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[发明专利]显示装置-CN202180063848.7在审
发明人：李元镐;金范俊;姜锺赫;任铉德;曺银我 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-08-17 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： H01L25/075 文献下载
摘要：显示装置的多个像素均包括对准电极和设置在对准电极之间的发光元件，对准电极包括外侧对准电极和设置在外侧对准电极之间的中心对准电极，其中，中心对准电极之间的距离不同于中心对准电极与外侧对准电极之间的距离。
显示装置

[发明专利]黄光对准系统、光刻机及其对准方法-CN201811525884.7在审
发明人：蔡瑞;张雷;李伟成 -专利权人：苏州源卓光电科技有限公司
申请日： 2018-12-13 - 公布日： 2019-02-19 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种黄光对准系统，在黄光对准系统的使用下，对位点在对位相机抓取的图像中显示清晰，能够准确得到的对位点的位置，对准系统设置在可移动的基板台面上方，基板台面用于承载PCB板，对准系统包括安装在龙门上的固定对准组件和移动对准组件，固定对准组件包括固定在龙门上的固定对准相机，固定对准相机的镜头朝下设置，固定对准组件还包括固定在龙门上的照明光源，照明光源为黄光光源，移动对准组件包括沿龙门设置的滑轨，滑轨上设置有能够沿滑轨移动的移动对准相机，移动对准相机的镜头朝下设置，固定对准相机与移动对准相机配合抓取PCB板上的对位点，同时本发明还提供了使用该黄光对准系统的光刻机以及对准方法。
对准对准系统相机黄光龙门对准组件对位点抓取移动对准组件基板台面照明光源光刻机滑轨移动滑轨移动黄光光源可移动对位承载图像清晰配合

[发明专利]晶片对准标记选取方法-CN202210935088.0在审
发明人：郭超;费志平;李玉华;姜冒泉;吴友根;魏育航 -专利权人：华虹半导体（无锡）有限公司
申请日： 2022-08-05 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本申请涉及半导体集成电路制造技术领域，具体涉及一种晶片对准标记选取方法。晶片对准标记选取方法包括以下步骤：选取与晶片各个前层对应的前层对准标记集合，每个所述前层对准标记集合中包括多种前层对准标记；遍历检测光源集合中的所有检测光源，使得每个所述检测光源分别对所有前层对准标记集合中的各前层对准标记进行检测，确定对应不同前层的最佳对准组合；一对所述最佳对准组合包括一种最佳对准标记和一种检测光源的组合；整合对应同一检测光源的最佳对准组合形成最佳对准集合，各个所述最佳对准集合中包括位于不同前层中的最佳对准标记；基于目标对准标记数量，在各个最佳对准集合中设定各种最佳对准标记的最佳分配数量。
晶片对准标记选取方法

[发明专利]对准标记图像制作方法、对准标记测量方法及测量装置-CN201911380080.7有效
发明人：陈跃飞;徐兵 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2019-12-27 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本发明提供了一种对准标记图像制作方法、对准标记测量方法及测量装置，其中，对准标记图像制作方法中首先获取包含目标对准标记的图像，然后截取包含目标对准标记的目标区域，生成子图，并计算目标对准标记的尺寸，最后绘制对准标记图像对准标记测量方法中首先采用如上所述的对准标记图像制作方法，基于金属掩模上的一目标对准标记制作对准标记图像，并获取金属掩模的图像，然后将金属掩模的图像与对准标记图像进行比对，筛选出所有与目标对准标记相匹配的对准标记，最后计算各个对准标记的位置。本发明中的对准标记测量方法通过在线制作对准标记图像，提高了测量结果的可信度，缩短了测量时间，而且扩大了测量装置的适用范围。
对准标记图像制作方法测量方法测量装置

[发明专利]用于对准电子元件的装置、系统和方法-CN201780023548.X有效
发明人：弗朗茨·布兰德尔;汉斯-彼得·孟瑟;西格蒙德·尼克拉斯 -专利权人：米尔鲍尔有限两合公司
申请日： 2017-04-07 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于对准电子元件的系统，该系统包括用于对准电子元件的装置。用于对准电子元件的装置包括具有用于电子元件的对准结构的基板和用于使电子元件与对准结构对准的对准装置。对准结构限定第一和第二边缘，其相对于彼此成一角度并且与待对准的电子元件的彼此成相同一定角度的两个侧面互补。此外，对准装置设计成通过使电子元件的侧面与对准结构的第一边缘和第二边缘接触而使电子元件与对准结构对准。分配单元设计成通过用于将电子元件对准的装置而在靠近对准结构的分配点处分配电子元件。接收单元设计用于接收在设备中的对准结构上已对准的电子元件。
用于对准电子元件装置系统方法

