专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]多晶的制造装置-CN200820180533.2有效
  • 蓝崇文;徐文庆;谢兆坤;王兴邦;何思桦 - 昆山中辰矽晶有限公司
  • 2008-12-03 - 2009-11-11 - C30B29/06
  • 本实用新型多晶的制造装置,其至少包含有:石英坩埚,该石英坩埚中容置有融浆;加热器,该加热器设于该石英坩埚的外围;旋转提拉件,该旋转提拉件设于该石英坩埚上方;多晶形式的晶种,该多晶形式的晶种浸入石英坩埚的融浆当中,以析出多晶的结晶,并且结晶逐渐被析的过程中,该旋转提拉件以既定的速度将晶种上拉,使晶种的下端结晶依序以晶冠以及晶体构成的多晶,利用上述装置可以长成可供制作太阳能晶片原料的多晶
  • 多晶硅晶棒制造装置
  • [实用新型]多晶还原炉-CN202120443526.2有效
  • 吴锋;黄金发;韩秀娟 - 江苏鑫华半导体材料科技有限公司
  • 2021-03-01 - 2022-04-05 - C01B33/035
  • 本实用新型公开了多晶还原炉。该多晶还原炉包括:炉体;以及炉顶,所述炉顶设在所述炉体的顶部,所述炉顶的内表面设有热反射涂覆层。该多晶还原炉的炉顶内表面设有热反射涂覆层,由此,可以有效地将热量反射至顶部,从而提高顶部的温度,使该部分的温度与整体一致,对该部分的沉积起到积极作用,进而有效提高产品的良率。
  • 多晶还原
  • [发明专利]一种单晶直拉过程中除去杂质的方法-CN201010129749.8无效
  • 牛小群;余新明 - 浙江星宇电子科技有限公司
  • 2010-03-22 - 2010-07-21 - C30B15/20
  • 本发明涉及一种单晶直拉过程中除去杂质的方法,该方法是将多晶料放入石英坩埚中,逐渐升温至的熔点温度以上,多晶料开始溶化;当多晶料熔化到剩余很少的多晶料时,把炉内温度下降至中温,使剩余部分的多晶料溶化速度减缓或是不会被熔化,之后,漂浮在溶液表面上的熔点高于熔点温度的所有杂质,会逐渐并充分吸附在剩余部分未熔的多晶料上,然后插入籽晶,将吸附杂质的剩余部分的多晶硅料吊起即可。采用本发明方法,与原有技术相比,能减少1至2个小时的高温挥发时间,降低了能耗,而且高于熔点的所有杂质不被熔入溶液中,大大提高了拉制的单晶的纯度及质量。
  • 一种单晶棒直拉过程除去杂质方法
  • [实用新型]24对多晶还原炉-CN201020215600.7有效
  • 王姗 - 成都蜀菱科技发展有限公司
  • 2010-06-04 - 2011-04-06 - C01B33/021
  • 本24对多晶还原炉在炉子底盘上采用大对数电极、还原炉内壁设置光滑的银层,均匀设置多个进气喷嘴,使多晶还原炉中反应时的供料气体分布更均匀,反应更充分,多晶数量更多,从而显著提高了反应效率和单炉产量;并利用银的化学特性和良好的加工性,以及抛光后的镜面效果,在生产出纯度更高的多晶产品的同时,大幅度降低了能耗,大大降低了多晶的生产成本。
  • 24多晶还原

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