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[发明专利]高耐磨耐湿性银基低辐射镀膜玻璃-CN201610343471.1在审
发明人：庄志杰;曹兴民;顾宗慧 -专利权人：基迈克材料科技（苏州）有限公司
申请日： 2016-05-23 - 公布日： 2016-08-10 - 主分类号： C03C17/36 文献下载
摘要：高耐磨耐湿性银基低辐射镀膜玻璃,在玻璃基片(1)上依次镀覆有第一氧化锌铝膜层(2)、第一镍铬膜层(3)、银膜层(4)、第二镍铬膜层(5)、第二氧化锌铝膜层(6)和锡氧化硅膜层(7)；引入新材料制备覆盖层，优化配置覆盖层结构减少银基镀膜靶材中SiAl材料的使用，降低成本且节约能源，能够在低辐射性能不变的条件下有效提高耐磨和耐湿性，减少损耗，提高使用寿命。
耐磨耐湿性银基低辐射镀膜玻璃

[发明专利]一种端部强化旋转靶材及其制备方法-CN202010493073.4在审
发明人：林志河;张瑜;汪家兵 -专利权人：福建阿石创新材料股份有限公司
申请日： 2020-06-03 - 公布日： 2020-08-28 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及溅射靶材制备技术领域，具体涉及一种端部强化旋转靶材及其制备方法。本发明提供的端部强化旋转靶材，包括旋转靶材和固定在所述旋转靶材两端的靶材连接法兰；所述固定的方式为螺纹连接结合导电银胶填充；所述靶材连接法兰包括法兰盘和设置在所述法兰盘一面的螺纹杆；所述螺纹杆上设有外螺纹，所述旋转靶材的两端设置内螺纹，所述内螺纹的尺寸与所述螺纹杆上外螺纹的尺寸相配合。本发明利用螺纹杆上的外螺纹与旋转靶材的端部固定，配合导电银胶提高连接强度，借助法兰盘的高强度，能够有效提高靶材和设备连接部位的强度，相比较一体靶材能够有效避免旋转靶材在安装过程中出现损坏。
一种强化旋转及其制备方法

[实用新型]一种靶材背面固定式平面靶和真空溅射镀膜设备-CN202022854218.7有效
发明人：汪选林 -专利权人：深圳森丰真空镀膜有限公司
申请日： 2020-12-01 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种靶材背面固定式平面靶，包括：靶材、靶体、轭铁、磁铁、压板、绝缘套和屏蔽罩；靶体内部限定有容纳腔，容纳腔具有插入口，轭铁上设有磁铁，轭铁通过插入口插入安装到容纳腔内，轭铁上设有第一水流通道，轭铁的外侧壁、磁铁与容纳腔的内侧壁限定出第二水流通道，第一水流通道与第二水流通道连通；靶材设于靶体的前侧面，压板的前后两端分别形成第一弯折部和第二弯折部，第一弯折部勾设在靶材上，第二弯折部与靶体相连，屏蔽罩罩设在靶体和压板外。在这种结构形式下，第一弯折部不需要做的很大，只需能勾住靶材即可，因此相同靶体宽度下，靶材可以做的较宽，而且屏蔽罩能保护非靶材材质溅射到货品上，提高镀膜品质。
一种背面固定平面真空溅射镀膜设备

[发明专利]一种共溅射稀土旋转靶材、制备方法及其应用方法-CN202211099776.4在审
发明人：陈德宏;王志强;钟嘉珉;李宗安;程军;庞思明;杨秉政;王爽;张艳岭;张小强;刘德忠;韩立国 -专利权人：有研稀土新材料股份有限公司;有研稀土高技术有限公司
申请日： 2022-09-07 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明实施例涉及一种共溅射稀土旋转靶材、制备方法及其应用方法，所述共溅射稀土旋转靶材包括设置于靶材轴向端部的2节端部靶管和设置于2节端部靶管之间靶材沿轴向中间区域的若干节稀土靶管和若干节共溅射靶管，所述若干节稀土靶管和若干节共溅射靶管间隔设置，各节靶管之间通过焊接相互拼接；所述共溅射靶管选自铝、铜、镍、铁和镨靶管中的至少一种，所述端部靶管为非稀土靶管或稀土靶管。本发明实施例提供的技术方案，将稀土靶管与铝、铜等共溅射元素靶管组合在同一支旋转靶材，实现稀土和共溅射元素同时附着在钕铁硼表面，在提高稀土靶材利用率和溅射效率的同时，可以达到缩短晶界扩散时间和降低扩散温度的有益技术效果
一种溅射稀土旋转制备方法及其应用

