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[发明专利]掩膜版及其制作方法-CN201810416800.X有效
发明人：刘孟彬;罗海龙 -专利权人：中芯集成电路（宁波）有限公司
申请日： 2018-05-03 - 公布日： 2020-05-19 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种掩膜版及其制作方法，掩膜版包括：衬底，包括第一表面以及与第一表面相背的第二表面，衬底内有贯穿衬底的多个开口，所述衬底能够利用半导体刻蚀工艺进行图形化；位于第一表面的掩膜图形层，包括相邻的图形区和遮挡区，图形区有至少一个贯穿掩膜图形层的通孔，开口露出图形区且每一图形区与开口相对应；第一牺牲层，位于掩膜图形层背向衬底一侧的遮挡区表面上，第一牺牲层有多个第一开孔，第一开孔露出图形区且每一图形区与第一开孔相对应；保护层，覆盖第一牺牲层背向图形掩膜层一侧的表面和第一开孔侧壁。本发明掩膜版采用半导体工艺所制成，与传统化学刻蚀方式所制成的金属掩膜版相比，半导体工艺能够提高掩膜版的质量和精准度。
掩膜版及其制作方法

[发明专利]干燥系统和掩膜版上清洗液的干燥方法-CN201710347983.X有效
发明人：林治明;王震;李宝军;尹志;黄俊杰 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2017-05-17 - 公布日： 2019-05-07 - 主分类号： F26B21/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种干燥系统和掩膜版上清洗液的干燥方法。干燥系统包括：具有相对的第一侧壁和第二侧壁的干燥腔室；多个第一风刀，设置在第一侧壁和第二侧壁上，用于对清洗后的掩膜版进行吹风干燥；和分离装置，用于在多个第一风刀吹风干燥清洗后的掩膜版时，使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、以增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距，使得空间相交区域内更好地进行空气流通，从而实现空间相交区域内的清洗液也一并被吹除掉，避免掩膜版上残留清洗液。
掩膜版相交区域清洗液干燥系统吹风干燥第二侧壁第一侧壁掩膜条遮挡条风刀清洗分离装置干燥腔室空气流通支撑除掉残留

[发明专利]一种掩膜图案的形成方法及鳍式场效应晶体管-CN201910091989.4有效
发明人：李庆 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2019-01-30 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： H01L29/78 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜图案的形成方法，包括沉积形成掩膜层；在掩膜层上形成光阻层图案；经由光阻层图案的间隔，向掩膜层中植入掩膜层空隙填充物；经由光阻层图案的间隔，向掩膜层中植入掩膜层植入物；去除光阻层图案，及光阻层图案遮挡的掩膜层。本发明提供的掩膜图案的形成方法，通过向掩膜层中植入掩膜层空隙填充物，进而减小了掩膜层植入物的扩散和散射现象。由此，掩膜层植入物会按照预设的路径扩散和散射，使得掩膜图案形状变得规则，提高了掩膜图案的质量。本发明还提供了一种由该方法形成的掩膜质量更高、性能更好的鳍式场效应晶体管。
一种图案形成方法场效应晶体管

[发明专利]对抗补丁检测定位硬件架构及对抗补丁检测定位方法-CN202210940140.1在审
发明人：胡杏;韩虎生;贺文凯;杜子东;郭崎 -专利权人：中国科学院计算技术研究所
申请日： 2022-08-05 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： G06F21/55 文献下载
摘要：本发明提出一种对抗补丁检测定位硬件架构，包括：深度神经网络加速器，用于输出视频帧的浅层特征图，以及输出对该视频帧和遮挡图像进行识别的识别结果；该遮挡图像为以掩膜窗口对该视频帧进行遮挡后的图像；掩膜窗口搜索单元，用于从该视频帧的浅层特征图中选取该掩膜窗口；投票逻辑单元，用于对所有该遮挡图像的识别结果进行投票，并根据投票结果确定该视频帧中对抗补丁的位置。
对抗补丁检测定位硬件架构方法

[发明专利]刻蚀方法-CN200810202703.7有效
发明人：李雪 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2008-11-13 - 公布日： 2010-06-16 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供刻蚀方法，以提高刻蚀质量，该方法包括：提供基体；于基体上顺次形成遮挡层、底部抗反射层及光阻层，构成掩膜层；图案化所述掩膜层；以及基于图案化后的掩膜层刻蚀该基体。
刻蚀方法

