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- [发明专利]曝光方法和显示面板-CN202211321458.8在审
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刘鹏;刘白灵;冯京;刘星瑶;郭旭;张鑫
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京东方科技集团股份有限公司
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2022-10-26
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2023-01-31
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G03F7/20
- 本公开提供一种曝光方法和显示面板。该曝光方法中，采用数字曝光机对同一光阻层进行曝光处理，使得光阻层在曝光处理之后经显影处理能够得到至少2个厚度不同的保留区域。采用数字曝光机对同一光阻层进行多次曝光处理，其中，不同次曝光处理的曝光量不同且曝光区域无交叠。或者，采用数字曝光机对同一光阻层进行多次曝光处理，其中，至少2次曝光处理的曝光区域具有交叠区域。或者，采用数字曝光机对同一光阻层进行一次曝光处理，其中，存在连续多个曝光区域的宽度小于或等于最小可分辨尺寸的一半，连续多个曝光区域中相邻曝光区域的间距小于或等于最小可分辨间距的一半，且存在至少一个曝光区域的尺寸大于最小可分辨尺寸
- 曝光方法显示面板
- [发明专利]曝光描绘装置及曝光描绘方法-CN201380013189.1有效
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桥口昭浩
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株式会社阿迪泰克工程
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2013-02-25
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2014-11-26
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G03F7/20
- 本发明提供一种在连续进行多个作业时能够极力地不进行不需要的曝光处理而抑制不必要的生产线停止的曝光描绘装置。具备：曝光处理执行单元，分别设定基板信息，基于要求曝光处理的多个曝光处理要求，对基板依次执行各曝光处理；检测单元，检测曝光处理对象的基板的基板信息；及比较单元，对检测基板信息和执行中的曝光处理要求所设定的执行中基板信息进行比较，基于比较结果，在接下来成为曝光处理对象的基板的检测基板信息与执行中基板信息相同的情况下，对接下来成为曝光处理对象的基板继续执行执行中的曝光处理要求，在检测基板信息与执行中基板信息不同且与下一曝光处理要求所设定的基板信息相同的情况下，结束执行中的曝光处理要求而开始执行下一曝光处理要求。
- 曝光描绘装置方法
- [发明专利]曝光方法、曝光装置和制造物品的方法-CN201810874025.2有效
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小泉僚;中村忠央
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佳能株式会社
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2018-08-03
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2021-07-27
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G03F7/20
- 本发明公开了曝光方法、曝光装置和制造物品的方法。本发明提供一种曝光方法，所述曝光方法用于重复地执行用于经由投影光学系统对基板进行曝光的曝光处理，所述方法包括：第一曝光处理，所述第一曝光处理用于测量所述投影光学系统的光学特性，并且在基于所述测量的结果来校正所述光学特性的同时对所述基板进行曝光；第二曝光处理，所述第二曝光处理用于在基于通过预测公式估计所述光学特性的结果来校正所述光学特性的同时对所述基板进行曝光，其中，重复地执行所述第一曝光处理，并且在其中判断所确定的所述预测公式的系数已收敛的所述第一曝光处理之后开始所述第二曝光处理
- 曝光方法装置制造物品
- [发明专利]曝光装置、曝光方法以及曝光处理程序-CN200510075830.1有效
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篠原雄一;田端秀敏
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株式会社ORC制作所
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2005-05-27
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2005-11-30
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G03F7/20
- 本发明提供一种曝光装置、曝光方法以及曝光处理程序，曝光装置包括：判断单元、存储单元以及曝光处理控制单元，判断单元根据利用摄影单元对分别形成于基板上和形成于具有在基板上形成的图案的掩模上的基板标记和掩模标记进行摄影后的上述两标记，判断上述基板是否可以曝光；存储单元将与判定为不可曝光的基板有关的信息，和被判定为不可曝光的区域的未曝光处理区域有关的信息作为错误信息进行存储；曝光处理控制装置在针对一连串的基板片数结束了上述调整处理及曝光处理后而再次投入存在上述未曝光处理区域的基板时，根据存储在存储单元中的错误信息，进行控制，使对未曝光处理区域实施调整处理及曝光处理。
- 曝光装置方法以及处理程序
- [发明专利]曝光URL处理方法及装置-CN201710222467.4有效
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孟欣
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北京国双科技有限公司
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2017-04-06
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2022-03-11
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G06F16/955
- 本发明实施例提供了一种曝光URL处理方法，用于减小页面检测的工作量。本发明实施例提供的曝光URL处理方法包括：获取多个第一曝光URL；对每个所述第一曝光URL进行解析，得到解析结果，所述解析结果中至少包括曝光参数，所述曝光参数为所述第一曝光URL所属的媒体添加到所述第一曝光URL中的字段；对所述解析结果进行预设处理，得到不包含所述曝光参数的第二曝光URL；将相同的第二曝光URL进行聚合，得到处理后的曝光URL。该技术方案能够有效减少处理后的曝光URL的数目，广告商只需要对处理后的URL进行访问即可，从而有效减小检测的工作量。本发明还提供了相关的曝光URL处理装置。
- 曝光url处理方法装置
- [发明专利]晶圆曝光修正方法及系统与存储介质-CN201911194288.X有效
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张君君
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长鑫存储技术有限公司
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2019-11-28
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2023-08-29
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G03F7/20
- 本发明实施例提供一种晶圆曝光修正方法及系统与存储介质。一种晶圆曝光修正方法，包括：获取曝光剂量分布图，曝光剂量分布图用于表征每一曝光单元与初始曝光剂量对应的曝光剂量修正系数；曝光处理步骤，基于曝光剂量修正系数对初始曝光剂量进行修正，获取修正曝光剂量，采用修正曝光剂量对待处理的晶圆进行曝光处理，获取处理后的晶圆中多个曝光单元的修正特征尺寸；更新步骤，基于曝光剂量修正系数与修正特征尺寸之间的对应关系，计算每一修正特征尺寸对应的曝光剂量修正系数，根据计算得到的多个曝光剂量修正系数更新曝光剂量分布图；重复进行曝光处理步骤以及更新步骤，持续更新曝光剂量分布图。
- 曝光修正方法系统存储介质
- [发明专利]图像处理方法、装置及终端-CN201710459547.1在审
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曾元清
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广东欧珀移动通信有限公司
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2017-06-16
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2017-09-29
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G06T5/00
- 本发明提出一种图像处理方法、装置及终端，其中，方法包括计算待处理图像全局的第一曝光补偿；计算所述待处理图像中的人像部分的第二曝光补偿；根据所述第一曝光补偿和所述第二曝光补偿计算最终的曝光补偿；根据所述最终的曝光补偿对所述待处理图像进行处理本实施例中，通过单独计算待处理图像中的人像部分的第二曝光补偿，并结合待处理图像全局的第一曝光补偿计算得到最终的曝光补偿，根据最终的曝光补偿对待处理图像进行处理，实现了对图像中的人像和背景的亮度的准确还原，避免了在背光或逆光条件下，图像中的人像发生曝光不足、亮度明显偏暗的问题，提高了视觉效果。
- 图像处理方法装置终端
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