[发明专利]图像处理设备、摄像设备和图像处理方法-CN202111051189.3在审
发明人：上杉友美;鹫巢晃一;齐藤光洋 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2021-09-08 - 公布日： 2022-03-25 - 主分类号： H04N5/225 文献下载
摘要：该图像处理设备能够通过减少多个图像的对准错误来获得高清图像。该图像处理设备包括：对准单元，用于进行序列对准和基准对准，所述序列对准用于对相邻图像进行对准，所述基准对准用于将除基准图像以外的图像与基准图像进行对准；以及控制单元，用于控制所述对准单元，以通过组合所述序列对准和所述基准对准，来对由摄像单元按时间序列连续拍摄到的包括相同被摄体的多个图像进行对准。
图像处理设备摄像方法

[发明专利]一种多离轴对准系统匹配测校方法-CN201210104003.0有效
发明人：马琳琳;方立;孙刚 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2012-04-11 - 公布日： 2013-10-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种多离轴对准系统匹配测校方法，其特征在于，包括以下步骤：（a）执行离线测量，分别获取该多离轴对准系统中的各对准子系统的参考位置，该对准子系统包括基准离轴对准系统和非基准离轴对准系统；（b）分别利用该对准子系统对准标准基板上的对准标记，并获取该标准基板上对准标记在工件台坐标系下的位置；（c）根据该工件台坐标系下的位置，计算标准基板相对于工件台的位置关系以及该位置关系的偏差值；（d）执行正常在线对准流程，分别用该对准子系统对准基板上的标记，并获取标记的在线对准位置；（e）根据该偏差值和该参考位置，将非基准离轴对准系统获取的在线对准位置转换为基准离轴对准系统的在线对准位置，完成在线补偿。
一种多离轴对准系统匹配校方

[实用新型]一种光刻对准标记和包括其的半导体结构-CN202122468558.0有效
发明人：郭艳华;方宇;余坚;周源;侯振威 -专利权人：北京燕东微电子科技有限公司
申请日： 2021-10-13 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： H01L23/544 文献下载
摘要：本申请公开一种光刻对准标记和包括其的半导体结构。该对准标记包括：粗对准标记区和精对准标记区，形成在衬底上的第一结构层中，其中粗对准标记区包括阵列排布的粗对准标记，精对准标记区包括阵列排布的精对准标记，并且其中粗对准标记和精对准标记分别包括明场对准标记和/或暗场对准标记，明场对准标记在平行于衬底的平面上的尺寸大于覆盖第一结构层的第二结构层的厚度，暗场对准标记在平行于衬底的平面上的尺寸被配置为使得相邻暗场对准标记之间的区域在平行于衬底的平面上的尺寸大于第二结构层的厚度根据待形成的第二结构层的厚度，设置明场对准标记和/或暗场对准标记的尺寸，从而使得光刻机能够识别到有效图形并进行高精度的对准曝光。
一种光刻对准标记包括半导体结构

[发明专利]曝光装置用的对准装置以及对准标记-CN201280039116.5有效
发明人：桥本和重 -专利权人：株式会社V技术
申请日： 2012-08-07 - 公布日： 2014-06-11 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：对准装置设置有射出用于对准的光的对准光源，例如内置于照相机。而且，对准光源例如与照相机检测出的光的光轴同轴地射出对准光。对准光照射到基板和掩模，反射光由照相机所检测。在掩模对准标记与基板对准标记之间还存在用于曝光的微透镜阵列，由此，从基板对准标记反射的正立等倍像被成像在掩模上。进而，通过由照相机检测出的掩模对准标记的反射光以及基板对准标记，控制装置进行基板与掩模的对准。由此，能以高精度执行基板与掩模的对准。
曝光装置对准以及标记

[发明专利]测量对准标记或对准标记组件的方法、对准系统和光刻工具-CN202080024645.2在审
发明人： F·G·C·比杰南;R·布林克霍夫 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-02-25 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种测量对准标记或对准标记组件的方法，其中对准标记包括在至少两个方向上延伸的网格特征，该方法包括：使用对准标记或对准标记组件的预期地点来测量对准标记或对准标记组件；确定对准标记或对准标记组件在第一方向上的第一位置；确定对准标记或对准标记组件在第二方向上的第二位置，其中第二位置垂直于第一位置；确定对准标记或对准标记组件在第二方向上的预期地点与所确定的第二位置之间的第二方向扫描偏移；以及使用至少一个校正数据集基于第二方向扫描偏移来校正第一位置
测量对准标记组件方法系统光刻工具

