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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种吊具的检测对准方法和装置-CN202210486478.4在审
  • 邓丹;张振宇;曹家伟;钱炜;杨政 - 杭州飞步科技有限公司
  • 2022-05-06 - 2022-08-12 - B66C1/10
  • 本申请提供一种吊具的检测对准方法和装置。该方法包括：检测第一对准设备的位置以及第二对准设备位置；当第一对准设备从初始位置下降到第一位置后悬停，根据此时第一对准设备和第二对准设备的位置，确定第一对准设备和第二对准设备是否对准；当第一对准设备和第二对准设备没有对准时，对准装置控制第一对准设备和第二对准设备精确对准。其中，在卸箱过程时，该第一对准设备为吊具，该第二对准设备为集装箱，在装箱过程时，该第一对准设备为吊具和集装箱的组合设备，该第二对准设备为标准装箱位置。本申请保证第一对准设备下降到第二对准设备周围时，第一对准设备和第二对准设备精确对准，完成装卸箱操作。
  • 一种检测对准方法装置
  • [发明专利]对准扫描验证模拟装置及其控制方法-CN200910047762.6有效
  • 李焕炀;宋海军;徐荣伟 - 上海微电子装备有限公司
  • 2009-03-18 - 2009-08-05 - G03F7/20
  • 本发明提供了一种光刻设备的对准扫描验证模拟装置及其控制方法，该装置包括：对准扫描验证模拟控制器、对准扫描控制器、对准扫描位置发生器、对准扫描位置信息采集器、对准扫描光辐射信息发生器、对准扫描光辐射信息采集器、对准扫描信号处理器，其中，对准扫描验证模拟控制器设置对准扫描位置信息采集器和对准扫描光辐射信息采集器的工作状态，使对准扫描位置信息采集器能够接收对准扫描位置信息发生器生成的对准扫描位置数据信息，使对准扫描光辐射信息采集器能够接收对准扫描光辐射信息发生器生成的对准扫描光辐射信息
  • 对准扫描验证模拟装置及其控制方法
  • [发明专利]位置对准机构-CN201610784811.4在审
  • 刘玉恩 - 福建省龙竣金属制品有限公司
  • 2016-08-31 - 2017-02-08 - B23Q3/00
  • 本发明公开了一种位置对准机构，包括一基部、一剪式机构、四对准脚、拉力驱动单元。该基部设有滑道，该滑道具有弧形道结构。该剪式机构设有对准部，该对准部沿两连杆相对转动的转动轴线设置。该四对准脚分别设于两连杆末端，该对准脚配合滑道并能沿弧形道结构活动。该拉力驱动单元连接在对准脚或连杆末端上以使对准脚或连杆末端受到使两对准脚相近的拉力。它具有如下优点：对准步骤简便，对准精度高，使用对准机构能起到定位或稳定加工工具的作用，起到提高工作效率、精度的作用。
  • 位置对准机构
  • [发明专利]基板对准装置-CN201610862306.7在审
  • 梁皓植;裵埈成;方承德;卢一镐;金范准 - 圆益IPS股份有限公司
  • 2016-09-29 - 2017-08-11 - C23C16/52
  • 本发明涉及一种基板对准装置，利用在基板上形成的目标标记及在对象上形成的对象标记从而执行关于基板目标对准的基板对准装置，其特征在于，包括摄像机腔室，在真空腔室内部中提供独立密封的大气压收容空间，及对准摄像机，设置于摄像机腔室内部，并且拍摄目标标记及对象标记，及腔室移动单元，使摄像机腔室在真空腔室内部移动，从而可以缩短对准摄像机的运转距离，并且可以调整关于记号的对准摄像机聚焦区域。
  • 对准装置
  • [发明专利]检测未对准-CN201880060201.7在审
  • R·皮恩诺克;R·哈泽登 - 采埃孚汽车英国有限公司
  • 2018-09-18 - 2020-05-19 - G01S7/40
