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[发明专利]基板装配装置-CN03138653.9有效
发明人：中山幸德;村山孝夫;平井明;八幡聪 -专利权人：日立产业有限公司
申请日： 2003-05-29 - 公布日： 2004-01-21 - 主分类号： G02F1/1339 文献下载
摘要：一种基板装配装置，在加压板(上板)2的中央部附近设置能上下伸缩的吸附衬垫，根据输入的上基板的挠曲量拉伸吸附衬垫，负压供给到设置在加压板上的吸附孔的同时也供给到吸附衬垫，吸附基板之后，通过收缩吸附衬垫使吸附衬垫的顶端部位于加压板的吸附面上，可以可靠地把基板保持在加压板上。从而可以解决在把大型基板输入贴合装置内并把上基板保持在加压板上时，当基板产生挠曲时存在不能可靠地保持基板的问题。
装配装置

[发明专利]片材供给装置和成像设备-CN201480020569.2无效
发明人：柴田和诚;笠间洋树;吉田康美;松本直;平塚崇;青山武史;青柳孝阳 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2014-03-20 - 公布日： 2015-11-25 - 主分类号： B65H3/18 文献下载
摘要：提供了一种片材供给装置和成像设备，其能够以简单构造和低噪音通过静电吸附供给片材。柔性吸附构件(29)的一个端部固定到沿片材供给方向旋转的保持构件(24)，柔性吸附构件在保持构件(24)旋转时弹性变形并与存储在片材供给盒(20)中的片材(P)的表面接触，片材(P)通过由于静电产生的吸附力吸附然后，在卷起吸附构件(29)时将吸附到吸附构件(29)的片材(P1)输送到对准辊(15)，随后保持构件(24)停止在吸附构件(29)与片材分离开的位置。
供给装置成像设备

[实用新型]基板清洗装置-CN201920580539.7有效
发明人：滝口靖史;山本太郎;京田秀治 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-04-25 - 公布日： 2019-12-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种基板清洗装置，具备：第1吸附保持部，其吸附基板背面的不与中央部重叠的区域并保持为水平；第2吸附保持部，其吸附基板背面的中央部并保持为水平；第1清洗部件及第2清洗部件，其设置为相互在横方向分离；回转机构其设置于回转机构的下方；以及清洗液供给部，其设置于第1清洗部件及第2清洗部件的附近，其中，至少在清洗包含中央部的基板背面的区域时，回转轴配置为位于与基板重叠的位置，第1清洗部件及第2清洗部件配置为：在基板被保持于第2吸附保持部并旋转时，从回转轴观察第2吸附保持部的旋转轴，位于左侧及右侧中的一方侧的第1清洗部件朝向另一方侧回转并移动。
清洗部件吸附保持部中央部回转机构吸附基板回转轴基板清洗装置清洗液供给部基板重叠升降机构基板背旋转轴回转基板配置清洗观察移动

[发明专利]吸引保持手、吸引保持方法及输送装置-CN201010166514.6无效
发明人：守屋智德 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2010-04-20 - 公布日： 2010-10-27 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：一种能够将保持对象物相对于保持终端的吸附端面的姿势保持为固定，抑制保持对象物相对于吸附端面的姿势不固定发生倾斜、不能确保吸附端面与保持对象物之间的间隙、吸附端面与保持对象物接触等的吸引保持手、吸引保持方法及输送装置吸引保持手利用回旋流产生室产生的气体的回旋流的中心部产生的负压和从回旋流产生室的端部向侧方流出的气体，以非接触方式对保持对象物吸引保持，吸引保持手具备：吸引垫，其具有开设了回旋流产生室的吸引用吹出口的吸引保持面；气体吹出装置，其具有配设在与被吸引面对置，而能够向被吸引面吹出压缩气体的位置的多个吹出孔，所述被吸引面与被吸引垫吸引而位于面对吸引保持面的位置上的保持对象物的面大致连续。
吸引保持方法输送装置

[发明专利]元件吸附嘴、元件搬送装置及元件安装装置-CN201480079069.6有效
发明人：大西正志 -专利权人：雅马哈发动机株式会社
申请日： 2014-05-30 - 公布日： 2019-02-22 - 主分类号： H05K13/04 文献下载
摘要：一种元件吸附嘴，包括：吸嘴主体部；元件吸附部，以能够绕水平的轴的轴心转动的方式被吸嘴主体部支撑；保持机构，将元件吸附部保持在该元件吸附部的转动方向上彼此不同的第一位置及第二位置；位置切换机构，包含在元件吸附部被保持在第一位置的第一保持状态下基于接受外力而向该外力的输入方向位移的第一外力输入部以及在元件吸附部被保持在第二位置的第二保持状态下基于接受外力而向该外力的输入方向位移的第二外力输入部，而且，一方面通过将第一外力输入部的位移变换为元件吸附部的转动位移而使元件吸附部从第一位置位移到第二位置，另一方面通过将第二外力输入部的位移变换为元件吸附部的转动位移而使元件吸附部从第二位置位移到第一位置
元件吸附装置安装

