专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种对准结构及对准方法-CN202310004188.6在审
  • 王嘉南;李乐;杨柳青 - 上海积塔半导体有限公司
  • 2023-01-03 - 2023-04-25 - H01L23/544
  • 本发明提供一种对准结构及对准方法,包括:第一方向对准结构和第二方向对准结构;第一方向对准结构和第二方向对准结构均包括n个金属对准标记和n个金属连接柱;各金属对准标记均设置于第一半导体基板上;各金属连接柱贯穿第二半导体基板,且金属连接柱的第一端面及第二端面分别从第二半导体基板的两面露出;第一方向对准结构中,n个金属连接柱的第二端面分别沿着第一方向与各金属对准标记相接或者相交;第二方向对准结构中,n个金属连接柱的第二端面分别沿着第二方向与各金属对准标记相接或相交本发明通过测量电阻进行对准来代替现有技术的通过光学对准的方法,有效提高对准精度。
  • 一种对准结构方法
  • [发明专利]晶圆堆叠对准装置及对准方法-CN202210368328.3在审
  • 吴峰;杨光 - 北京华卓精科科技股份有限公司
  • 2022-04-08 - 2023-10-24 - H01L21/68
  • 本发明提供了一种晶圆堆叠对准装置及对准方法,该装置包括基座与设置在基座上的第一载片机构、第二载片机构与视觉检测机构;第一载片机构与第二载片机构分别包括彼此对应且盘面相互平行的第一载片盘与第二载片盘;视觉检测机构的视线方向垂直于盘面基于本发明的技术方案,基于高精度的图像采集、分析,可以精确计算出彼此堆叠的晶圆之间的位置偏差、角度偏差,从而准确地进行位置调整,实现高精度的堆叠对准
  • 堆叠对准装置方法
  • [发明专利]离轴对准系统及其对准方法-CN200910048641.3有效
  • 方立;孙刚 - 上海微电子装备有限公司
  • 2009-03-31 - 2009-09-16 - G03F9/00
  • 本发明提供一种离轴对准系统,用于光刻装置确定硅片与工件台的位置关系。离轴对准系统包括:沿X向和Y向放置激光干涉仪,测量离轴光轴和工件台的位置;零位传感器,放置在工件台最大运动范围的边缘,提供激光干涉仪初始化信号;离轴光学系统和其侧面的两个离轴反射面,与X、Y向分别垂直;本发明提供的离轴对准系统中加入激光干涉仪,能够实时检测离轴对准系统中离轴光轴的偏移,保证了硅片对准的精度。
  • 对准系统及其方法
  • [发明专利]光刻机对准装置及其对准方法-CN201010118779.9有效
  • 马雨雷;张品祥;段立峰;单世宝 - 上海微电子装备有限公司
  • 2010-03-05 - 2011-09-21 - G03F7/20
  • 本发明提出一种光刻机对准装置及其对准方法,该装置包括光源,准直镜,待对准的掩模,掩模上的标记,和四象限光强传感器,标记呈近十字形,关于X,Y轴对称,标记在X轴方向的长度H与在Y轴方向的长度L之间具有设定差值该对准方法包括:准直镜将光源发出的光准直照射到掩模的标记上;透过标记的准直光束垂直入射到四象限光强传感器上;根据四象限光强传感器的信息计算当前掩模的X轴和Y轴坐标以及绕四象限光强传感器法线方向的旋转角度;反馈给掩模运动系统对掩模进行位置移动和旋转,完成预对准过程。本发明提出的光刻机对准装置及其对准方法,用于光刻机掩模预对准,节约掩模空间,提高掩模利用率。
  • 光刻对准装置及其方法
  • [发明专利]一种对准装置和对准方法-CN201511031863.6有效
  • 周钰颖;陆海亮 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2015-12-31 - 2019-04-12 - G03F7/20
