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[实用新型]一种平面硅靶材-CN201120227524.6有效
发明人：罗永春 -专利权人：厦门映日光电科技有限公司
申请日： 2011-06-30 - 公布日： 2012-01-25 - 主分类号： B32B9/04 文献下载
摘要：本实用新型公开一种平面硅靶材，包括平板型硅材，其特征在于：平板型硅材的背面依次镀有铬材料层、镍铬材料层、银材料层，最后在银材料层上涂铟材料层；所述的平板型硅材为正方形或长方形；所述的平板型硅材为多晶硅；本实用新型铟材料层与平板型硅材的粘合强度高且导电性能较好，提高靶材使用的可靠性。
一种平面硅靶材

[实用新型]一种利用率高的多弧离子镀靶材结构-CN202220223053.X有效
发明人：马高;何江海;朱浩良;邓晓良 -专利权人：苏州吉恒纳米科技有限公司
申请日： 2022-01-27 - 公布日： 2022-07-05 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种利用率高的多弧离子镀靶材结构，包括靶材，绕着靶材正面的边缘设有一圈凸起的靶材围边，使靶材整体厚度达到10‑11mm，所述靶材围边为圆环形，靶材围边外侧壁为圆柱形，靶材围边的端面为向内倾斜的环形坡面，靶材围边内侧壁与环形坡面之间通过圆倒角过渡连接；本实用新型将靶材边缘的靶材围边抬高，在引弧时，打火针能与靶材围边充分接触引弧，有效提高靶材利用率。
一种利用率离子镀结构

[实用新型]一种磁控溅射设备-CN201320458139.1有效
发明人：房明;崔培育 -专利权人：天津市长久科技发展有限公司
申请日： 2013-07-29 - 公布日： 2014-03-05 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型提供一种磁控溅射设备，包括固定板、背板及靶材，所述背板及靶材通过竖直板固定在所述固定板上，所述背板上焊接有所述靶材，所述靶材四周边缘设有挡边条，所述靶材下方被击穿部位设有凸起部，所述凸起部呈圆形，所述背板的上表面设有凹槽，所述凹槽与所述凸起部形状相匹配，所述凸起部的数量与所述凹槽的数量相同，均为四个，四个所述凸起部分别设置于所述靶材的四个角上。本实用新型的有益效果是可以有效提高靶材利用率，延长靶材寿命。
一种磁控溅射设备

[发明专利]多层离子环保镀-CN201910163083.9在审
发明人：蒋建华;向毅 -专利权人：昆山金百辰金属科技有限公司
申请日： 2019-03-05 - 公布日： 2019-06-07 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种多层离子环保镀，涉及真空镀领域，旨在解决现有技术中采用水电镀会污染环境的问题，其技术方案要点是：在密闭的空间内，使真空度达到5.0pa～9.0pa；然后在空间内加热至150℃～280℃；然后通电使二氧化钛靶材离子化后附着在工件表面，通电使铜靶材附着，铜的厚度保持1‑5μm；在上述密闭空间内通电靶材使镍铬合金附着在铜表面，通电使铬靶材附着在镍铬合金表面，在真空度为5.0‑6.0pa的环境中，充入稀有气体达到3～5pa；通电使AF保护膜蒸发为离子态后
附着通电多层工件表面镍铬合金保护膜水电镀离子环保二氧化钛靶材技术方案要点密闭空间耐腐蚀性稀有气体铬靶材离子镀离子化离子态铜靶材铜表面真空镀密闭耐磨靶材加热蒸发污染

[发明专利]一种高电阻温度系数氧化镍铬热敏薄膜制备方法-CN201711180843.4在审
发明人：王彬;李宁;宿杰;迟宗涛;蔡恩林;刘敬权 -专利权人：青岛大学
申请日： 2017-11-23 - 公布日： 2018-06-01 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种高电阻温度系数氧化镍铬热敏薄膜制备方法，可用于红外探测、调制器、光开关等领域的氧化镍铬半导体薄膜及其制备：采用金属镍铬合金靶材，使用磁控溅射方法，在有氮化硅缓冲层的单晶硅衬底上沉积得到Cr‑Ni‑O薄膜，再进行400℃以下的后退火处理，制备氧化镍铬半导体薄膜。本发明氧化镍铬薄膜具有室温附近电阻温度系数高达3.5％/K，制备兼容CMOS工艺，可应用于非致冷红外探测器、光开关、智能玻璃等方面，具有广泛的应用前景。
氧化镍铬制备高电阻温度系数半导体薄膜热敏薄膜光开关薄膜非致冷红外探测器电阻温度系数单晶硅磁控溅射合金靶材红外探测金属镍铬智能玻璃氮化硅调制器后退火缓冲层衬底可用沉积应用兼容