[实用新型]一种溅射装置-CN201820111755.2有效
发明人：白雨成;全义九;李相文;张昌泳;丁钟国;边娜恩 -专利权人：株式会社SELCOS;胜显（上海）商贸有限公司
申请日： 2018-01-23 - 公布日： 2018-11-02 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种溅射装置，包括第一旋转靶材、第二旋转靶材、被溅镀物、主遮挡板单元、溅镀罩单元、控制部以及靶材；第一旋转靶材和第二旋转靶材并列设置、呈正棱柱状且能够中心旋转；被溅镀物设置在第一旋转靶材和第二旋转靶材的下方；主遮挡板单元设置在第一旋转靶材、第二旋转靶材及被溅镀物之间；溅镀罩单元设置在主遮挡板单元及被溅镀物之间；控制部用于控制第一旋转靶材、第二旋转靶材、主遮挡板单元以及溅镀罩单元；第一旋转靶材、第二旋转靶材侧面分别设置释放不同溅镀物质的靶材本方案能够满足利用两种靶材，在一个基板上用一次工艺溅镀多种混合比例的薄膜，或能够在一个基板上溅镀具有特定混合比例的两种溅镀物质的薄膜。
旋转靶材溅镀遮挡板罩单元靶材溅射装置基板薄膜本实用新型并列设置单元设置中心旋转棱柱状侧面释放

[发明专利]溅射靶材、靶材组件及靶材组件的制作方法-CN202210091744.3在审
发明人：大岩一彦;姚科科;山田浩 -专利权人：浙江最成半导体科技有限公司
申请日： 2022-01-26 - 公布日： 2022-04-15 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种溅射靶材，包括靶材本体；靶材本体侧面外凸形成环形凸部；靶材本体的正面相对于环形凸部的正面凸出，靶材本体的背面相对于环形凸部的背面凸出。本发明还公开了一种靶材组件，包括所述的溅射靶材和设置在环形凸部背面的背板环，以及可选择性的设置在环形凸部正面的正面环。本发明还公开了所述靶材组件的制作方法，将环形凸部与背板环，或背板环、正面环，进行焊接接合，焊接头自背板环背面靠近外侧面插入直至接触或伸入环形凸部或正面环，焊接过程中焊接头逐渐向背板环内侧面移动。
溅射组件制作方法

[发明专利]磁控溅射装置的靶材结构-CN201510719320.7在审
发明人：李金磊 -专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日： 2015-10-29 - 公布日： 2016-02-03 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开一种磁控溅射装置的靶材结构，包含一背板、一靶材及一粘合层；所述背板包含一前端面、一后端面及一隆起部；所述靶材包含一冷却表面、一溅射表面及一凹陷部，所述冷却表面设置在所述背板的前端面上，所述溅射表面相对于所述冷却表面，所述凹陷部形成在所述冷却表面上，并用以组合于所述隆起部。通过所述隆起部及凹陷部的设计，加厚所述靶材边缘的厚度，可以延长靶材边缘的消耗时间，进而提高靶材的使用寿命。
磁控溅射装置结构

[发明专利]一种镍铬合金溅射靶材及其热等静压制备方法-CN202110349682.7有效
发明人：姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;黄东长 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2021-03-31 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种镍铬合金溅射靶材及其热等静压制备方法，所述热等静压制备方法包括：先准备Cr含量为30‑80wt％的镍铬合金粉，装入模具并封口；然后依次进行脱气处理、热等静压处理以及机加工，得到镍铬合金溅射靶材本发明所述热等静压制备方法采用热等静压工艺，不仅可以制备得到致密度≥99％、晶粒尺寸细小、内部结构均匀的高铬含量的镍铬合金溅射靶材，还可以保证镍铬合金溅射靶材的磁通量≥99％，符合半导体等高精端产业的溅射要求
一种合金溅射及其静压制备方法

[发明专利]一种功能型可钢化低辐射镀膜玻璃及其制备方法-CN202210277944.8在审
发明人：田永刚;陈玉平;陈齐平 -专利权人：新福兴玻璃工业集团有限公司;福州新福兴玻璃有限公司;福建新福兴玻璃智能科技有限公司
申请日： 2022-03-21 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： C03C17/36 文献下载
摘要：所述功能型可钢化低辐射镀膜玻璃包括依次紧密叠合的玻璃基片、第一硅铝合金膜；第二氧化锌铝合金膜；第三镍铬合金膜；第四银膜；第五镍铬合金膜；第六氧化锌铝合金膜；第七硅铝合金膜；第八镍铬合金膜；第九硅铝合金膜；第十氧化锌铝合金膜，第十一镍铬合金膜；第十二银膜；第十三镍铬合金膜；第十四氧化锌铝合金膜；第十五硅铝合金膜；所述制备方法包括步骤：烧结靶材、玻璃的预处理、镀膜处理。
一种功能型可钢化低辐射镀膜玻璃及其制备方法

