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[发明专利]掩模板及光配向方法-CN201410829680.8有效
发明人：孙杰 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2014-12-26 - 公布日： 2018-07-03 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：本发明提供了一种光配向方法，包括以下步骤，提供上层面板与下层面板；提供掩模板以遮挡所述上层面板与所述下层面板，并设置所述掩膜板的透光区域；利用掩模板以第一入射方向发出紫外线曝光所述上层面板的上层配向膜与下层面板的下层配向膜；调整所述掩膜板的透光区域；利用掩模板以第二入射方向发出紫外线曝光所述上层面板的上层配向膜与下层面板的下层配向膜。本发明还公开一种掩膜板。本发明的掩模板只需一块掩模板进行次曝光就可以完成整个液晶显示装置中配向膜的制程，可有效减少曝光次数、简化制造过程。
掩模板配向膜上层面板下层面板掩膜板紫外线曝光入射方向透光区域配向下层上层简化制造过程液晶显示装置有效减少曝光制程遮挡

[发明专利]用于显微镜的照明视场光阑及相关方法和系统-CN201680065430.9有效
发明人：克里斯托弗·塞克瑟;奥-哈菲兹·Z.·达拉;罗伯特·H.·哈特;艾瑞克·L·巴克兰 -专利权人：拜尔普泰戈恩公司
申请日： 2016-11-04 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： A61B3/12 文献下载
摘要：提供用于外科显微镜的视场光阑，所述视场光阑沿显微镜照明系统的光轴被定位，所述视场光阑包括：框架部分，被配置为由所述外科显微镜容纳；以及非圆形对称的掩膜部分，与所述框架部分集成，所述掩膜部分被对齐，以使得从所述显微镜的物镜的表面反射的、来自于沿最小直径的子午线的视场光阑的边缘的边缘光线被反射出用于中继通过所述显微镜的任意目镜通道的接受角之外，其中，所述掩膜部分包括具有最大通光孔径的圆形对称光阑，以及沿至少一个子午线限制通光孔径的非圆形对称的插入遮挡，其中，所述插入遮挡包括约8mm宽并位于距孔径的中心约9.5mm处并与垂直成约20度的矩形遮挡掩膜。
用于显微镜照明视场光阑相关方法系统

[发明专利]一种掩膜组件、蒸镀装置及OLED优化方法-CN202010802804.9在审
发明人：王江南;张亮;张川;徐蒙蒙;史晓波;冯敏强;廖良生 -专利权人：江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
申请日： 2020-08-11 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及蒸镀工艺领域，公开一种掩膜组件、蒸镀装置及OLED优化方法。所述掩膜组件包括承载盘、挡片和驱动组件，承载盘用于放置基片，承载盘上设置有开口，开口用于将基片的待沉积区域露出，挡片用于遮挡开口，驱动组件与挡片连接，用于带动挡片按照预设动作或操作指令将基片露出，以使待沉积材料在基片的露出区域沉积成膜所述蒸镀装置包括上述的掩膜组件。所述OLED优化方法采用上述的掩膜组件。本发明可以连续获得多个厚度的OLED器件，操作简单方便，无需反复切换掩膜板，可以一次性实现多个不同OLED膜层厚度的试验条件验证，能够高效快速地优化OLED膜层的厚度尺寸，方便快速确定最佳试验条件，减少试验所需时间
一种组件装置 oled 优化方法

[发明专利]掩板及在存储器件上镀膜的方法-CN202110554374.8有效
发明人：陈博才 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2021-05-20 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请提供一种掩板及在存储器件上镀膜的方法。所述方法包括：提供一种掩板；对应于存储器件上的同一组待引接接触栓塞，在存储器件上确定两个相应的导电膜镀设区域；使用掩板遮挡存储器件上的待遮掩区域；在存储器件暴露于掩板的第一镂空区域的区域中镀导电膜；在存储器件暴露于与待引接接触栓塞对应的第二镂空区域中，在导电膜至其对应的待引接接触栓塞之间的路径上镀绝缘膜；在存储器件暴露于第一镂空区域和/或第二镂空区域中，在导电膜至其对应的待引接接触栓塞之间的路径上镀导线，以将待引接接触栓塞与其对应的导电膜电连接。所述在存储器件上镀膜的方法利用掩板对存储器件上待遮掩区域进行遮掩，能够降低操作难度、节省时间和材料。
存储器件镀膜方法

[实用新型]金属掩膜板-CN202021079855.5有效
发明人：王广成;樊春雷;郑庆靓;刘通 -专利权人：上海和辉光电股份有限公司
申请日： 2020-06-12 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请提供一种金属掩膜板，包括：掩膜板本体及形成于掩膜板本体上的多个蒸镀孔；掩膜板本体具有相对设置的玻璃面和蒸镀面，每个蒸镀孔均包括第一凹槽和第二凹槽，第一凹槽与第二凹槽均沿着掩膜板本体的厚度方向设置且相互连通在本申请提供的金属掩膜板中，通过调整蒸镀孔在玻璃面的开孔形状，避免蒸镀口的内壁遮挡有机材料，进而扩大蒸镀的有效膜宽，同时避免像素的边缘出现阴影区域，使得像素内有效发光区的蒸镀位置的公差范围更大，进而提高蒸镀的良率
金属掩膜板