  • 本发明使用包括两组周期有细微差异且并排放置的光栅作为对准标记,在对准标记上设置光学放大倍率为‑1倍的投影系统,当照明光经过照射至一组光栅上并以θ1的出射角衍射,衍射光通过投影系统后以sub>3为正入射至另一组光栅后衍射出的光线的出射角,且θ1与θ3之差很小)衍射出的光线依会在面阵探测器上形成莫尔条纹,并传输至处理单元,计算出对准标记的偏移距离,移动工件台上的硅片从而移动对准标记,直至对准标记的偏移距离为0,则对准完成。这种方法可自参考形成莫尔条纹,无需使用参考光栅,避免了参考光栅带来的漂移误差,提高了对准精度。
  • 一种对准装置方法
  • [发明专利]液体喷头的对准装置及其对准方法-CN200710149744.X有效
  • 稻冈靖雄;奥村资纪;太田睦彦;后藤和敏;柳泽功;冈室琢磨 - 精工爱普生株式会社
  • 2007-09-05 - 2008-03-12 - B41J25/24
  • 一种液体喷头的对准装置及其对准方法,即使在基准标记和对准标记的距离远离的情况下也能进行高精度的定位。该对准装置具有:作为透明部件的膜片(410),其设有对准标记(22)进行对位的基准标记(401);衬垫夹具(430),其在固定板(250)和膜片(410)之间,一个面与固定板(250)相接,并且另一个面与膜片(410)相接,从而使基准标记(401)和对准标记(22)隔着空间相对置;双焦点显微镜(500),其如下构成,光轴(L)从膜片(410)的与衬垫夹具侧相反侧经由基准标记(401)及空间朝向对准标记(22)的方向,共有光轴(L)的一个光学系统(501)能将焦点与对准标记(22)对合,并且另一个光学系统(502)能将焦点与基准标记(401)对合。
  • 液体喷头对准装置及其方法
  • [发明专利]对准装置及硅片预对准方法-CN201810911933.4有效
  • 王刚;付红艳;宋海军;黄栋梁 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2018-08-10 - 2022-02-15 - H01L21/68
  • 本发明提供了一种预对准装置,将交接承载单元设置在空心承载盘的空心区中,将带动交接承载单元运动的垂向运动单元和水平位置补偿单元设置在旋转运动单元内部,可使得交接承载单元在所述空心区中上下穿梭和水平移动,由此,在增大空心承载盘的承载区面积的同时,可避免设备尺寸增大;所述空心承载盘上的吸盘、吸附孔以及用于支撑硅片的凸起结构,可以使其承载的硅片吸附平整,由此可解决超薄硅片预对准时易碎的问题,并提高超薄硅片的预对准精度本发明还提供一种硅片预对准方法,采用本发明的预对准装置,来实现硅片的预对准。本发明还提供一种曝光设备、光刻系统、硅片加工系统及方法,采用本发明的预对准装置和预对准方法实现。
  • 对准装置硅片方法
  • [实用新型]对准镜筒、对准镜头及光刻机-CN201621254599.2有效
  • 刘宝金;刘涛;王喜宝 - 天津芯硕精密机械有限公司
  • 2016-11-21 - 2017-06-30 - G03F7/20
  • 本实用新型涉及光刻技术领域,尤其涉及一种对准镜筒、对准镜头及光刻机。对准镜筒包括第一镜筒和第二镜筒;第一镜筒沿长度方向设置有第一光路通道,第一光路通道贯穿第一镜筒;第二镜筒沿长度方向设置有第二光路通道,第二光路通道贯穿所述第二镜筒;第一镜筒的第一端与第二镜筒的第三端可拆卸连接,第一镜筒的长度方向与第二镜筒的长度方向重合;对准镜头包括上述对准镜筒,还包括第一镜片组和第二镜片组;光刻机包括上述对准镜头。本实用新型的目的在于提供一种对准镜筒、对准镜头及光刻机,以解决现有的对准镜筒存在的筒体细长,给机械加工和后期光学镜片的装配带来了难度的技术问题。
  • 对准镜头光刻

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