[发明专利]X射线管-CN201910289043.9在审
发明人：石井淳;薮下绫介;稻鹤务 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2019-04-11 - 公布日： 2019-10-25 - 主分类号： H01J35/08 文献下载
摘要：本发明涉及X射线管，其具备真空框体、电子枪、包含发出X射线的靶材及支撑靶材的靶材支撑部的阳极。靶材支撑部具有阳极主体部和包含侧面部的突出部。阳极主体部包含沿着管轴方向延伸的外周面和形成于突出部的侧面部与外周面之间的连接部。外周面与连接部构成的角度为钝角。
靶材外周面阳极主体侧面部突出部支撑阳极发出X射线方向延伸电子枪真空框钝角管轴

[实用新型]靶材安装治具-CN201621125591.6有效
发明人：王德永;王统;夏杨;张赛;杨琼;保鑫涛;马贝凡;何德国;张全;陈勉恩;彭亮;刘增利 -专利权人：合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2016-10-14 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： B66C1/10 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种靶材安装治具，包括用于固定靶材的靶材固定架单元，所述靶材固定架单元上具有吊装部；能够与所述靶材固定架单元可拆卸地连接的靶材承载单元；以及，与所述靶材承载单元连接，用于移动所述靶材承载单元，以移动靶材的移动单元。本实用新型可以实现靶材安装时瓶颈设备天车使用时间的减少，进而实现靶材的快速拆卸及安装，实现靶材交换作业的时间的降低，进而提高设备嫁动增加设备产能。
安装

[实用新型]一种靶材清洗装夹装置-CN202122190328.2有效
发明人：姚力军;潘杰;边逸军;王学泽;王徐 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2021-09-10 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： B08B13/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种靶材清洗装夹装置，所述靶材清洗装夹装置包括凹字形的靶材承装部件和夹块，所述夹块安装在靶材承装部件上；所述夹块包括L型装夹口和主体部，所述主体部远离L型装夹口的部分包括弯曲面，所述夹块包括第一夹块本实用新型所述靶材清洗装夹装置对靶材清洗效果好，并大大节省了人力，而且该靶材清洗装夹装置方便靶材安装和拿取，在清洗过程中能够有效固定靶材。
一种清洗装置

[实用新型]一种旋转靶材-CN202223298481.8有效
发明人：来华杭;王正安;郭峰;刘杰;麻春雷 -专利权人：杭纳半导体装备（杭州）有限公司
申请日： 2022-12-07 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型属于磁控溅射靶材领域，具体是涉及到一种旋转靶材，包括靶管，所述靶管包括圆筒部Ⅰ和设置在圆筒部Ⅰ两端的圆筒部Ⅱ，所述圆筒部Ⅰ和圆筒部Ⅱ的外径一致，所述圆筒部Ⅰ的内径小于所述圆筒部Ⅱ的内径，本实用新型能够很好的解决旋转靶材两端过刻蚀带来的靶材寿命短和利用率低的问题，同时由于保证了任意位置靶管外径的一致，使靶面的磁场强度和磁场均匀性均可以得到有效的保证。
一种旋转

[发明专利]软性电路基板及其制造方法-CN01131858.9无效
发明人：黄堂杰 -专利权人：黄堂杰
申请日： 2001-12-18 - 公布日： 2003-03-26 - 主分类号： H05K1/05 文献下载
摘要：基板的制造方法是1)以高分子薄膜为基材，金属为溅镀靶材，在高分子薄膜层的一侧表面溅镀金属附着层；2)以镍合金为靶材，在金属附着层的表面上溅镀镍合金附着层；3)以铜为靶材，在镍合金附着层上溅镀—铜附着层。基板在铬溅镀层与铜溅镀层间加镍铬合金层，因铬与镍的膨胀系数为6.5×10－6、13.3×10－6，合金材料的膨胀系数介于二者间，比单纯使用铬材料更接近铜的膨胀系数，故其各溅镀层间的结合力更强，其剥离强度大于
软性路基及其制造方法

[发明专利]形成涂层的装置和方法、零部件和等离子体装置-CN202011547893.3在审
发明人：段蛟;孙祥;陈星建;杨桂林 -专利权人：中微半导体设备（上海）股份有限公司
申请日： 2020-12-24 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种形成涂层的装置和方法、零部件和等离子体装置，形成涂层的装置包括：真空腔；第一靶材和第二靶材；零部件本体，与第一靶材和第二靶材相对设置；所述第一靶材原子和第二靶材原子在零部件本体的表面形成复合耐腐蚀涂层；第一辅助监测器，用于监测第一靶材的特征信号；第二辅助监测器，用于监测第二靶材的特征信号；速率监测器，用于监测所述复合耐腐蚀涂层的形成速率，当形成速率偏离目标速率时，将偏差信号反馈至第一辅助监测器和第二辅助监测器，第一辅助监测器和第二辅助监测器分别根据第一靶材和第二靶材的特征信号的强弱变化进行独立控制各自靶材的速率，以控制复合耐腐蚀涂层形成速率的稳定性。
形成涂层装置方法零部件等离子体