[发明专利]基板浮起输送装置-CN202110279162.3在审
发明人：武井崇;上原淳一 -专利权人：东丽工程株式会社
申请日： 2021-03-16 - 公布日： 2021-09-17 - 主分类号： B05C13/02 文献下载
摘要：提供基板浮起输送装置，通过适当保持基板在宽度方向上的保持状态，能够抑制涂敷精度的恶化。浮起输送装置构成为具有：浮起载台，其使基板浮起；基板保持单元，其对在所述浮起载台浮起的基板进行保持；以及输送驱动部，其使所述基板保持单元在一个方向上移动，在基板被所述基板保持单元保持的状态下，通过所述输送驱动部使所述基板保持单元移动，从而在一个方向上输送基板，其中，所述基板保持单元具有吸附基板的吸附部，并且仅在宽度方向一侧设置有应力缓和机构，该应力缓和机构在所述吸附部在与输送方向垂直的宽度方向上受到负荷的情况下，允许所述吸附部在宽度方向上位移
浮起输送装置

[发明专利]电子部件的处理装置-CN202080070534.5在审
发明人：大场一矢 -专利权人：上野精机株式会社
申请日： 2020-10-05 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：电子部件的处理装置具备：片材保持部，保持具有粘贴有电子部件的粘贴面的片材；多个吸附部，沿着穿过吸附区域的圆轨道排列；回转部，保持多个吸附部；回转驱动部，使回转部回转；顶出部，将片材向吸附区域侧顶出；片材位置调节部，在沿着粘贴面的方向变更片材保持部的位置；以及顶出位置调节部，在沿着粘贴面的方向变更顶出部的位置。
电子部件处理装置

[发明专利]香料担载吸附剂粒子、香烟用过滤嘴、带过滤嘴的香烟及香料担载吸附剂粒子的制造方法-CN201280035193.3有效
发明人：藤田亮治;稻垣道弘;千田正浩;须尧三晴;武藤广通;笹川清弘 -专利权人：日本烟草产业株式会社
申请日： 2012-07-11 - 公布日： 2014-04-02 - 主分类号： C11B9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种香料担载吸附剂粒子，其具备具有700m2/g以上的BET比表面积的吸附剂核粒子、和担载于所述吸附剂核粒子表面且含有香料及保持所述香料的香料保持材料的香味产生介质，其中，所述香料保持材料以所述香料担载吸附剂粒子的总重量的5～20%的量存在，所述香料以所述保持材料的重量的10～50%的量存在。
香料吸附剂粒子香烟过滤嘴制造方法

[发明专利]板状物的搬运装置和切削装置-CN201510172448.6在审
发明人：茶野伦太郎 -专利权人：株式会社迪思科
申请日： 2015-04-13 - 公布日： 2015-11-04 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：搬运装置(1-1)具有保持板状物的保持单元(10)、和使保持单元(10)从规定的位置起移动至卡盘台的移动单元(20)，保持单元(10)具有：连结于移动单元(20)的支撑基座部(11)；非接触式吸附保持器(12)，其配设于支撑基座部(11)的下表面(11b)，喷出空气，生成负压，并以非接触的方式吸附保持板状物的上表面；限制单元(13)，其在支撑基座部(11)的下表面(11b)配设于板状物的外周区域，限制保持于非接触式吸附保持器(12)上的板状物的水平移动；以及翘曲量检测单元(14)，其检测所搬运的板状物的翘曲量，在板状物的翘曲量为规定的量以下的情况下，通过非接触式吸附保持器(12)吸附并搬运。
板状物搬运装置切削

[发明专利]旋转保持装置及具备该旋转保持装置的衬底处理装置-CN202111032159.8在审
发明人：徐飞;熊田雄介;甲盛谆 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-09-03 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明涉及一种旋转保持装置及具备该旋转保持装置的衬底处理装置。旋转保持装置具备：吸附保持部，具有吸附保持衬底的下表面中央部的上表面；及旋转驱动部，使吸附保持部绕铅垂轴旋转。在该情况下，在旋转保持装置中设置对未由吸附保持部吸附保持的衬底的下表面周缘部的至少一部分的温度进行调整的温度调整部。
旋转保持装置具备衬底处理

