专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种N掺杂Y2-CN202310699029.2在审
  • 冯琳;黄波;林思远;吕枚倩 - 中山大学
  • 2023-06-13 - 2023-10-27 - C23C14/35
  • 本发明涉及金属氧化物薄膜技术领域,更具体地,涉及一种N掺杂Y2O3薄膜在光学器件中的应用。本发明将氮掺杂氧化钇薄膜应用于光学器件时,不仅能够保持较高的红外透过率和较宽的光学带隙,还具备优异的热稳定性能,可使得光学器件在高温环境中稳定工作,有效拓宽了光学器件的应用范围。
  • 一种掺杂basesub
  • [发明专利]一种控制薄膜应力的方法-CN202311072205.6在审
  • 许磊;宋永辉;沈健;丁威 - 无锡尚积半导体科技有限公司
  • 2023-08-24 - 2023-10-27 - C23C14/35
  • 本申请公开了一种控制薄膜应力的方法,涉及晶圆生产技术领域。其包括:方法基于磁控溅射装置,磁控溅射装置包括工艺腔体、脉冲电源模块、偏压控制模块及气控模块;工艺腔体内设有用于放置晶圆片的承放台,以及用于安装靶材的放置槽体,且晶圆片与靶材相对设置以便于靶材的粒子被溅射到晶圆片的背面;工艺腔体至少开设有一个进气孔及一个背气孔,背气孔位于承放台远离晶圆片的一侧。向工艺腔体内通入预设流量比的氩气与氮气以形成工艺气压,并从背气孔向承放台通入氩气,并以预设功率开启偏压控制模块在晶圆片背面形成负偏压,综合减小了镍钒薄膜的材料应力与热应力,最终大幅减小了镍钒薄膜的应力,从而将镍钒薄膜的应力控制在可控范围内。
  • 一种控制薄膜应力方法
  • [发明专利]磁控溅射设备-CN202311147728.2在审
  • 陈定康;李兆营;程朋 - 安徽光智科技有限公司
  • 2023-09-06 - 2023-10-27 - C23C14/35
  • 提供一种磁控溅射设备,磁控溅射设备包括腔体、基座、磁铁、第一供气管以及排气管。腔体具有底壁、周壁和顶壁以及部空间,顶壁用于供连接于阴极的金属靶材固定在下方;基座用于支撑衬底并用于连接于阳极;磁铁用于施加磁场;第一供气管在上下方向上定位在金属靶材和基座之间,第一供气管用于使内部空间与氩气源受控连通;排气管用于使内部空间和抽真空装置受控连通;第一供气管和排气管配置成:在衬底上磁控溅射形成单组分金属薄膜时,第一供气管供入氩气,抽真空装置启动;第一供气管包括环状管和至少三根直线伸缩管;各直线伸缩管配置成:基于在衬底上磁控溅射镀覆的薄膜的电阻分布图调整各直线伸缩管的长度直到电阻分布的均匀性符合要求。
  • 磁控溅射设备
  • [发明专利]一种镀膜装置及DLC镀膜工艺-CN202210129084.3有效
  • 田修波;郑礼清 - 松山湖材料实验室
  • 2022-02-11 - 2023-10-27 - C23C14/35
  • 本申请提供一种镀膜装置及DLC镀膜工艺,涉及材料表面处理技术领域。镀膜装置包括真空腔体、转架、脉冲偏压电源、第一弧靶、阳极电源、弧靶电源、第二弧靶、屏蔽挡板、靶电源及阴极靶;转架转动设于真空腔体中,脉冲偏压电源连接转架,第一弧靶及第二弧靶设于真空腔体中,第一弧靶位于第二弧靶的上下两侧,弧靶电源与第二弧靶及第一弧靶连接,所述阳极电源分别与相应的所述第一弧靶连接,屏蔽挡板设于第二弧靶前侧构成弧光电子源,阴极靶设于真空腔体中,且位于转架远离第一弧靶及第二弧靶的一侧,靶电源与阴极靶连接。本申请提供的镀膜装置能够通过第一弧靶作为辅助阳极,增强弧光电子辉光,提高气体的离化率。
