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[发明专利]单层浮雕图形微透镜防伪标识-CN201310495595.8有效
发明人：侯德胜;赵容宇 -专利权人：成都得迈科贸有限公司;侯德胜;赵容宇
申请日： 2013-10-22 - 公布日： 2018-12-04 - 主分类号： G09F3/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种将微透镜阵列图形与微图文阵列图形重叠在一起，组成只有一层浮雕图形结构的微透镜防伪标识。这种单层浮雕图形结构的微透镜防伪标识，在普通灯具照明或自然光下不显现图像，具有防伪隐蔽性，而在点光源照射下能够显现出特殊的微图文放大现象和动态效果。其结构新颖独特，并且可以直接利用已有激光全息模压设备和工艺进行生产，产品形式多样，适用范围很广。
微透镜防伪标识浮雕图形结构单层微透镜阵列图形激光全息模压防伪隐蔽性微图文阵列自然光产品形式灯具照明动态效果浮雕图形图形重叠点光源微图文照射放大图像生产

[实用新型]复合图形衬底及包含该衬底的LED外延结构-CN202122915988.2有效
发明人：郭园;吕腾飞;宋长伟;程志青;芦玲 -专利权人：淮安澳洋顺昌光电技术有限公司
申请日： 2021-11-25 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： H01L33/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及LED芯片技术领域，公开了一种复合图形衬底及包含该衬底的LED外延结构，该复合图形衬底包括基底（11）以及形成于其上的复合微图案（12），复合微图案（12）包括底部微图案（121）以及位于其上的顶部微图案（122），顶部微图案的最大投影面积大于底部微图案的顶面的面积。该LED外延结构包括所述的复合图形衬底（10）。与现有技术相比，本实用新型中的复合图形衬底的顶部微图案的最大投影面积大于所述底部微图案的上表面的面积，在不影响衬底平面的基础上，能够增加复合图形衬底的有效投影面积，将该衬底应用在LED外延结构中，能够增大衬底对
复合图形衬底包含 led 外延结构

[实用新型]一种防伪烫印膜-CN202020313306.3有效
发明人：朱昊枢;叶瑞;孙营春;左志成;蔡文静;陈蓓蓓;陈林森;朱志坚 -专利权人：苏州苏大维格科技集团股份有限公司;江苏维格新材料科技有限公司
申请日： 2020-03-13 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： B41M5/42 文献下载
摘要：所述信息层在远离所述离型层的一侧具有微纳结构，所述镀层仿形设置在所述信息层具有所述微纳结构的一侧上。所述微纳结构包括若干结构单元，若干所述结构单元呈阵列交错排布，所述结构单元包括若干个依次并行且间隔排布的微纳图形，在同一所述结构单元中，各所述微纳图形按照从中间向两边逐渐变短的规律排布，在所述微纳结构中，各个所述微纳图形互不接触，所述微纳图形的纵横比大于1，所述微纳图形包括凸起结构和/或凹槽结构。
一种防伪烫印膜

[发明专利]一种微透镜阵列结构的制作方法-CN202110867524.0在审
发明人：李其凡;史晓华 -专利权人：苏州光舵微纳科技股份有限公司
申请日： 2021-07-30 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：本发明涉及了一种微透镜阵列结构的制作方法，包括：步骤A：在基底的表面均匀涂覆一层光刻胶，形成光刻胶掩膜层；步骤B：对光刻胶掩膜层进行曝光、显影，形成光刻掩膜图形结构；步骤C：对光刻掩膜图形结构进行热熔，使得圆柱形光刻胶柱形成球面型的微透镜形态结构、并继续高温固化，在基底的表面形成光刻胶微透镜阵列图形；步骤D：将光刻胶微透镜阵列图形用于压印模板，通过纳米压印工艺将微透镜阵列图形转移至目标基板上的压印胶上、并固化压印胶，使得目标基板与压印胶形成非接触型微透镜阵列结构。通过上述设置，可解决目前微透镜阵列结构制作工艺复杂、成本高、精度不可控、重复性较差带来的不利于量产化的问题。
一种透镜阵列结构制作方法