[发明专利]人脸遮挡检测方法、模型训练方法、装置及电子设备-CN202111571355.2有效
发明人：陈圣;曾定衡;蒋宁;王洪斌;周迅溢;吴海英;李长林 -专利权人：马上消费金融股份有限公司
申请日： 2021-12-21 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G06V40/16 文献下载
摘要：本申请提供一种人脸遮挡检测方法、模型训练方法、装置及电子设备，人脸遮挡检测方法包括：获取待检测图像；将待检测图像输入目标分割模型进行处理，得到目标掩膜图像；基于目标掩膜图像进行整体人脸遮挡检测，得到第一遮挡检测结果；在第一遮挡检测结果表示有遮挡的情况下，基于目标掩膜图像进行局部人脸遮挡检测，得到M个局部区域的遮挡检测结果。即需要通过两级遮挡检测，在第一级整体人脸遮挡检测的结果表示有遮挡的情况下，进一步进行局部遮挡检测，得到M个局部区域的遮挡检测结果，实现人脸遮挡的检测，这样，在人脸遮挡检测过程中，即考虑了整体检测，又考虑了局部检测，从而可提高人脸遮挡检测的准确性可提高人脸遮挡检测的准确性。
遮挡检测方法模型训练装置电子设备

[发明专利]一种掩膜组件及其组装方法-CN201710297505.2有效
发明人：张微 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2017-04-28 - 公布日： 2019-04-30 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种掩膜组件及其组装方法，涉及蒸镀技术领域，相对现有技术，可提高第一支撑条的张网精度和遮挡精度。该掩膜组件包括：框架，框架具有中空区域；掩膜板，掩膜板跨设于框架的中空区域，且掩膜板的相对两端固定在框架上；第一支撑条，用于支撑掩膜板；第一支撑条包括层叠设置的第一子支撑条和第二子支撑条，第一子支撑条和第二子支撑条跨设于框架的中空区域用于掩膜组件中。
一种组件及其组装方法

[实用新型]一种掩膜板、彩膜基板、显示面板、显示装置-CN201920017266.5有效
发明人：万彬;熊强;黎敏 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
申请日： 2019-01-04 - 公布日： 2019-06-28 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：本申请提供了一种掩膜板、彩膜基板、显示面板、显示装置，用以顺利制作SLOC产品的低温保护层。掩膜板用于制作黑矩阵和间距测试平台，包括：第一透光区、第二透光区和非透光区；第一透光区设置在需要制作黑矩阵的位置；第二透光区设置在需要制作间距测试平台的位置；间距测试平台用于在采用近接式曝光机制作待制作膜层时，遮挡待制作膜层下方的金属走线。在采用近接式曝光机制作待制作膜层时，由于间距测试平台能够遮挡待制作膜层下方的金属走线，因此，间距测试平台的设置可以有效遮挡待制作膜层下方的金属走线，避免金属走线反光对近接式曝光的影响，可以顺利制作SLOC产品的待制作膜层。
制作膜层测试平台金属走线透光区近接式曝光掩膜板遮挡彩膜基板显示面板显示装置黑矩阵低温保护层非透光区反光申请

[发明专利]一种显示面板的制备方法、显示面板及蒸镀装置-CN201811476207.0在审
发明人：刘淑杰;薛智勇;李海龙;马玲玲;米红玉;刘亮亮 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2018-12-04 - 公布日： 2019-03-15 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明涉及显示技术领域，公开了一种显示面板的制备方法、显示面板及蒸镀装置，该制备方法包括：将衬底基板固定在蒸镀载台上；在衬底基板上贴附用于覆盖预设通孔区域的遮挡片；将开放式掩膜板与衬底基板对位并固定；利用开放式掩膜板对衬底基板进行蒸镀采用上述制备方法制备中间具有通孔的环形显示面板，利用遮挡片遮挡衬底基板的预设通孔位置，避免有机材料蒸镀到预设通孔位置，从而可以有效缓解显示面板的通孔位置封装漏气问题。
衬底基板显示面板制备通孔位置预设蒸镀装置掩膜板遮挡片通孔蒸镀有机材料蒸镀环形显示漏气问题有效缓解对位贴附封装遮挡覆盖

[发明专利]掩膜版、蒸镀方法及显示面板-CN202110457875.4在审
发明人：秦旭;张少虎;张露;胡思明 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2021-04-27 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请实施例提供一种掩膜版、蒸镀方法及显示面板，使用第一掩膜版在待蒸镀结构层上蒸镀目标材料；其中，第一掩膜版包括掩膜版框架、与显示基板的显示区域对应的第一开口区、以及与孔区对应的第一遮挡部，第一遮挡部通过支撑线与掩膜版框架连接；并使用第二掩膜版在待蒸镀结构层上蒸镀目标材料，形成目标材料膜层；其中，第二掩膜版包括与支撑线位置对应的第二开口区。
掩膜版方法显示面板