[发明专利]隔离结构制造方法-CN201910867622.7有效
发明人：王昊;陈洪雷;夏志平;姚国亮;陈伟 -专利权人：杭州士兰集昕微电子有限公司
申请日： 2019-09-13 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： H01L21/762 文献下载
摘要：该制造方法包括采用第一光刻胶掩膜，在衬底上的第一区域和第二区域中形成有源区，第一区域和第二区域彼此相邻；采用第二光刻胶掩膜遮挡衬底第二区域，在衬底第一区域中形成第一掺杂类型的第一阱区；采用第二光刻胶掩膜遮挡衬底第二区域，并采用有源区作为硬掩膜，在第一掺杂类型的第一阱区的部分表面形成第一掺杂类型的补偿区，之后去除第二光刻胶掩膜；采用有源区作为硬掩膜，沿第一区域与第二区域之间的衬底表面向下延伸以形成隔离结构，补偿区与至少部分隔离结构接触本发明采用了同一光刻胶掩膜分别形成第一阱区和补偿区，在不影响半导体器件性能的基础上，无需附加掩膜和光刻步骤，增强了隔离效果。
隔离结构制造方法

[实用新型]掩膜组件-CN202123010398.1有效
发明人：黄新宇 -专利权人：乐金显示光电科技（中国）有限公司
申请日： 2021-12-02 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型公开一种掩膜组件，包括支撑框架和多个掩膜条，多个掩膜条交叉设置，并连接于支撑框架上，以划分形成多个矩形蒸镀区域，每个掩膜条均沿其宽度方向在支撑框架上的位置可调，每个掩膜条上均设置有遮蔽结构。通过沿掩膜条的宽度方向调节其在支撑框架上的位置，能够调节多个掩膜条划分形成的蒸镀区域的尺寸，使用时，可根据待蒸镀的玻璃基板上的待蒸镀区域调节掩膜条的位置，以使形成的蒸镀区域与玻璃基板上的待蒸镀区域对正，通用性强，另外，在有掩膜条并排设置的位置，掩膜条上的遮蔽结构能够遮挡相邻两掩膜条之间形成的竖向间隙，从而避免下方蒸镀源散发的有机物蒸汽污染玻璃基板上的非蒸镀区域。
组件

[发明专利]一种掩膜版及其制造方法-CN201810354999.8有效
发明人：刘孟彬;罗海龙 -专利权人：中芯集成电路（宁波）有限公司
申请日： 2018-04-19 - 公布日： 2021-06-01 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜版及其制造方法，包括：衬底，具有相背的第一表面和第二表面，衬底内具有贯穿衬底的多个开口，衬底的材料为能够进行半导体刻蚀工艺的材料；位于第一表面的掩膜图形层，掩膜图形层的材料为能够进行半导体刻蚀工艺的材料；掩膜图形层具有图形区和遮挡区，图形区具有至少一个通孔，开口暴露出所述图形区，每一开口与一图形区相对且暴露出图形区中的所有通孔，遮挡区位于图形区的外侧、与衬底相对；顶层衬底层，位于掩膜图形层与第一表面相背的表面上
一种掩膜版及其制造方法

[发明专利]MOSFET器件的制作方法-CN201510128889.6有效
发明人：赵圣哲 -专利权人：北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司
申请日： 2015-03-23 - 公布日： 2019-03-19 - 主分类号： H01L21/336 文献下载
摘要：本发明提供一种MOSFET器件的制作方法，其特征在于，包括：在基底上形成掩膜层；以掩膜层为掩膜，对基底进行刻蚀，同时形成第一沟槽和第二沟槽；在第一沟槽中形成第一填充层，且在第一填充层上形成遮挡层；以遮挡层和掩膜层为掩膜
mosfet 器件制作方法

[发明专利]蒸镀用掩膜版-CN202010573468.5有效
发明人：黄琰;马益;嵇凤丽;罗昶;张国梦;李剑波 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2020-06-22 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供了蒸镀用掩膜版。蒸镀用掩膜版包括多个预定区域，预定区域包括开口和遮挡区，遮挡区包括第一区、第二区和第三区，第一区具有第一表面和第二表面，第二区具有第三表面和第四表面，第三区具有第五表面和第六表面，第一表面、第三表面和第五表面位于掩膜版的同一侧，第二表面、第四表面和第六表面位于掩膜版的同一侧，第二区的厚度大于第一区的厚度和第三区的厚度，第一表面与第三表面齐平，第六表面所在的平面位于第三表面所在的平面和第四表面所在的平面之间。由此，减轻了掩膜版的整体重量，从而可以减轻掩膜版在蒸镀过程中的下垂量，进而提高掩膜版的位置精度，减小阴影，提高蒸镀品质，更有利于实现显示屏的窄边框的设计。
蒸镀用掩膜版