[发明专利]晶片的吸附确认方法、脱离确认方法和减压处理装置-CN201710584227.9有效
发明人：千东谦太 -专利权人：株式会社迪思科
申请日： 2017-07-18 - 公布日： 2022-12-20 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：提供吸附确认方法、脱离确认方法和减压处理装置，容易对静电卡盘是否吸附着晶片进行确认。一种吸附确认方法，在保持晶片的搬送单元将晶片搬入到静电卡盘上时，对该静电卡盘是否吸附保持着晶片进行确认，其中，该吸附确认方法具有如下的工序：连接工序，使搬送垫所保持的晶片与静电卡盘接触，借助晶片而使静电卡盘和搬送垫连接；以及吸附判断工序，在实施了该连接工序之后，当从直流电源经由第1配线提供电力时的、配设在该第1配线中的电阻的两端的电压值达到规定的电压值时，判断为静电卡盘的保持面吸附着晶片。
晶片吸附确认方法脱离减压处理装置

[发明专利]喷墨记录装置-CN201280019857.7有效
发明人：立石智隆;松井康祐 -专利权人：柯尼卡美能达株式会社
申请日： 2012-04-25 - 公布日： 2014-01-08 - 主分类号： B41J11/06 文献下载
摘要：本发明涉及喷墨记录装置，其使用了根据温度而相变为凝胶状或固体状、或液状的墨，其中，在通过经由与记录介质相接触的吸附孔的空气吸引来将记录介质吸附固定的记录介质固定装置的应用时，防止吸附孔的花纹浮出于图像。通过经由与记录介质(M)相接触的吸附孔(61)的空气吸引来将该记录介质吸附固定的记录介质固定装置(2),具有形成吸附孔、保持为墨成为凝胶状或固体状的温度的记录介质保持层(6)和由支承记录介质保持层的至少一层构成、形成了与吸附孔连通的吸引孔(71)的支承层(7)，吸附孔的与记录介质相接触的开口端的开口面积比吸引孔的与记录介质保持层相接触的开口端的开口面积小。由此降低在吸附孔上和吸附孔周围的部件上的温度不均，防止吸附孔的花纹浮出于图像。
喷墨记录装置

[实用新型]一种用于化学机械研磨的研磨头-CN202022699268.2有效
发明人：姚力军;潘杰;惠宏业;王学泽;杨加明 -专利权人：上海江丰平芯电子科技有限公司
申请日： 2020-11-19 - 公布日： 2021-08-27 - 主分类号： B24B37/30 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种用于化学机械研磨的研磨头，所述研磨头包括本体部、密封环、保持环、腔体室、吸附膜以及通道；所述本体部的下方依次连接有密封环和保持环，所述密封环和保持环围成的环形区域中设有吸附膜，所述本体部和吸附膜之间的区域为腔体室，所述吸附膜的下方依次设置晶圆和研磨垫，所述吸附膜的侧面与保持环接触，所述保持环的底部与研磨垫接触；所述通道嵌入本体部中，包括第一通道和第二通道，所述第一通道的一端延伸至腔体室，所述第二通道的一端延伸至吸附膜和晶圆接触面处；所述吸附膜的下部边缘弧度接近直角。本实用新型通过对吸附膜结构的改进，从而提高了晶圆边缘的研磨率，提升了晶圆的良率。
一种用于化学机械研磨

[发明专利]保持垫片-CN201480081839.0在审
发明人：矢岛利康;二宫大辅 -专利权人：丸石产业株式会社
申请日： 2014-11-26 - 公布日： 2017-08-18 - 主分类号： B24B37/30 文献下载
摘要：本发明涉及一种保持垫片，该保持垫片为用以保持被研磨构件的保持垫片。本发明的保持垫片具有保持层。所述保持层在其表面上的一部分具有模板固定部，用以贴附防止被研磨构件的横向偏移用的模板；所述模板固定部在其表面具有用以吸附固定模板的吸附层；所述吸附层以由既定的硅氧烷所构成的聚硅氧交联而成的组合物所形成。本发明的保持垫片使模板为可脱附，并可在研磨处理时确实固定模板。
保持垫片

[发明专利]检测装置、机械装置以及作业车辆-CN202080008170.8在审
发明人：筑后宽之;堀秀司;东春那 -专利权人：株式会社小松制作所
申请日： 2020-02-26 - 公布日： 2021-08-13 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：检测装置具备：拍摄部；第一保持部，其保持拍摄部；磁铁，其具有面对供流体流通的流通空间的吸附面，且吸附面隔着流通空间与拍摄部对置；第二保持部，其保持磁铁；以及连接部，其与第二保持部连接，且具有开口部。
检测装置机械以及作业车辆