[发明专利]遮挡人脸识别方法及装置-CN201610782259.5在审
发明人：谭晓衡;郭坦;杨卓;陈涛;张啸梁 -专利权人：重庆大学;深圳天珑无线科技有限公司
申请日： 2016-08-31 - 公布日： 2017-02-01 - 主分类号： G06K9/00 文献下载
摘要：本公开涉及一种遮挡人脸识别方法及装置。方法包括获取目标遮挡人脸图像；对目标遮挡人脸图像进行预处理，得到目标遮挡人脸图像的样本数据，该样本数据作为测试样本数据；确定测试样本数据在训练样本集上的第一表示系数的估计值；根据训练样本集、测试样本数据和第一表示系数的估计值，确定遮挡掩膜；根据遮挡掩膜，确定测试样本数据在训练样本集上的第二表示系数的估计值；根据训练样本集、遮挡掩膜和第二表示系数的估计值，构建身份识别模型；将测试样本数据输入至身份识别模型，获取目标遮挡人脸图像所表示的人物的身份信息由此，可以简单、高效且准确地对遮挡人脸进行识别。
遮挡识别方法装置

[发明专利]掩膜版及显示面板-CN202211223404.8在审
发明人：张怡;王佳骏 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2022-10-08 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实施例提供的掩膜版及显示面板，涉及显示技术领域。掩膜版包括框架以及固定在框架上的至少一组掩膜条，每组掩膜条包括交叠设置的两个掩膜条，掩膜条包括掩膜开口以及围绕掩膜开口的掩膜本体，掩膜开口沿掩膜条延伸方向间隔分布。在交叠的两个掩膜条中，掩膜开口与掩膜本体错位排布，掩膜开口未被掩膜本体遮挡的区域形成形状和尺寸均相同的子像素蒸镀开口。在上述结构中，可以形成相比于掩膜开口的尺寸更小的子像素蒸镀开口，如此可以解决直接采用掩膜开口作为子像素蒸镀开口时因掩膜条制作工艺限制而导致无法制作高分辨率显示面板的问题。
掩膜版显示面板

[实用新型]一种制备触摸屏引线电极区的装置-CN201320286279.5有效
发明人：刘志斌;杨晓晖;陈凯;李月秋;黄海东;赵斌 -专利权人：无锡力合光电石墨烯应用研发中心有限公司;无锡力合光电传感技术有限公司
申请日： 2013-05-23 - 公布日： 2013-10-30 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：所述装置包括用于放置基片（102）的底座（100），以及在溅射镀膜过程中用于保护视窗触控区不被溅射上金属离子的掩膜版（103）；所述掩膜版（103）包括遮挡区（1031）和暴露区（1032），所述遮挡区（1031）呈“凸”形结构，所述暴露区（1032）呈与遮挡区（1031）相配合的“凹”型，且所述掩膜版（103）的大小与基片（102）的大小相同；其中，所述遮挡区（1031）的“凸”形结构包括下面的基台部分本实用新型通过设计一种制备触摸屏引线电极区的装置，将引线电极区分2次镀成，解决了溅射镀膜效果受掩膜版固定端影响的问题；可以直接制得引线电极区，且位置准确。
一种制备触摸屏引线电极装置

[发明专利]蒸镀掩膜版及显示面板-CN202010676472.4在审
发明人：张浩瀚;李彦松;白珊珊;刘佳 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2020-07-14 - 公布日： 2020-09-18 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种蒸镀掩膜版及显示面板，涉及显示技术领域，可以解决待蒸镀基板中的隔垫物被蒸镀掩膜版划伤的问题，该蒸镀掩膜版设置于蒸镀源和待蒸镀基板之间；所述待蒸镀基板靠近所述蒸镀源的一侧具有至少一个隔垫物；所述蒸镀掩膜版包括：掩膜版本体，所述掩膜版本体包括多个蒸镀开口以及位于所述蒸镀开口周边的遮挡部；所述遮挡部具有远离所述蒸镀源的第一表面；所述蒸镀掩膜版还包括多个支撑部，所述多个支撑部设置于所述第一表面上，至少两个支撑部与所述第一表面形成用于容纳所述隔垫物的容纳腔；所述支撑部用于与所述待蒸镀基板相接触，并支撑所述掩膜版本体，使得所述第一表面与所述隔垫物之间具有间隙。
蒸镀掩膜版显示面板

[发明专利]半导体结构的制造方法-CN202310894540.8在审
发明人：邱少稳 -专利权人：长鑫科技集团股份有限公司
申请日： 2023-07-19 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： H01L21/033 文献下载
摘要：本公开实施例涉及半导体领域，提供一种半导体结构的制造方法，包括：提供基底；在基底上形成目标层和图形转移层；形成位于图形转移层表面的第一掩膜层；形成覆盖第一子图形侧壁的牺牲层；形成填充牺牲层之间间隙的填充层；形成遮挡层，若沿垂直于基底表面的方向去除遮挡层暴露出的牺牲层以及牺牲层下方的图形转移层，则遮挡层的边界落填充层的顶面或者落在第一掩膜层的顶面；若沿垂直于基底表面的方向去除遮挡层暴露出的填充层和第一掩膜层以及填充层和第一掩膜层下方的图形转移层，则遮挡层的边界落在牺牲层的顶面；以刻蚀后的图形转移层作为刻蚀图案刻蚀目标层。
半导体结构制造方法