[发明专利]一种高纯度、高成分均匀性的镍铬合金靶材及其制备方法-CN201210236313.8有效
发明人：吴波;黄超然;刘海龙;王敏;李锋宝 -专利权人：福州大学
申请日： 2012-07-10 - 公布日： 2012-10-17 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种高纯度、高成分均匀性的镍铬合金靶材及其制备方法，采用的技术方案是：基于材料科学与工艺计算模拟仿真的结果，对镍—铬系列合金靶材的熔炼、凝固、热机械加工和退火热处理工艺参数进行精密控制，本发明方法所设计和制备的镍—铬系列合金靶材，合金成分范围宽，按原子百分含量计可含5%~95%镍，含杂质≤0.0005%，及含余量的铬，可广泛应用于光电、数据存储工业、集成电路、光通讯工业等高精尖行业。
一种纯度成分均匀合金及其制备方法

[发明专利]溅射靶的制造方法及溅射靶-CN201780003736.6有效
发明人：泷川干雄;寺泽俊之 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2017-07-10 - 公布日： 2019-08-23 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：溅射靶的制造方法，其中，利用热板，一边对靶材的上表面的中心部以先于该上表面的外周部的方式从上方进行推压，一边进行加热，从而将靶材扩散接合于背板材。
溅射靶上表面扩散接合外周部中心部靶材对靶热板推压加热制造

[发明专利]线性正温度系数金属膜热敏电阻器的制造方法-CN93111746.1无效
发明人：陈国平;张随新;张浩康 -专利权人：东南大学
申请日： 1993-09-17 - 公布日： 1997-07-16 - 主分类号： H01C17/12 文献下载
摘要：线性正温度系数金属膜热敏电阻器的制造方法包括热敏电阻基体预处理、靶材制备、磁控贱射镀膜、膜层热处理和电极制作，靶材通过选用Ni、Cr、Fe、Ti、Au、Ag、Pt、Cu、Al、Mn等纯金属或康铜、锰铜、铁铬铝、镍铬铝、镍铁等合金板块的品种并以相间形式排列，构成组合靶材，磁控溅射镀膜制得的薄膜的真空热处理温度为300～500℃，时间为2～5小时，真空度为(2～8)×10-3帕，其电阻器的电阻—温度特性的线性偏差小于
线性温度系数金属膜热敏电阻器制造方法

[发明专利]一种镍基合金靶材的制备方法-CN202111548176.7在审
发明人：王兰;黄宇彬;童培云;朱刘 -专利权人：先导薄膜材料（广东）有限公司
申请日： 2021-12-15 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种镍基合金靶材的制备方法，属于金属靶材制备领域。该方法包括以下步骤：首先将铝和钇一同置于真空熔炼炉内的坩埚里，进行熔炼得到铝钇中间合金熔液，然后浇铸到模具中得到铝钇中间合金；其次将铝钇中间合金、镍、铬、硅与硼一同置于真空熔炼炉内的坩埚里，进行熔炼得到镍铬铝钇硅硼熔液，然后浇铸到模具中得到镍基六元合金实心圆锭坯；最后将镍基六元合金实心圆锭坯依次进行热等静压处理、热挤压处理、退火、校直冷却、机加工后，得到镍铬铝钇硅硼管靶。
一种合金制备方法

[发明专利]非连续型磁性溅镀靶材装置-CN201810270288.2在审
发明人：李原吉;刘品均;杨峻杰;陈松醮;蔡明展;林子平 -专利权人：友威科技股份有限公司
申请日： 2018-03-29 - 公布日： 2019-10-11 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供一种非连续型磁性溅镀靶材装置，其包含：基板以及靶材单元，靶材单元设置于基板，靶材单元具有长条状的内侧靶材、内环靶材及外环靶材，内环靶材设于内侧靶材与外环靶材之间，其中，内环靶材具有两对应设置的内环长边及连接两内环长边的两内环短边，两内环长边具有内环切断接缝，内环切断接缝的两侧形成对应连接的两内环断面；据此，使内环靶材呈不连续环状结构，以改善应力变形翘曲的问题。
内环靶材长边溅镀靶材非连续基板接缝单元设置环状结构应力变形不连续长条状短边翘曲