  • 一种用于检测车辆(3；23)的雷达单元(2；22)的未对准的设备，包括：磁体(1；21)，其可以是永磁体或电磁体，布置成安装在所述车辆(3；23)上、与所述雷达单元(2；22)间隔开；磁场传感器(4；2422)并且具有输出，在所述输出处的信号指示所述磁场传感器(4；24)处的磁场；以及处理器(5；25)，其联接到所述输出并且布置成基于所述磁场传感器(4；24)的所述输出确定所述雷达单元(2；22)的未对准
  • 检测对准
  • [发明专利]对准工艺方法-CN202110399490.7在审
  • 闫家翔;李佳龙;黄鹏;范晓 - 华虹半导体（无锡）有限公司
  • 2021-04-14 - 2021-08-06 - H01L21/68
  • 本发明公开了一种对准工艺方法，包括：步骤一、提供第二导电类型掺杂的底层半导体层，在对准标记区刻蚀出对准凹槽的图形结构；步骤二、依次形成第一介质层和第二多晶硅层将对准凹槽完全填充并组成对准标记，第二多晶硅层和第一介质层的顶部表面都和对准凹槽的顶部表面相平；步骤三、在底层半导体层中的选定区域中形成第一导电类型掺杂的埋层；步骤四、形成第二导电类型掺杂的顶层外延层，顶部外延层的顶部表面在对准标记区的内外相平；步骤五、在顶层外延层中进行光刻工艺，光刻工艺中的对准工艺以对准标记为对准条件进行对准本发明能形成清晰的对准标记且能形成平整表面，能增加后续与超深埋层结构的对准可靠性并增加光刻涂胶工艺的可靠性。
  • 对准工艺方法
  • [发明专利]对准标识结构-CN202110723560.X在审
  • 刘硕;赖璐璐 - 上海华力集成电路制造有限公司
  • 2021-06-29 - 2021-10-19 - H01L23/544
  • 本发明公开了一种对准标识结构，包括：多个光栅图形，各光栅图形沿对准标识结构的长度方向上排列且具有光栅图形间隔区。在光栅图形间隔区中设置有填充图形。填充图形保证不影响各光栅图形产生的对准信号且用于设置光栅图形间隔区的负载，使光刻图形的形成区域和光刻图形间隔区的负载差异缩小以保证光栅图形不产生失真形变。本发明能改善对准标识结构在化学机械研磨和刻蚀中负载效应，使得对准标识结构的形貌不产生失真变形，从而能提高对准信号的准确度，改善套刻精度的稳定性和精确度，还能减少由于负载效应差产生的缺陷。
  • 对准标识结构
  • [发明专利]边缘对准方法-CN202110279312.0在审
  • 小松淳;牧野香一 - 株式会社迪思科
  • 2021-03-16 - 2021-10-12 - H01L21/67
  • 本发明提供边缘对准方法，高精度地推定被加工物的边缘的位置。边缘对准方法具有如下步骤：坐标计算步骤，在被加工物的周向上，算在被加工物的外周部的不同的多个部位的各个部位处计算有可能与被加工物的边缘对应的一个点的坐标；近似圆生成步骤，对计算出的所有坐标使用最小二乘法来生成近似圆
  • 边缘对准方法
  • [发明专利]空间对准设备-CN202111121135.X在审
  • L.米黑尔斯库;V.A.尼格特 - 齐特奥股份有限公司
  • 2013-03-07 - 2022-01-28 - A61B8/08
  • 本公开提供了空间对准设备。该空间对准设备包括伽马射线检测器和与其刚性连接的测距传感器以及与存储器操作地耦合的处理器。存储器具有指令并存储伽马射线检测器与测距传感器之间的相对位置和方位。利用存储的伽马射线检测器与测距传感器之间的相对位置和方位对姿态进行变换，以确定伽马射线检测器相对于选择点的第一空间位置和方位，第一处理器将来自伽马射线检测器的扫描数据与伽马射线检测器的第一空间位置和方位相关联从而产生第一空间对准扫描
  • 空间对准设备
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