  • 一种镀膜装置dlc工艺
  • [发明专利]一种微深孔内镀膜工艺及镀膜装置-CN202210219391.0有效
  • 田修波;柏贺达;靳朋礼 - 松山湖材料实验室
  • 2022-03-08 - 2023-10-27 - C23C14/35
  • 本申请提供一种微深孔内镀膜工艺及镀膜装置,涉及材料科学与工程技术领域,用于对带孔工件进行镀膜。微深孔内镀膜工艺包括以下步骤:将工件与磁控靶相对放置,使工件处于自转状态;对工件进行气体离子清洗;对工件进行镀膜,采用高功率脉冲磁控溅射技术,对工件进行溅射镀膜,配合工件上耦合的高功率脉冲偏压,完成工件表面及孔侧壁表面膜层的沉积。本申请微深孔内镀膜工艺利用高功率脉冲磁控溅射技术的高等离子体密度,高等离子离化率的特点,将工件置于磁控靶前自转,之后利用耦合偏压,将离子吸引到孔内,使孔内处于等离子体浸润状态,使等离子体沉积到孔侧壁,既有效提高了微孔侧壁镀膜膜层的均匀性,也可以提高膜层的附着力及膜层的质量。
  • 一种微深孔内镀膜工艺装置
  • [发明专利]钽/钯催化氢纯化用耐高温TaVNb/TaVNbHfZr复合梯度阻挡层制备工艺-CN202210734162.2有效
  • 田海军;田雨;张小维 - 商丘市鸿大光电有限公司
  • 2022-06-27 - 2023-10-27 - C23C14/35
  • 一种钽/钯催化氢纯化用耐高温TaVNb/TaVNbHfZr复合梯度阻挡层制备工艺,包括沉积前处理、偏压反溅清洗和沉积TaVNb/TaVNbHfZr复合梯度涂层等步骤。复合涂层的制备包括:制备TaVNb梯度过渡层,沉积时向真空室内通入Ar气,其流量为46 sccm,溅射工作气压为0.36 Pa,沉积的TaVNb过渡层中,Ta元素百分含量沿厚度方向从100 at%~34 at%梯度变化,V元素百分含量沿厚度方向从0 at%~33 at%梯度变化,Nb元素百分含量沿厚度方向从0 at%~33 at%梯度变化;真空条件下制备TaVNbHfZr涂层,沉积的TaVNbHfZr高熵阻挡层中Ta、V、Nb、Hf、Zr元素原子百分比介于10 at%~35 at%,且阻挡层相结构简单,结合力良好,表面致密均匀,具有高强度、抗高温Pd/Ta膜层互扩散等性能,为H2高纯化Pd/Ta膜系抗高温扩散及热稳定性能提供了新的技术途径。
  • 催化化用耐高温tavnbtavnbhfzr复合梯度阻挡制备工艺
  • [发明专利]一种具有高疏水和自润滑的ZrYAgN纳米固溶薄膜的制备方法-CN202210846994.3有效
  • 任萍;宋啟尧;王港港;杨晓阳;邱剑勋 - 烟台大学
  • 2022-07-06 - 2023-10-27 - C23C14/35
  • 一种具有高疏水和自润滑的ZrYAgN纳米固溶薄膜的制备方法,涉及一种ZrN基纳米固溶薄膜的制备方法。本发明是要解决目前ZrN基薄膜的摩擦学性能与疏水性能较差的技术问题。本发明通过将稀土元素Y和软质延性金属Ag元素的引入,可以激发摩擦化学反应而形成具有协同润滑效应的摩擦氧化产物和自润滑相,有效地降低薄膜的平均摩擦系数。此外,固溶Y原子和Ag原子可以有效地剪裁薄膜表面的化学键态,加速形成Y2O3和Ag2O疏水基团。本发明提出了利用磁控溅射法构筑集高疏水、自润滑和低摩擦等性能于一体的ZrYAgN纳米固溶薄膜的新方法,该方法制备出的ZrYAgN纳米固溶薄膜在航空航天构件表面具有良好的发展应用前景。
