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- [发明专利]一种纳米压印方法和装置-CN202211335534.0在审
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徐继祥;赵沙欧;孟祥峰
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浙江至格科技有限公司
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2022-10-28
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2023-01-24
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G03F7/00
- 本发明涉及一种纳米压印方法和装置,属于纳米压印技术领域,解决了现有的方法会造成聚合物溢出玻璃基体外或微纳结构填充不够的问题。包括:(1)向软模板设置有微纳图形的一面喷涂聚合物胶水层,使聚合物胶水层覆盖所述微纳图形,且聚合物胶水层的厚度大于微纳图形的厚度;(2)将软模板喷涂有聚合物胶水层的一面与玻璃基体相对接触,进行压印,使用紫外线灯照射,待聚合物胶水层固化后,去除带有微纳图形的软膜板,具有微纳图形的聚合物胶水层留在玻璃基体表面,即得到具有微纳图形的玻璃基体。该方法可以避免聚合物外溢和结构填充不完整。
- 一种纳米压印方法装置
- [发明专利]大面积微纳结构软压印方法-CN200710099102.3无效
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董小春;杜春雷;史立芳;罗先刚
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中国科学院光电技术研究所
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2007-05-11
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2007-10-10
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G03F7/00
- 大面积微纳结构软压印方法:首先采用光刻方法在硬质基底表面加工需要微纳图形结构,在加工完成的硬质模板表面涂预聚的有机材料PDMS,完成软质模板的制作;将软质模板的非图形面黏附于经过双面抛平的基片表面,并滴加有机材料抗蚀剂进行旋涂,旋涂后从基片表面取下,并将软质模板的结构面与基片的抛光面进行紧密接触;将软质模板从基片表面掀掉,有机材料抗蚀剂材质的微纳结构将被遗留在基片表面,进行热烘焙固化处理,并通过干法刻蚀工艺即可去除底胶或将微纳图形转移至基底表面本发明不仅解决了大面积范围内微纳图形的高保真度、高一致性压印复制问题,减小了压印微纳图形性的留膜量,可以实现特征尺寸从几十微米到几十纳米范围内微纳结构的高精度复制。
- 大面积结构压印方法
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