专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]氮化物半导体装置及其制造方法-CN201110254450.X在审
  • 齐藤泰伸;藤本英俊;大野哲也;吉冈启;斋藤涉 - 株式会社东芝
  • 2011-08-31 - 2012-08-01 - H01L29/772
  • 一种氮化物半导体装置,具备第一半导体层、第二半导体层、GaN的第三半导体层、第四半导体层、第一电极、第二电极和第三电极。第一半导体层包括氮化物半导体。第二半导体层在第一半导体层上设置,具有第一半导体层的禁带宽度以上的禁带宽度,包括氮化物半导体。第三半导体层在第二半导体层上设置。第四半导体层在第三半导体层上设置成在一部分具有间隙,具有第二半导体层的禁带宽度以上的禁带宽度,包括氮化物半导体。第一电极在第三半导体层上设置于没有设置第四半导体层的部分。第二电极在第四半导体层上设置于第一电极的一侧,与第四半导体层欧姆接合。第三电极在第四半导体层上设置于第一电极的另一侧,与第四半导体层欧姆接合。
  • 氮化物半导体装置及其制造方法
  • [发明专利]导体装置以及其控制方法-CN202110207897.5在审
  • 诹访刚史;末代知子;岩鍜治阳子;系数裕子;罇贵子 - 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社
  • 2021-02-24 - 2022-03-18 - H01L29/739
  • 实施方式涉及半导体装置及其控制方法。半导体装置具备第一导电型的第一半导体层、设置在第一半导体层上的第二导电型的第二半导体层、选择性地设置在第二半导体层上的第一导电型的第三半导体层、选择性地设置在第二半导体层上并与第三半导体层并排的第二导电型的第四半导体层及第二导电型的第五半导体层第一半导体层位于第二半导体层与第五半导体层之间。第四半导体层在与第二半导体层的上表面平行的平面内,第四半导体层的面积具有比第三半导体层的面积大的面积。半导体装置还具备:控制电极,设置在从第三半导体层的上表面至第一半导体层中的深度的沟道的内部;第一电极,与第三半导体层电连接;及第二电极,与第四半导体层电连接。
  • 半导体装置及其控制方法
  • [发明专利]导体器件-CN201310027193.5无效
  • 内城竜生 - 株式会社东芝
  • 2013-01-24 - 2014-03-26 - H01L29/739
  • 本发明提供一种能够提高元件的耐性的半导体器件。实施方式的半导体器件具备:第1半导体层;第2半导体层;第3半导体层,具有第1半导体区域和第2半导体区域沿着相对第1半导体层与第2半导体层的层叠方向垂直的第1方向交替排列的构造;第4半导体层,具有第3半导体区域和第4半导体区域沿着第1方向交替排列的构造;以及第5半导体层,设置于所述第3半导体区域上以及所述第4半导体区域上。第2半导体区域中包含的杂质元素的浓度高于第1半导体区域中包含的杂质元素的浓度。第3半导体区域中包含的杂质元素的浓度高于第4半导体区域中包含的杂质元素的浓度。第3半导体层和第4半导体层的界面与第5半导体层的下端之间的第1长度比界面与第2半导体层的上端之间的第2长度长。
  • 半导体器件
  • [发明专利]导体结构及其制造方法-CN201811602460.6有效
  • 许平 - 南亚科技股份有限公司
  • 2018-12-26 - 2022-03-25 - H01L23/62
  • 本公开提供一种半导体结构及其制造方法。该半导体结构包含一半导体层、一第一导体、一第二导体以及一熔丝。该第一导体设置于该半导体层之上。该第二导体设置于该第一导体之上。该熔丝设置于该第一导体以及该第二导体之间,其中该熔丝包含一导电部以及由该导电部所围绕的一不导电部,该导电部接触该第一导体以及该第二导体,且该不导电部接触该第二导体
  • 半导体结构及其制造方法
  • [实用新型]串联偶极天线-CN200920218253.0有效
  • 罗培彰;蔡济安;黄荣益 - 普翔电子贸易(上海)有限公司
  • 2009-10-16 - 2010-09-15 - H01Q9/30
  • 本实用新型公开了一种串联偶极天线,其包含:一讯号线、一接地导体、第一辐射导体、一绕线、第二辐射导体;该绕线介于第一、二辐射导体之间,该第一辐射导体介于接地导体与绕线之间,以使第一辐射导体分别连接讯号线的导体与绕线,第二辐射导体一端连接绕线,一寄生导体位于该第一辐射导体与接地导体之间,以使寄生导体的一端与接地导体连接。
  • 串联天线
  • [发明专利]导体结构及其制造方法-CN201910227977.X在审
  • 蔡宏奇 - 南亚科技股份有限公司
  • 2019-03-25 - 2020-06-16 - H01L21/60
  • 本申请涉及一种半导体结构及其制造方法。该半导体结构包括一第一第二半导体层与一第二半导体层、以及一第一连结导体、一第二连结导体与一第三连结导体。该第二半导体层设于该第一半导体层之上。该第一连结导体设于该第一半导体层之上。该第二连结导体设于该第二半导体层之上。该第三连结导体包括由该第一连结导体与该第二连结导体形成的一硅化物材料。
  • 半导体结构及其制造方法

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