  • 一种具有疏水润滑zryagn纳米薄膜制备方法
  • [发明专利]一种颜色介质膜制备方法和制备设备-CN202210485286.1有效
  • 陶利松 - 浙江合特光电有限公司
  • 2022-05-06 - 2023-10-27 - C23C14/35
  • 本申请公开了一种颜色介质膜制备方法和制备设备,涉及介质膜领域,制备方法包括磁控溅射设备内安装有电磁铁,将需要的靶材和待镀膜的基板安装到磁控溅射设备中,电磁铁位于基板背离靶材的一侧,然后在基板背离靶材的端面安装开有通孔的格挡片,将装有铁粉的上料盒套在基板上,并使基板背离格挡片的表面没于铁粉中,启动电磁铁,使电磁铁将铁粉吸附在基板上,取下上料盒,铁粉吸附正对于通孔位置的基板上,并使多余的铁粉回收至上料盒中,磁控溅射设备启动,对未吸附有铁粉的基板表面进行镀膜,关闭磁控溅射设备和电磁铁,更换靶材,并更换开设有不同通孔的格挡片。本申请具有便于在基板表面形成不同材料组成的同一层膜。
  • 一种颜色介质制备方法设备
  • [发明专利]一种玻璃连续ITO镀膜设备-CN202111606682.7有效
  • 夏宁;倪植森;陈诚;黄迎辉;樊黎虎;巩燕龙;胡克军;邵帅;杨波;李若尘 - 凯盛科技股份有限公司蚌埠华益分公司
  • 2021-12-26 - 2023-10-27 - C23C14/35
  • 本发明提供一种玻璃连续ITO镀膜设备和工艺,包括连续型镀膜舱,所述连续型镀膜舱中部设置有镀膜室,所述连续型镀膜舱两侧的舱室沿镀膜室左右两侧呈对称式排布,所述连续型镀膜舱两端均开设有内外相通的基片装取门槽,所述基片架进入真空过渡舱后将两侧的基片架配合槽进行封堵,若干所述负压孔通过管道与外部设置的负压泵连通,本发明的转运架在连续型镀膜舱内部实现循环转运,在转运过程中转运架通过进出真空过渡舱从而实现转运架在负压的连续型镀膜舱与外环境之间进行切换,减小了气体抽取时间,同时两侧均作为对侧基片的取片位置,又作为新基片的上片位置,从而在一个闭环循环中实现了两次镀膜,相较于传统的镀膜方式,大大提高了镀膜效率。
  • 一种玻璃连续ito镀膜设备
  • [发明专利]一种燃料电池双极板及其制备方法-CN202211336616.7有效
  • 王炜;王登诗;易军;向丽;廖仁梅 - 重庆石墨烯研究院有限公司
  • 2022-10-28 - 2023-10-27 - C23C14/35
  • 本发明涉及燃料电池技术领域,具体涉及一种燃料电池双极板及其制备方法,燃料电池双极板包括钛基板,钛基板的表面上设有多个石墨烯孔,石墨烯孔上设有石墨烯层,钛基板的表面上设有金层,金层覆盖在石墨烯层之上,石墨烯层上连接有向金层和钛基板中扩散的石墨烯扩散部。制备方法,包括以下步骤:步骤1,在钛基板的表面上加工出多个石墨烯孔;步骤2,采用磁控溅射的方式,在钛基板的石墨烯孔处生长出石墨烯层;步骤3,在钛基板的表面处生长出金层,金层覆盖在石墨烯层之上,步骤4,降温冷却:将加工好的钛金属双极板自然冷却至常温。本方案提高了金层和钛金属双极板之间的结合牢固程度,解决了金层容易从钛金属双极板上脱落的问题。
  • 一种燃料电池极板及其制备方法

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