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[发明专利]磁控溅镀阴极机构-CN200710198968.X无效
发明人：朱冠宇 -专利权人：胜华科技股份有限公司
申请日： 2007-12-07 - 公布日： 2009-06-10 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁控溅镀阴极机构，包括背板、靶材、至少一导磁零件及至少一磁石。背板具有相对的第一面及第二面，第一面具有至少一定位凹槽，且靶材具有相对的轰击面及非轰击面，非轰击面贴靠于背板的第一面，且非轰击面具有至少一结合凹槽，而导磁零件设置于背板及靶材之间，并具有结合部及定位部，结合部位于靶材的结合凹槽内，且定位部容置于背板的定位凹槽，磁石设于背板的第二面，且导磁零件对应吸附于磁石，以供靶材固定于背板。同时，在靶材与背板之间的导磁零件已经将磁场提高接近靶材的轰击面。所以，可以改善磁场的分布及强度。
磁控溅镀阴极机构

[实用新型]双闭环磁控溅射阴极-CN201621123627.7有效
发明人：彭寿;吴以军;刘小雨;王宝玉 -专利权人：凯盛光伏材料有限公司
申请日： 2016-10-15 - 公布日： 2017-03-22 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开双闭环磁控溅射阴极，包括相互平行设置的靶材与磁靴，以及设于靶材与磁靴之间的磁体装置，磁体装置包含一个中间磁体、两个端部磁体以及两组辅助磁体对，每组辅助磁体对都由两个相吸附的辅助磁体构成，两个辅助磁体的磁极方向相反；所述中间磁体位于磁靴中央，两个端部磁体分别位于磁靴的两端，两组辅助磁体对分别位于中间磁体与端部磁体之间的磁靴上；每个磁体两个磁极的连线均垂直于靶材；所有相邻磁体之间的磁极方向均相反；通过增加辅助磁体对，使靶材表面增加了两对双闭环的磁场，从而使磁场强度分布更加均匀，靶材表面的刻蚀区宽度更宽，同时还可以利用导磁片调节靶材表面平行磁场分量的大小，从而有效提高了靶材的利用率。
闭环磁控溅射阴极

[实用新型]一种新型晶粒均衡铝合金靶材-CN202120926990.7有效
发明人：覃雪峰;吴丽君;陈淑娇 -专利权人：漳州市合琦靶材科技有限公司
申请日： 2021-04-30 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种新型晶粒均衡铝合金靶材，包括：至少一凸出部，连接在铝合金靶材本体上，与铝合金靶材本体上的侧面A对面设置，用于与机床上的卡盘连接；凸出部包括：一第一侧面，与铝合金靶材本体接触连接；一第二侧面，与第一侧面对面设置，远离铝合金靶材本体；一第三侧面，连接在第一侧面和第二侧面之间；以及一第四侧面，连接在第一侧面和第二侧面之间，与第三侧面对面设置；第三侧面或者第四侧面被卡盘夹紧时，第二侧面与卡盘贴合；从而克服了装夹不方便，精加工后会出现铝合金靶材厚度不统一的技术问题。
一种新型晶粒均衡铝合金

[实用新型]一种导电玻璃样片制作装置-CN201320827007.1有效
发明人：郭卫军 -专利权人：湖北优泰显示技术有限公司
申请日： 2013-12-11 - 公布日： 2014-07-09 - 主分类号： C03C17/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及导电玻璃技术领域，尤其涉及一种导电玻璃样片制作装置，它包括溅射室，溅射室内设置有圆形旋转台，圆形旋转台设置有多边形双层基片架，多边形双层基片架的每条边上放置有玻璃基片，多边形双层基片架的边数大于等于六边；所述圆形旋转台的旁侧设置有一组磁力溅射机构，磁力溅射机构包括极板、磁铁、铜背板和靶材，所述极板通过磁铁连接铜背板，靶材设置于铜背板上，靶材与玻璃基片相对置，可大大提高制作效率，缩短生产周期。
一种导电玻璃样片制作装置

[实用新型]一种高纯圆形铝合金靶材制备改良装置-CN202120654169.4有效
发明人：吴丽君;覃雪峰;陈淑娇 -专利权人：漳州市合琦靶材科技有限公司
申请日： 2021-03-31 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： B24B19/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种高纯圆形铝合金靶材制备改良装置，属于靶材制备技术领域，该高纯圆形铝合金靶材制备改良装置，包括机体，机体的左右内壁之间固定连接支撑块，机体的上端固定连接有L型板，L型板水平部的上端固定连接有驱动电机，驱动电机的下端固定连接有主动转轴，主动转轴向下活动贯穿L型板的下端并向下延伸，主动转轴的下端固定连接有打磨头，主动转轴的圆周表面固定连接有主动齿轮，可以使被打磨的靶材更加的光滑，不会出现死角，通过吸盘固定靶材，可以防止靶材出现损伤，有效的提高了靶材制备的合格率，也提高了靶材制备的质量。
一种高纯圆形铝合金制备改良装置