[实用新型]一种拼接型陶瓷靶材-CN202023303456.5有效
发明人：周其刚;李宪民;侯金明 -专利权人：南京欧美达应用材料科技有限公司
申请日： 2020-12-30 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种拼接型陶瓷靶材，包括多个固定在背板上的陶瓷靶材片，两片相邻的陶瓷靶材片的接触面上设有形状相吻合从而能将两片相邻的陶瓷靶材片拼接在一起的拼接边；两个相邻陶瓷靶材片中的其中一个陶瓷靶材片的拼接边倒置，另一陶瓷靶材片的拼接边向上设置在向下设置的拼接边的下方，从而使所述两个相邻的陶瓷靶材片贴合在一起；所述拼接边包括第一拼接边，所述第一拼接边的形状为中心对称的倒S形，所述第一拼接边上设有相适应的凹槽和凸起本实用新型的陶瓷靶材片采用拼接边拼接，与现有技术的拼接相比不存在贯穿的缝隙，有利于提高产品质量。
一种拼接陶瓷

[发明专利]一种镍铬铝钇涂层的制备工艺-CN202310452406.2在审
发明人：李文浩;林荣强;张瑞武;钱原吉;靳浩天 -专利权人：江苏源清动力技术有限公司
申请日： 2023-04-25 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种镍铬铝钇涂层的制备方法，将待镀工件表面清理后采用湿喷砂处理，采用弧光放电化学气相沉积法在待镀工件表面进行涂层沉积，以NiCrAlY合金为靶材，沉积结束后通过热处理，将镀件置于真空热处理炉内中进行扩散处理2‑3h，制备得到镍铬铝钇涂层。本发明制备方法简单，步骤易于操作，制备得到的镍铬铝钇涂层均匀性好，涂层厚度精准可控，涂层韧性好且具有较好的抗氧化性。
一种镍铬铝钇涂层制备工艺

[实用新型]大面积高透镀膜玻璃-CN201420310379.1有效
发明人：杨宏斌;李忠祥 -专利权人：北京物华天宝镀膜科技有限公司
申请日： 2014-06-11 - 公布日： 2015-03-25 - 主分类号： C03C17/36 文献下载
摘要：一种大面积高透镀膜玻璃，包括玻璃基片，所述玻璃基片为浮法玻璃基片；在所述浮法玻璃基片上依次沉积第一氮化硅SiNx层、第一陶瓷AZO层、第一金属镍铬NiCr层、金属银Ag层、第二金属镍铬NiCr层、第二陶瓷AZO层和第二氮化硅SiNx层；所述第一氮化硅SiNx层厚度为50-100nm，所述第一陶瓷AZO层10-30nm，所述第一金属镍铬NiCr层厚度为3-10nm，所述金属银Ag层厚度为3-9nm，所述第二金属镍铬本实用新型的积极效果：解决因使用新型单靶直流溅射沉基陶瓷AZO靶制作高透产品时出现电纹状质量问题，适用于镀多层镀膜结构，能有效降低电源、靶材和其它附带费用。
大面积镀膜玻璃

[发明专利]耐加工高透可钢化镀膜玻璃及其制作方法和中空玻璃件-CN202210737953.0在审
发明人：刘霄枫 -专利权人：天津旗滨节能玻璃有限公司
申请日： 2022-06-27 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： C03C17/36 文献下载
摘要：本发明公开一种耐加工高透可钢化镀膜玻璃及其制作方法和中空玻璃件，其中，该制作方法，包括以下步骤：分别用靶材对玻璃基层表面进行真空磁控溅射，依次进行溅射形成第一介质层、溅射形成功能层、溅射形成保护层以及溅射形成第二介质层；在所述溅射形成保护层步骤包括以下步骤：溅射形成NiCr层，在所述NiCr层外侧溅射形成AZO层；在溅射形成AZO层步骤中的靶材的电阻率小于2.4×10‑3Ω.cm，比之现有技术中的采用的AZO靶材(空位氧含量12‑16％)，有着更高的空位氧含量(＞20％)，溅射过程中与镍铬结合更加紧密，钢化过程中耐氧性更佳，该保护层的使用有效的保证了玻璃的钢化加工性并可大幅度减少镍铬的使用从而有效提高钢化前后的透过率
加工高透可钢化镀膜玻璃及其制作方法中空玻璃

[实用新型]一种拼接型金属靶材-CN201922398725.1有效
发明人：周其刚;戴慧敏;李宪民 -专利权人：南京欧美达应用材料科技有限公司
申请日： 2019-12-27 - 公布日： 2020-08-25 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种拼接型金属靶材，包括若干金属靶材片，每个所述金属靶材片至少设有一个相同的L型边，两个相邻金属靶材片中的其中一个金属靶材片的L型边正放，另一金属靶材片的L型边倒扣在正放的金属靶材片的L优点：本实用新型的金属靶材采用L型拼接，与现有技术的拼接相比不存在贯穿的缝隙，而且通过凹槽和凸起的设置，能够将相邻的靶材片牢牢固定在一起，能够防止靶材片偏移或者位移，进一步避免产生缝隙。
一种拼接金属