积在进行，所以新的原子再次形成，断裂情况被重新连接，如此，可在基板衰减完成后，再完成气相沉积。
降低非晶硅太阳能电池衰减方法

[实用新型]一种车内耐膜裂镜片-CN202221334918.6有效
发明人：何彩虹;周海兵;周远胜 -专利权人：镇江视伟光学有限公司
申请日： 2022-05-31 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： G02C7/02 文献下载
摘要：本实用新型属于镜片技术领域，尤其为一种车内耐膜裂镜片，所述树脂镜片包括树脂镜片主体，所述树脂镜片主体的中部设置有减弱直射光线的偏光膜，所述树脂镜片主体的两侧表面均设置有用于表面防龟裂的化学气相沉积镀膜，其中一个所述化学气相沉积镀膜的外侧表面粘合有纳米镀膜，另一个化学气相沉积镀膜的外侧表面依次粘合有透光膜和纳米镀膜；通过树脂镜片主体两侧表面设置的化学气相沉积镀膜，且化学气相沉积镀膜通过化学气相沉积镀膜工艺黏附在树脂镜片主体两侧的表面，便于树脂镜片主体通过化学气相沉积镀膜提高树脂镜片表面的耐高温性能，以及增加树脂镜片的伸展性能，同时有效防止龟裂现象。
一种车内耐膜裂镜片

[实用新型]气相沉积炉配气系统-CN202222971749.3有效
发明人：奚衍罡 -专利权人：苏州冠岚新材料有限公司
申请日： 2022-11-08 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型公开了气相沉积炉配气系统，包括隔热套壳和预热气体盒，所述预热气体盒安装固定在隔热套壳的内部中间，所述预热气体盒的外端穿过隔热套壳设置有气相沉积炉进气管，所述气相沉积炉进气管的周侧设置有管道夹持器，所述预热气体盒的内端穿过隔热套壳设置有预热气输送管，所述预热气输送管的周侧设置有密封炉套，所述密封炉套的外侧设置有气相沉积炉本体，所述预热气输送管的内端位于气相沉积炉本体的内部设置有进气分散盘，所述进气分散盘的内端设置有镂空输送盖本实用新型公开的气相沉积炉配气系统具有预先加热输送的反应的气体，从而确保整体气相沉积炉加工品质的技术效果。
沉积炉配气系统

[发明专利]集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积方法及设备-CN201010022588.2无效
发明人：甘志银;王亮;朱海科 -专利权人：甘志银
申请日： 2010-01-08 - 公布日： 2011-07-13 - 主分类号： C23C16/18 文献下载
摘要：集成原子层沉积技术的金属有机物化学气相沉积方法及设备，在金属有机物化学气相沉积过程中，通过脉冲喷射的方式引入化学反应气源，化学反应源气体和载气分别通过交替开关的气动阀，以脉冲方式喷射到衬底生长表面。至少包含一次生长循环，步骤为：1.化学反应源气体通过气动阀进行常规化学气相沉积工艺；2.化学反应源气体和载气经交替开启和关闭的气动阀对衬底脉冲喷射，原子层沉积生长；3.判断沉积生长是否完成，未完成进入下一轮沉积循环本发明的优点是克服现有的金属有机物化学气相沉积方法无法精确控制纳米级膜厚及组分等缺点，突破原子层沉积工艺中生长速度低的限制，实现现有金属有机物化学气相沉积设备无法达到超陡峭薄膜界面结构。
集成原子沉积工艺化学方法设备

[发明专利]溶液基前体-CN201080031014.X无效
发明人： C·马;金基灿;G·A·麦克法兰 -专利权人：琳德股份公司
申请日： 2010-07-01 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： C07F9/00 文献下载
摘要：本发明涉及在膜的沉积方法，如原子层沉积、化学气相沉积和金属有机化学气相沉积中用作原料的溶液基前体。所述溶液基前体使得原本因在气化过程中具有分解和凝固倾向而不适合气相沉积方法的固体前体变得可以使用。
溶液基前体

[发明专利]气相沉积过程和沉积组件-CN202310082040.4在审
发明人： G·波波夫;A·维斯;M·瑞塔拉;M·凯梅尔 -专利权人： ASM IP私人控股有限公司
申请日： 2023-01-31 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： C23C16/30 文献下载
摘要：本公开涉及一种通过循环沉积过程在衬底上沉积含金属卤化物的材料的方法。该方法包括在反应室中提供衬底，以气相将金属前体提供到反应室中，以及以气相将卤素前体提供到反应室中，以在衬底上形成含金属卤化物的材料。还公开了一种用于沉积含金属卤化物的材料的沉积组件。
沉积过程组件

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