[发明专利]电弧蒸发装置-CN201780007847.4有效
发明人：藤井博文;龟泽英明;谷藤信一;白根英树 -专利权人：株式会社神户制钢所
申请日： 2017-01-06 - 公布日： 2020-09-29 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供一种能够长期准确地进行靶材是否存在于规定的位置的检测的电弧蒸发装置。电弧蒸发装置(1)包括：具有远端面(3a)和与其连续地沿轴向延伸的侧面(3b)，通过电弧放电从远端面(3a)起熔解并蒸发的棒状的靶材(3)；电弧电源(8)；让靶材(3)在远端面(3a)前进的输送方向上沿轴向移动的靶材输送部(4)；在靶材(3)的输送方向上的规定的位置，呈可从与输送方向交叉的交叉方向接触于靶材(3)的侧面(3b)的形状的点火杆(6)；让点火杆(6)以从退避位置沿交叉方向进入到靶材(3)被送入的搬送区域的方式移动的旋转致动器(7)，其中，该退避位置是从侧面(3b)向交叉方向离开的位置；以及在点火杆(6)的移动过程中，检测点火杆(6)是否接触于靶材(3)的侧面(3b)的检测部(9)。
电弧蒸发装置

[发明专利]沉积系统及其操作方法-CN202210593568.3在审
发明人：王嘉熙;陈彦羽 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2022-05-27 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：提供一种沉积系统及其操作方法，沉积系统能够通过将温度维持在预定温度范围内来防止靶材及其他元件因归因于来自溅射制程的热应力而变形来延长腔室运行时间。沉积系统包含基板处理腔室、基板处理腔室内的靶材及以圆形形式形成在材靶上的多个凹槽。多个凹槽包含靶材的中央部上的第一凹槽及靶材的外围部分上的第二凹槽。
沉积系统及其操作方法

[实用新型]光盘托盘装置-CN201020122715.1无效
发明人：李楚生 -专利权人：讯维数码科技(中山)有限公司
申请日： 2010-02-27 - 公布日： 2010-12-01 - 主分类号： G11B7/26 文献下载
摘要：本实用新型光盘托盘装置属于光盘制造领域，真空环境下的光盘托盘装置包括上盖，短程汽缸，冷水进口，冷水出口，靶材，靶材固定座，小光盘罩，底座，光盘固定座，大光盘罩，惰性气体快插构成，在上盖上顶部正中开有一孔，在孔内安装短程汽缸，靶材安装在靶材固定座上，短程汽缸穿过靶材固定座，靶材安装在上盖内，短程汽缸的一端固定有一小光盘罩，上盖的顶部两边分别安装有一冷水进口与冷水出口，短程汽缸侧面安装有一惰性气体快插，底座中部有孔
光盘托盘装置

[发明专利]一种用于靶材背板的精密矫直工艺-CN201911391784.4在审
发明人：林泓成;李栋;苏彦宗 -专利权人：昆山全亚冠环保科技有限公司
申请日： 2019-12-30 - 公布日： 2020-04-28 - 主分类号： B21D1/02 文献下载
摘要：本发明属于金属板矫直技术领域，涉及一种用于靶材背板的精密矫直工艺，步骤包括：①准备靶材背板，且加工至需求厚度Y；②让靶材背板的长边垂直于多辊矫直机的入口方向进入，入口辊的高度设定为Y‑(Y*4～8％)，出口辊高度参数设定为Y+(Y*4％)；③将第一次辊压后的靶材背板正反面对调，重新从多辊矫直机的入口方向进入；④重复步骤③直至靶材背板达到需求的平面度和硬度。
一种用于背板精密矫直工艺

[实用新型]一种磁控溅射设备-CN202021399924.0有效
发明人：张诚 -专利权人：三河市衡岳真空设备有限公司
申请日： 2020-07-16 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种磁控溅射设备，该磁控溅射设备包括溅射室、以及在该溅射室内相对设置的基片台和溅射靶枪，该溅射靶枪内设置有靶材，其中，该磁控溅射设备还包括：挡板以及匀气环，该挡板以及匀气环设置在该溅射室内；挡板包括侧遮挡部以及上遮挡部，其中，侧遮挡部环绕溅射靶枪设置且其上端超出靶材的溅射面，上遮挡部从侧遮挡部的上端向内延伸至靶材边缘处；匀气环与外部工艺气体提供装置相连通且其上开设有多个出气孔，匀气环设置在挡板和溅射靶枪之间并对靶材形成环绕，匀气环的设置高度位于靶材溅射面和上遮挡部之间。
一种磁控溅射设备