[实用新型]一种掩膜组件及蒸镀装置-CN202021659215.1有效
发明人：王江南;张亮;张川;徐蒙蒙;史晓波;冯敏强;廖良生 -专利权人：江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
申请日： 2020-08-11 - 公布日： 2021-01-05 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及蒸镀工艺领域，公开一种掩膜组件及蒸镀装置。所述掩膜组件包括承载盘、挡片和驱动组件，承载盘用于放置基片，承载盘上设置有开口，开口用于将基片的待沉积区域露出，挡片用于遮挡开口，驱动组件与挡片连接，用于带动挡片按照预设动作或操作指令将基片露出，以使待沉积材料在基片的露出区域沉积成膜所述蒸镀装置包括上述的掩膜组件。本实用新型可以连续获得多个厚度的OLED器件，操作简单方便，无需反复切换掩膜板，可以一次性实现多个不同OLED膜层厚度的试验条件验证，能够高效快速地优化OLED膜层的厚度尺寸，方便快速确定最佳试验条件，
一种组件装置

[发明专利]光学掩膜板和激光剥离装置-CN201410090160.X有效
发明人：史世明 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2014-03-12 - 公布日： 2021-08-27 - 主分类号： H01L21/268 文献下载
摘要：本发明提供一种光学掩膜板，其中，该光学掩膜板包括全透区、环绕该全透区的遮挡区，所述全透区允许具有预定波长的激光完全透过，所述遮挡区不允许所述具有预定波长的激光透过。本发明还提供一种激光剥离装置。
光学掩膜板激光剥离装置

[发明专利]一种高分子掩膜版及其制作方法和应用-CN201710713991.1有效
发明人：唐凡 -专利权人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2017-08-18 - 公布日： 2019-06-25 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种高分子掩膜版，包括承载基板以及依次叠层设置于承载基板上的牺牲层和掩膜；掩膜包括高分子膜层以及开设在高分子膜层上并贯穿高分子膜层的若干孔洞，高分子膜层中掺有磁性纳米颗粒。本发明还公开了上述高分子掩膜版的制作方法，包括步骤：S1、在承载基板上制作牺牲层；S2、在牺牲层上涂布掺有磁性纳米颗粒的高分子前驱体并固化成膜，形成高分子原膜；S3、利用光罩掩膜版采用激光扫描对高分子原膜上未被光罩掩膜版遮挡的区域进行烧蚀形成孔洞以形成掩膜，获得高分子掩膜版前驱体；S4、清洗并干燥高分子掩膜版前驱体后，弱化承载基板与掩膜之间的作用力，获得高分子掩膜版。本发明还公开了上述高分子掩膜版在制作OLED中的应用。
掩膜版高分子膜层承载基板掩膜牺牲层孔洞磁性纳米颗粒前驱体制作光罩原膜高分子前驱体固化成膜激光扫描叠层烧蚀遮挡清洗应用弱化贯穿

[发明专利]掩模挡板及其制造方法-CN201410303046.0有效
发明人：高玉杰;朴相镇 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2014-06-27 - 公布日： 2014-10-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩模挡板及其制造方法，其中该掩模挡板的制造方法包括：步骤S1、在透明衬底上形成遮光层；步骤S2、通过预先形成的掩膜装置对所述遮光层进行构图工艺形成遮光图案，所述掩膜装置包括公用掩膜板和至少一块遮光板，所述公用掩膜板包括第一透光区域和非透光区域，所述至少一块遮光板用于遮挡部分所述第一透光区域以形成第二透光区域，所述第二透光区域对应于所述遮光图案。
挡板及其制造方法

[发明专利]掩膜版及其制作方法、蒸镀方法、显示屏-CN201810713053.6有效
发明人：白珊珊;孙阔;韩乔楠;谢东妹 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2018-06-29 - 公布日： 2020-03-10 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本公开提供了一种掩膜版及其制作方法、蒸镀方法、显示屏，以在显示屏正面的听筒、前置摄像头、及传感器等部件周围实现正常显示，提高屏占比。其中所述掩膜版包括：基板，所述基板具有至少一个开口，所述开口在待制作的显示屏的显示平面上的正投影与所述待制作的显示屏的显示区重合；遮挡部，设置于所述开口内部，所述遮挡部在所述显示平面上的正投影与所述待制作的显示屏中需进行遮挡的部件在所述显示平面上的正投影重合；连接部，位于所述遮挡部和所述开口的侧壁之间，所述连接部用于连接所述遮挡部和所述开口的侧壁。上述掩膜版应用于显示屏中发光器件各功能膜层的蒸镀过程中，能够实现显示屏正面功能部件周围区域的正常显示。
掩膜版及其制作方法方法显示屏