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- [发明专利]修正装置-CN202280017340.8在审
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杉本重人;水村通伸
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株式会社V技术
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2022-03-02
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2023-10-24
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G02F1/13
- 本发明的修正装置能够在不提高制造成本的情况下以高精度进行定位。该修正装置具有：第一平台，其具有吸附基板的吸附平台；门架，其设置在吸附平台的上侧；第二平台，其设置在门架；头部，其设置在第二平台，具有修正基板的修正头部；第一移动部，其改变第一平台和门架在第一方向上的相对位置；第二移动部，其改变第一平台和第二平台在与第一方向大致正交的第二方向上的相对位置；以及头部移动部，其使头部相对于第二平台移动。第二平台具有大致沿第一方向设置的第一轴，以及大致沿第二方向设置的第二轴，头部移动部使头部沿第一轴在第一方向上移动，使头部沿第二轴在第二方向上移动。头部移动部的定位精度比第一移动部的定位精度和第二移动部的定位精度高。
- 修正装置
- [发明专利]防护膜组件框架把持装置-CN202180077475.9在审
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米泽良
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株式会社V技术
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2021-11-11
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2023-08-01
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H01L21/673
- 本发明提供一种防护膜组件把持装置，即使防护膜组件框架变形也能够准确地进行防护膜组件框架的把持。具有：框体(10)，其为将多个棒状构件组合成大致矩形形状的框状的构件；多个防护膜组件把持构件(21)，其设置在框体(10)；以及驱动部，其设置在每个防护膜组件把持构件(21)，在将防护膜组件把持构件插入槽的第一位置与不将防护膜组件把持构件插入槽的第二位置之间使防护膜组件把持构件移动。防护膜组件把持构件(21)具有在防护膜组件把持构件(21)处于第一位置时一部分被插入槽的板状或棒状的顶端部。顶端部具有在防护膜组件把持构件(21)处于第一位置时被插入槽、在与作为防护膜组件把持构件的移动方向的第一方向大致正交的第二方向延伸设置的顶端面。在顶端部设置有表示距顶端面的距离的标记。
- 防护组件框架把持装置
- [发明专利]投影曝光装置以及投影曝光方法-CN202180062968.5在审
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榎本芳幸
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株式会社V技术
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2021-08-20
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2023-05-26
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G03F9/00
- 投影曝光装置(10)具备：能够向掩模标记(MM)照射曝光光自身或与曝光光实质上相同波长的光即第一对准光(L1)的掩模标记照明用光源(21)；以及对准单元(30)，其具有能够向工件标记(WM)照射与曝光光不同波长的第二对准光(L2)的工件标记照明用光源(31)、摄像装置(32)和摄像光学系统(40)。摄像光学系统(40)具备：第一分色棱镜(41)，其将第一对准光(L1)和来自工件标记(WM)的光合成并向摄像装置(32)射出；以及光路长度变更光学系统(42)，其使第一对准光(L1)分支并汇聚，工件标记(WM)与掩模标记(MM)的像(MMI)相对于摄像装置(32)的光学位置关系相等。由此，能够提供即使小尺寸的曝光区域也能进行高精度对准的投影曝光装置以及投影曝光方法。
- 投影曝光装置以及方法
- [发明专利]聚焦能量束装置-CN202180054193.7在审
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水村通伸;新井敏成;松本隆德;竹下琢郎
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株式会社V技术
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2021-07-27
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2023-04-28
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H01J37/18
- 提供一种聚焦能量束装置，其具备：支承部，其支承被处理基板；以及聚焦能量束柱状体，其具备差动排气装置且能够以与所述被处理基板的被处理面的任意区域对应的方式进行相对移动，其中，所述支承部在将所述被处理基板水平地配置的状态下仅支承所述被处理基板的周缘部，在由所述支承部支承的所述被处理基板的下方配置有正压腔室，所述正压腔室遍及所述被处理基板的被处理区域整体地施加正压，阻止所述被处理基板因自重产生的挠曲，在所述正压腔室内具备局部负压机构，所述局部负压机构维持与所述被处理基板的下表面不接触的状态来施加负压，来抵消所述差动排气装置的吸引力，所述局部负压机构维持隔着该被处理基板而与所述差动排气装置对置的状态，并且能够追随着所述差动排气装置而相对于被处理基板进行相对移动。
- 聚焦能量束装
- [发明专利]聚焦离子束装置-CN202180042279.8在审
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水村通伸
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株式会社V技术
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2021-06-29
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2023-02-03
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H01J37/18
- 提供一种聚焦离子束装置，其具备差动排气装置和聚焦离子束柱状体，还具备：真空垫，其使吸入面露出以围绕被处理基板的面方向的外侧，且由多孔质材料构成；基板支承台，其载置所述被处理基板和所述真空垫；以及真空泵，其对所述真空垫进行真空吸引，当所述差动排气装置的头部向所述被处理基板的面方向的外侧移动时，所述吸入面进行该吸入面与所述头部之间的空间的吸气，所述聚焦离子束装置无需大的真空腔室，对被处理基板的周缘附近也能进行处理，能够增大被处理基板中的处理区域。
- 聚焦离子束装置
- [发明专利]聚焦离子束装置-CN202180036774.8在审
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水村通伸
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株式会社V技术
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2021-06-17
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2023-01-31
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H01J37/317
- 本发明提供一种聚焦离子束装置，其具备聚焦离子束柱状体，所述聚焦离子束柱状体在镜筒中内置有聚焦离子束光学系统而将聚焦离子束从所述镜筒的前端部射出，其中，在从所述聚焦离子束光学系统射出的所述聚焦离子束的去路的附近配置有向被处理基板的表面供给电子的金属针、金属片等电子供给部、具备捕获二次带电粒子的检测部的微通道板等，聚焦离子束装置通过设为这样简单的结构，由此能够实现聚焦离子束装置的低成本化，并且能够有效地防止带电。
- 聚焦离子束装置
- [发明专利]加工装置-CN202180030902.8在审
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水村通伸;新井敏成;松本隆德;竹下琢郎
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株式会社V技术
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2021-05-31
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2022-12-09
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H01J37/18
- 加工装置具备：差动排气装置，其在头部中的与被处理基板对置的面形成有多个环状槽，该多个环状槽围绕所述头部的中心，在比所述多个环状槽中的最内侧的所述环状槽靠内侧的区域设置有开口部，该开口部形成能够对所述被处理面进行处理的处理用空间，在多个所述环状槽中的至少一个所述环状槽连结真空泵，在使所述对置面与所述被处理面对置的状态下，通过来自所述环状槽的吸气作用将所述处理用空间设为高真空度；以及聚焦离子束柱状体，其具备与所述开口部连结而能够与所述处理用空间连通的镜筒，在所述镜筒内内置有聚焦离子束光学系统而使聚焦离子束穿过所述开口部内而射出，在最内侧的所述环状槽连结原料气体供给部，从该环状槽朝向所述被处理面喷出原料气体而能够使原料气体沿着该被处理面向所述处理用空间移动。
- 加工装置
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