[实用新型]平面磁控溅射器-CN200620017973.7无效
发明人：许生;徐升东;庄炳河 -专利权人：深圳豪威真空光电子股份有限公司
申请日： 2006-08-28 - 公布日： 2007-11-07 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种平面磁控溅射器，该平面磁控溅射器包括：基座、设置在基座上用于承托靶材的靶材承托板以及设置在靶材承托板相对靶材一侧并用于在靶材表面产生磁场的磁极装置，磁极装置包括磁体安装座和设置在磁体安装座上的磁体，其中磁体安装座包括中部磁体安装座以及沿纵向方向设在中部磁体安装座两侧的端部磁体安装座，端部磁体安装座与中部磁体安装座转动连接。通过上述结构，将整个磁极分成端部和中部来分别控制，将端部磁体安装座和中部磁体安装座通过旋转铰链连接，通过调节铰链的旋转角度就可实现端部磁场的调节，最终达到与中部磁场吻合的结果，并且调节的过程连续、便捷。
平面磁控溅射

[发明专利]光纤母材及其制造方法-CN200580049074.3有效
发明人：阿部淳;万德伸康;齐藤文男 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2005-11-18 - 公布日： 2008-03-12 - 主分类号： C03B37/018 文献下载
摘要：本发明提供一种光纤母材的制造方法，包括如下步骤：连接步骤，在由作为母材的石英玻璃棒形成的靶材的端部连接预制棒(3)；加工步骤，在加工带有预制的棒并实施透明玻璃化处理时，在封口侧的预制棒及靶材(5)的连接部形成预制棒侧的直径变成比靶材侧的直径还细的锥体部(10)；以及堆积步骤，在加工步骤后的带预制的玻璃棒外周部，以覆盖锥体部(10)的大直径侧的形态，使玻璃微粒子堆积而形成灰粒。
光纤及其制造方法

[实用新型]平面阴极靶泵一体镀膜设备-CN202221209985.5有效
发明人：曹琦;陈海峰;霍启科 -专利权人：深圳南玻科技有限公司;中国南玻集团股份有限公司
申请日： 2022-05-19 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种平面阴极靶泵一体镀膜设备，包括：真空腔室；阴极靶泵一体装置，所述阴极靶泵一体装置设置在所述真空腔室的顶部，所述阴极靶泵一体装置设置有阴极靶材安装部、真空机构和冷却机构；阴极靶材，安装在所述阴极靶材安装部上并位于所述真空腔室内本实用新型将真空机构、冷却机构集成在一起，同时阴极靶材安装部也集成在一起，即将传统的两个盖板的结构集成在了一起，对应的也只需要设置一个盖板即可，优化了结构组成，真空腔室的宽度能够减小，进而抽真空的体积得以减小
平面阴极一体镀膜设备

[发明专利]一种高透型双银低辐射镀膜玻璃及其制备方法-CN201410185879.1有效
发明人：田永刚 -专利权人：福州新福兴玻璃有限公司
申请日： 2014-05-05 - 公布日： 2017-07-14 - 主分类号： C03C17/40 文献下载
摘要：本发明公开了一种高透型双银低辐射镀膜玻璃及其制备方法，所述高透型双银低辐射镀膜玻璃包括依次紧密叠合的玻璃基片、第一硅铝合金膜；第二锌铝合金膜；第三银膜；第四镍铬合金膜；第五锌锡合金膜；第六硅铝金属膜；第七银膜；第八镍铬合金膜；第九硅铝金属膜，所述制备方法包括步骤1)烧结靶材；2)玻璃的预处理；3)镀膜处理。
一种高透型双银低辐射镀膜玻璃及其制备方法

[发明专利]一种用于金属镀膜的矩形磁控溅射靶-CN201610360061.8有效
发明人：佘鹏程;彭立波;陈长平;张赛;龚俊 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十八研究所
申请日： 2016-05-27 - 公布日： 2019-01-22 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于金属镀膜的矩形磁控溅射靶，包括阳极座、水冷靶座、磁铁组件、靶材和靶背板，阳极座设有矩形安装槽，水冷靶座安装于矩形安装槽内，磁铁组件安装于水冷靶座内并通过靶背板密封，靶材装设于靶背板上，磁铁组件包括中心磁铁、两个端部磁铁和多个侧部磁铁，两个端部磁铁和多个侧部磁铁构成矩形磁铁框，中心磁铁沿矩形磁铁框长度方向固定于矩形磁铁框内部，每个侧部磁铁固设一固定块，水冷靶座内设有多个安装凸块，所述固定块与安装凸块一一对应本发明可改变靶材表面磁场强度分布，提高矩形磁控溅射靶的沉膜均匀性，增大溅射靶有效沉膜区域，提高靶材的利用率。
一种用于金属镀膜矩形磁控溅射