[实用新型]防伪膜-CN201520035186.4有效
发明人：王笑冰;李建兵;黄燕燕;何成 -专利权人：深圳市深大极光科技有限公司;珠海百盛防伪技术有限公司
申请日： 2015-01-19 - 公布日： 2015-06-10 - 主分类号： G09F3/02 文献下载
摘要：一种防伪膜，包括图形层、透明基膜和微透镜阵列层，图形层和微透镜阵列层分别设置在透明基膜的相对的两个表面；图形层包括多个子单元图案，子单元图案呈阵列分布，图形层的子单元图案和未被子单元图案覆盖的区域的结构为全息素面光栅结构或平面结构，子单元图案和未被子单元图案覆盖的区域的结构不同；微透镜阵列层包括呈阵列分布的多个微透镜，微透镜阵列层的微透镜和图形层的子单元图案一一对应。该防伪膜的微透镜和子单元图案属微米级结构，且匹配度要求高，因此该防伪膜结构更加精细，技术门槛高，仿造难度更大，防伪能力更强。
防伪

[发明专利]一种微纳米图形化蓝宝石衬底及其制备方法-CN201510500814.6在审
发明人：吴飞翔;林海凤;杜治新;汪健;董发;李鹏飞 -专利权人：南通同方半导体有限公司;同方股份有限公司
申请日： 2015-08-17 - 公布日： 2017-03-01 - 主分类号： H01L33/22 文献下载
摘要：一种微纳米图形化蓝宝石衬底及其制备方法，涉及半导体技术领域。本发明微纳米图形化蓝宝石衬底包括微米图形蓝宝石衬底和在所述微米图形蓝宝石衬底上制作的纳米图形结构。同现有技术相比，本发明在微米图形化蓝宝石衬底基础上，通过软模板纳米压印技术来制作纳米周期结构，形成微纳米结构的图形化蓝宝石衬底，可有效增加芯片的正面出光，减少蓝宝石对LED芯片光的吸收，从而提升LED亮度
一种纳米图形蓝宝石衬底及其制备方法

[实用新型]一种微纳米图形化蓝宝石衬底-CN201520615273.7有效
发明人：吴飞翔;林海凤;杜治新;汪健;董发;李鹏飞 -专利权人：南通同方半导体有限公司;同方股份有限公司
申请日： 2015-08-17 - 公布日： 2016-01-13 - 主分类号： H01L33/22 文献下载
摘要：一种微纳米图形化蓝宝石衬底，涉及半导体技术领域。本实用新型微纳米图形化蓝宝石衬底包括微米图形蓝宝石衬底和在所述微米图形蓝宝石衬底上制作的纳米图形结构。同现有技术相比，本实用新型在微米图形化蓝宝石衬底基础上，通过软模板纳米压印技术来制作纳米周期结构，形成微纳米结构的图形化蓝宝石衬底，可有效增加芯片的正面出光，减少蓝宝石对LED芯片光的吸收，从而提升LED
一种纳米图形蓝宝石衬底

[发明专利]一种微透镜结构及其制作方法、显示器件-CN202011277955.3有效
发明人：李多辉;郭康;赵晋;宋梦亚;刘震;张笑;谷新 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2020-11-16 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：本发明提供一种微透镜结构及其制作方法、显示器件，涉及显示技术领域，为解决目前制作的微透镜的拱高较小，无法满足一些应用场景的需求的问题。所述微透镜结构的制作方法包括：在承载体上制作层叠设置的第一牺牲层和第二牺牲层；将第二牺牲层形成为第二牺牲图形，以第二牺牲图形为掩膜，对第一牺牲层构图，形成第一牺牲图形，第一牺牲图形限定出至少一个第一开口区；形成透光有机材料层，至少部分透光有机材料层填充在至少一个第一开口区中；去除第一牺牲图形，形成位于至少一个第一开口区中的透镜过渡图形；对透镜过渡图形进行热回流工艺，形成至少一个微透镜。本发明提供的微透镜结构及其制作方法用于制作微透镜结构。
一种透镜结构及其制作方法显示器件

