专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体结构的形成方法-CN201510011973.X有效
  • 张海洋;黄敬勇 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2015-01-09 - 2019-12-03 - H01L21/768
  • 一种半导体结构的形成方法,包括:提供具有底层金属的基底;形成覆盖于所述基底表面以及底层金属表面的介质;在所述介质表面形成图形,所述图形内具有开口;以所述图形为掩膜,沿所述开口刻蚀所述介质,直至暴露出底层金属表面,在所述介质内形成接触孔,所述接触孔内具有含氟聚合物杂质;去除所述图形;采用氢等离子体对所述接触孔进行第一刻蚀后处理,去除所述含氟聚合物杂质中的氟离子;在进行所述第一刻蚀后处理之后,对所述接触孔进行湿法清洗处理;形成填充满所述接触孔的导电。本发明避免在Q‑time内氟离子对介质底层金属造成损伤,提高半导体结构的生产良率,提高芯片产出量。
  • 半导体结构形成方法
  • [发明专利]针对介质集成悬置线和金属-介质集成悬置线有源器件的封装结构-CN202210256342.4有效
  • 马凯学;冯婷;王勇强;闫宁宁 - 天津大学
  • 2022-03-16 - 2023-09-19 - H01P5/16
  • 本发明公开一种针对介质集成悬置线和金属‑介质集成悬置线有源器件的封装结构,包括自上而下布置的顶层介质\金属板、第二介质板、第三介质板、第四介质板及底层介质\金属板,第三介质板为有源器件电路所在的介质板:第二介质板的长度方向一侧开两个方槽,用于直流供电接触端子的两个金属方棒嵌置安装于两个方槽中;第二介质板及底层介质\金属板的宽度方向上两侧开有接头卡接方槽,两个射频接头通过接头卡接方槽卡套焊接在第三介质和第四介质板上;顶层介质\金属板和底层介质\金属板上的连接通孔为沉头孔,使紧固件的帽檐或螺钉内嵌于顶层介质\金属板和底层\金属板中保持器件表面平整。
  • 针对介质集成悬置金属有源器件封装结构
  • [发明专利]一种平坦化方法-CN201010545902.5有效
  • 肖志强;黄蕴;张明;吴建伟 - 无锡中微晶园电子有限公司
  • 2010-11-16 - 2011-06-15 - H01L21/31
  • 本发明涉及一种平坦化方法,其包括如下步骤:a、提供衬底,衬底上设置底层金属连线;b、淀积绝缘介质;c、涂布光刻胶;d、对衬底及光刻胶进行热处理;e、对衬底及光刻胶进行干法刻蚀,并保留位于金属连线底层台阶处的绝缘介质;f、用EKC溶液清洗;g、再次淀积绝缘介质;h、再次涂布光刻胶;i、对上述衬底及光刻胶进行热处理;j、对上述衬底及光刻胶进行干法刻蚀,去除绝缘介质及所述绝缘介质上的光刻胶,并保留位于金属连线底层台阶处的绝缘介质;所述保留的绝缘介质的厚度与所述底层金属连线的厚度相当;k、对上述衬底通过干法去胶后,再用EKC溶液清洗。
  • 一种平坦方法
  • [实用新型]一种窄离散距离的多频吸波结构及吸波器件-CN202123354403.0有效
  • 陈磊 - 杭州灵芯微电子有限公司
  • 2021-12-28 - 2022-09-27 - H01Q17/00
  • 本实用新型提供了一种窄离散距离的多频吸波结构以及吸波器件,多频吸波结构包括:底层金属接地板;介质,设置于所述底层金属接地板上;至少一个中间矩形金属贴片,自下而上依次嵌入所述介质内;顶层矩形金属贴片,设置于所述介质上;其中,嵌入所述介质内的中间矩形金属贴片的长度自下而上依次递减,且位于最底层的中间矩形金属贴片的长度小于所述底层金属接地板的长度,位于最顶层的中间矩形金属贴片的长度大于所述顶层矩形金属贴片的长度,位于最底层的中间矩形金属贴片与所述顶层矩形金属贴片之间的长度差小于10μm。
  • 一种离散距离多频吸波结构器件
  • [发明专利]一种双地槽平行微带线90度相位移相器-CN201710245811.1在审
  • 何进;陈鹏伟;王豪;刘峰 - 武汉大学
  • 2017-04-14 - 2017-12-01 - H01Q3/34
  • 本发明涉及毫米波无线通信技术,特别涉及一种双地槽平行微带线90度相位移相器,采用工艺130nm SiGe BiCMOS;包括地金属和顶层金属,输入、输出端口,电介质和衬底层,还包括地金属中心设置一条底层金属传输线,同时在顶层金属上设置一条平行对称的顶层金属传输线;底层金属传输线与顶层金属传输线中心设置有180度相位反相器;地金属上以底层金属传输线中线为轴设置两平行对称沟槽,输入端口与顶层金属传输线和底层金属传输线的左端连接,输出端口与顶层金属传输线和底层金属传输线的右端连接;电介质包围在地金属和顶层金属的底部和外围,衬底层设置于电介质底部。
  • 一种地槽平行微带90相位移相器

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