[发明专利]晶圆对准标记、制作方法、晶圆对准装置及晶圆对准方法-CN202110367798.3在审
发明人：季明华 -专利权人：芯恩（青岛）集成电路有限公司
申请日： 2021-04-06 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： H01L23/544 文献下载
摘要：本发明提供一种晶圆对准标记、制作方法、晶圆对准装置及晶圆对准方法，该晶圆对准标记能够在正向偏置导通时产生自发射红外光，利用自发射红外光替代外部入射红外光，使用该晶圆对准标记进行对准时，由于红外光直接从晶圆内产生该晶圆对准标记应用广泛，可以应用到功率MOS、IGBT、BCD及超结器件等半导体器件的制造工艺中。此外，与晶圆对准标记配合使用的晶圆对准装置结构简单，无需额外配置He‑Ne激光器，还可利用光源提高红外光的信噪比，在现有的光刻设备中具有较高的实用价值。
对准标记制作方法装置方法

[发明专利]弹性平均对准系统和方法-CN201510010782.1有效
发明人： S.E.莫里斯;J.P.拉瓦尔 -专利权人：通用汽车环球科技运作有限责任公司
申请日： 2015-01-09 - 公布日： 2018-03-13 - 主分类号： F16B5/07 文献下载
摘要：本发明公开了弹性平均对准系统和方法。在一个方面中，提供用于弹性平均对准系统的部件。该部件包括主体、形成在主体中并且限定对准孔洞的内壁以及对准构件。对准构件包括从主体延伸的一对凸片，并且对准构件是弹性可变形材料，这样使得当将对准构件插入到另一个部件的另一个对准孔洞中时，对准构件弹性地变形为弹性平均配置从而促进将部件相对于弹性平均对准系统的另一个部件对准对准孔洞被配置成接纳弹性平均对准系统的另一个部件的另一个对准构件。
弹性平均对准系统方法

[发明专利]一种晶片键合过程中对准检测方法-CN202010880769.2有效
发明人：刘福民;刘宇;张乐民;刘国文;马骁;崔尉;梁德春;张树伟;吴浩越;杨静;李兆涵;徐宇新 -专利权人：北京航天控制仪器研究所
申请日： 2020-08-27 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶片键合过程中对准检测方法，包括：在上晶片非键合面制作上晶片辅助对准标记和上晶片主对准标记；在下晶片键合面制作下晶片辅助对准标记和下晶片主对准标记；利用主对准标记进行上下晶片的对准后上下晶片错开，露出下晶片辅助对准标记，测量露出的下晶片辅助对准标记与上晶片辅助对准标记的横纵向的位置偏差，计算出对准标记偏差，合理控制对准偏差范围。本发明可以加工出对准精度高的敏感芯片，实现非透明晶片键合前对准的定量测试，本发明能确保芯片的质量和成品率。
一种晶片过程对准检测方法

[发明专利]硅片对准标记布局的优化方法-CN201911178873.0有效
发明人：李璟;丁敏侠;张清洋;朱世懂;折昌美;武志鹏;胡丹怡 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2019-11-26 - 公布日： 2022-04-29 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：一种硅片对准标记布局的优化方法，该方法包括初始化对准标记个数，选取对准标记所在的场格；根据硅片变形数据，优化对准标记所处场格；优化对准标记在场格中的位置；计算最小的对准标记个数，即完成所述硅片对准标记布局优化本发明通过优化方法给出最优的对准标记位置，从而提高套刻对准性能；通过优化方法给出最少对准标记测量个数，从而减少对准系统测量时间，为提升产率提供可能。
硅片对准标记布局优化方法

[发明专利]弹性平均对准系统和方法-CN201510087141.6在审
发明人： S.E.莫里斯;J.P.拉瓦尔;K.H.尹 -专利权人：通用汽车环球科技运作有限责任公司
申请日： 2015-02-25 - 公布日： 2015-08-26 - 主分类号： F16B19/02 文献下载
摘要：本发明提供了弹性平均对准系统和方法。在一个方面中，提供一种弹性平均对准系统。该弹性平均对准系统包括具有对准构件的第一部件和具有限定对准孔洞的内壁的第二部件。该对准孔洞包括插入部分、保持部分以及两者之间的过渡部分。对准构件被配置成用于插入到对准孔洞插入部分中并且随后穿过对准孔洞过渡部分平移到对准孔洞保持部分中。对准构件是弹性可变形材料，这样使得当将对准构件插入到对准孔洞的一部分中时，对准构件弹性地变形为弹性平均最终配置从而促进将第一部件相对于第二部件在所需定向上对准。
弹性平均对准系统方法