[发明专利]金属微器件LIGA成型过程中提高电铸层均匀性的方法-CN201810457726.6有效
发明人：严战非;赵明;顾琪;杜立群;吕辉 -专利权人：中国电子科技集团公司第十四研究所;大连理工大学
申请日： 2018-05-14 - 公布日： 2019-11-29 - 主分类号： C25D1/00 文献下载
摘要：本发明提出了一种金属微器件LIGA成型过程中提高电铸层均匀性的方法，首先在基板上涂第一负光刻胶，进行前烘，进行曝光，显影，并进行烘烤成坚硬胶膜；在图形化的第一负光刻胶胶膜上溅射导电金属，得到金属种子层；在种子层上涂覆正性光刻胶，经过前烘、曝光、显影后，将辅助结构的图形转移到正性光刻胶胶膜上，即形成掩蔽层；对种子层进行腐蚀，得到辅助结构图形的种子层；在具有微器件图形的金属基板和具有辅助结构图形的种子层上涂覆第二负光刻胶，经过前烘，曝光，后烘，显影，得到具有微器件和辅助结构图形的第二负光刻胶胶膜；微电铸金属；去除光刻胶及辅助结构电铸层，得到微器件；本方法提高复杂结构微器件的铸层均匀性。
辅助结构光刻胶微器件种子层胶膜电铸层均匀性前烘显影金属微器件正性光刻胶成型过程曝光涂覆金属种子层导电金属复杂结构金属基板图形转移图形化微电铸掩蔽层烘烤后烘基板溅射铸层去除腐蚀金属

[实用新型]成像膜-CN202223179539.7有效
发明人：周菲;洪莘 -专利权人：昇印光电（昆山）股份有限公司
申请日： 2022-11-29 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： G02B5/00 文献下载
摘要：聚焦层包括多个微结构，图文层包括多个微图形；聚焦层和图文层层叠设置，多个微图形与多个微结构相适配形成具有放大效果的影像。图文层通过压印UV彩胶以图形化设置，并形成凸起或凹陷设置的微图形，且微图形的高度或深度大于等于2μm，从而不需要纳米印刷也形成高分辨率的影像。
成像

[发明专利]一种基于3D打印物体表面凹凸不平特性制备模拟人体管状结构曲面微图形芯片的新方法-CN201710041819.6有效
发明人：罗明志;金阳;余培丽;孙忆民;张治国;邓林红 -专利权人：常州大学
申请日： 2017-01-20 - 公布日： 2020-04-24 - 主分类号： C12N5/077 文献下载
摘要：模拟体内真实微图形的3D细胞培养体系在生理、病理和药物研究过程中均有重要应用。人体气道、血管和腺管等结构具有特殊的曲面结构，这种曲面微环境影响细胞的排布、功能和药物响应。本发明的目的是提供一种制备模拟体内管状结构二维曲面微图形芯片的新方法，包括以下步骤：采用桌面级挤出成型3D打印机将聚乳酸塑料打印一个竖立平板，通过控制打印精度调节平板表面突起微图形曲率；在平板表面制备聚二甲基硅氧烷(PDMS)凝胶，从而获得具有不同二维曲面的凹面微图形芯片；在上述PDMS胶表面再次制备一层PDMS凝胶，从而获得具有不同二维曲面的凸面微图形芯片；在曲面微图形芯片上接种平滑肌细胞和上皮细胞。结果显示，在凸面微图形芯片表面，平滑肌细胞和上皮细胞呈现与体内类似的排布和功能。该方法为后期制备更为复杂的管状结构器官芯片奠定基础。
一种基于打印物体表面凹凸不平特性制备模拟人体管状结构曲面图形芯片新方法

