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- [发明专利]半导体结构的形成方法-CN201510011973.X有效
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张海洋;黄敬勇
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中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
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2015-01-09
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2019-12-03
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H01L21/768
- 一种半导体结构的形成方法,包括:提供具有底层金属层的基底;形成覆盖于所述基底表面以及底层金属层表面的介质层;在所述介质层表面形成图形层,所述图形层内具有开口;以所述图形层为掩膜,沿所述开口刻蚀所述介质层,直至暴露出底层金属层表面,在所述介质层内形成接触孔,所述接触孔内具有含氟聚合物杂质;去除所述图形层;采用氢等离子体对所述接触孔进行第一刻蚀后处理,去除所述含氟聚合物杂质中的氟离子;在进行所述第一刻蚀后处理之后,对所述接触孔进行湿法清洗处理;形成填充满所述接触孔的导电层。本发明避免在Q‑time内氟离子对介质层和底层金属层造成损伤,提高半导体结构的生产良率,提高芯片产出量。
- 半导体结构形成方法
- [发明专利]一种平坦化方法-CN201010545902.5有效
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肖志强;黄蕴;张明;吴建伟
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无锡中微晶园电子有限公司
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2010-11-16
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2011-06-15
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H01L21/31
- 本发明涉及一种平坦化方法,其包括如下步骤:a、提供衬底,衬底上设置底层金属连线;b、淀积绝缘介质层;c、涂布光刻胶;d、对衬底及光刻胶进行热处理;e、对衬底及光刻胶进行干法刻蚀,并保留位于金属连线底层台阶处的绝缘介质层;f、用EKC溶液清洗;g、再次淀积绝缘介质层;h、再次涂布光刻胶;i、对上述衬底及光刻胶进行热处理;j、对上述衬底及光刻胶进行干法刻蚀,去除绝缘介质层及所述绝缘介质层上的光刻胶,并保留位于金属连线底层台阶处的绝缘介质层;所述保留的绝缘介质层的厚度与所述底层金属连线的厚度相当;k、对上述衬底通过干法去胶后,再用EKC溶液清洗。
- 一种平坦方法
- [发明专利]一种双地槽平行微带线90度相位移相器-CN201710245811.1在审
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何进;陈鹏伟;王豪;刘峰
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武汉大学
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2017-04-14
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2017-12-01
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H01Q3/34
- 本发明涉及毫米波无线通信技术,特别涉及一种双地槽平行微带线90度相位移相器,采用工艺130nm SiGe BiCMOS;包括地金属层和顶层金属层,输入、输出端口,电介质层和衬底层,还包括地金属层中心设置一条底层金属传输线,同时在顶层金属层上设置一条平行对称的顶层金属传输线;底层金属传输线与顶层金属传输线中心设置有180度相位反相器;地金属层上以底层金属传输线中线为轴设置两平行对称沟槽,输入端口与顶层金属传输线和底层金属传输线的左端连接,输出端口与顶层金属传输线和底层金属传输线的右端连接;电介质层包围在地金属层和顶层金属层的底部和外围,衬底层设置于电介质层底部。
- 一种地槽平行微带90相位移相器
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