[发明专利]一种子像素结构、像素排布结构和硅基微显示器-CN202010508224.9在审
发明人：季渊;沈伟星;王成;刘万林;穆廷洲 -专利权人：昀光微电子（上海）有限公司
申请日： 2020-06-05 - 公布日： 2020-08-25 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：本发明涉及微显示技术领域，具体涉及一种子像素结构、像素排布结构和硅基微显示器，本发明所述子像素结构包括：第一部分和第二部分，第一部分在硅基微显示器的硅基板上的投影形成第一图形，第二部分在硅基微显示器的硅基板上的投影形成第二图形，第一图形与第二图形均为平行四边形且二者之间呈镜像对称；第一图形和第二图形之间形成第一夹角，第一夹角大于0度小于180度。本发明能够提高硅基微显示器的抗锯齿作用，改善硅基微显示器的显示效果，提升用户使用体验。
种子像素结构排布硅基微显示器

[实用新型]一种子像素结构、像素排布结构和硅基微显示器-CN202021028476.3有效
发明人：季渊;沈伟星;王成;刘万林;穆廷洲 -专利权人：昀光微电子（上海）有限公司
申请日： 2020-06-05 - 公布日： 2021-01-05 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：本实用新型涉及微显示技术领域，具体涉及一种子像素结构、像素排布结构和硅基微显示器，本实用新型所述子像素结构包括：第一部分和第二部分，第一部分在硅基微显示器的硅基板上的投影形成第一图形，第二部分在硅基微显示器的硅基板上的投影形成第二图形，第一图形与第二图形均为平行四边形且二者之间呈镜像对称；第一图形和第二图形之间形成第一夹角，第一夹角大于0度小于180度。本实用新型能够提高硅基微显示器的抗锯齿作用，改善硅基微显示器的显示效果，提升用户使用体验。
种子像素结构排布硅基微显示器

[发明专利]用于化学铣削工艺制作镀金铜带微连接线的光刻掩膜版-CN201611015245.7有效
发明人：曹乾涛;莫秀英;龙江华 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十一研究所
申请日： 2016-11-18 - 公布日： 2019-06-04 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于化学铣削工艺制作镀金铜带微连接线的光刻掩膜版。其掩膜版版图结构包括正方形外框以及由正方形外框的四个顶点两两相连形成的两条对角梁，由两条对角梁将正方形外框平分成四个呈等腰直角三角形的有效图形区；每个有效图形区内均设有微连接线图形；所述微连接线图形是由若干个相等宽度、相互平行且等间距设置的微连接线组成，各条微连接线均垂直于对应的有效图形区的斜边；每条微连接线的一端位于有效图形区的斜边，另一端位于有效图形区的一条直角边。本发明中的光刻掩膜版版图结构布局方式趋于合理，光刻转移图形后，再通过化学铣削工艺形成的整体微结构整体受力均匀。
用于化学铣削工艺制作镀金铜带微连接线光刻掩膜版

[发明专利]一种面向图形化金刚石薄膜制备的微增减材复合制造方法-CN201711498142.5有效
发明人：崔雨潇;林彬 -专利权人：天津大学
申请日： 2017-12-30 - 公布日： 2020-04-07 - 主分类号： C23C16/27 文献下载
摘要：一种面向图形化金刚石薄膜制备的微增减材复合制造方法，包括：利用激光刻蚀在金刚石薄膜表面进行图形化微细加工，实现微减材制造；利用化学气相沉积对图形化的金刚石薄膜进行再沉积处理，包括：去除图形化金刚石薄膜表面的非金刚石碳相，修复图形化金刚石薄膜表面损伤，同时去除图形化金刚石膜内激光刻蚀加工残余应力，实现微增材制造；重复上述过程，直至形成微细结构完整的图形化金刚石薄膜。本发明能够实现微增材制造，最终获得高质量、高精度并且微细结构完整的图形化金刚石薄膜。
一种面向图形金刚石薄膜制备增减复合制造方法