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- [发明专利]基板处理装置、涂敷装置及涂敷方法-CN200610115921.8无效
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元村秀峰
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HOYA株式会社
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2004-04-09
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2007-04-04
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B05C5/00
- 提供一种不使用旋转机构,就可以使基板的被处理面朝向下方吸附在吸附板上的基板处理装置、涂敷装置及涂敷方法。利用基板处理单元2的毛细管现象使储存在基板10下方的涂敷液上升,使所上升的所述涂敷液接触朝向下方的基板10的被涂敷面,通过使基板处理单元2和基板10相对移动,在被涂敷面上形成涂敷膜,该涂敷装置具有:可以自由装卸地保持基板10的保持单元5a;在使基板10的被处理面朝向下方的状态下,从保持单元5a吸附基板10的吸附单元3;和使基板处理单元2和/或吸附单元3在水平面内移动的移动单元4。
- 处理装置方法
- [实用新型]保持装置-CN202222427620.6有效
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刘云飞;王浩然;赖浩勇;安博智;刘铿;胡柳;谷云森
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捷普电子(广州)有限公司
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2022-09-13
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2022-12-30
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B05B13/02
- 本申请实施例提供了一种保持装置,其包括:基体、第一吸附器、第二吸附器和直线驱动器;所述第一吸附器固定设置于所述基体,所述第二吸附器与所述第一吸附器相对设置,所述直线驱动器设置于所述基体,所述直线驱动器还与所述第二吸附器驱动连接,以驱动所述第二吸附器靠近或远离所述第一吸附器;所述第一吸附器用于与待吸附件的第一侧部吸附连接;在所述第二吸附器移动至靠近所述第一吸附器的位置的情况下,所述第二吸附器能够与所述待吸附件的第二侧部吸附连接,以带动所述待吸附件脱离所述第一吸附器,其中,所述第一侧部与所述第二侧部相背离。所述保持装置用于使得待吸附件的第一侧部和第二侧部能够分别暴露在外。
- 保持装置
- [发明专利]衬底洗净装置-CN202080064970.1在审
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甲盛谆;西山耕二
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株式会社斯库林集团
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2020-08-07
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2022-04-26
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B08B1/02
- 本发明的衬底洗净装置的旋转保持部保持衬底下表面中央部而旋转。第1及第2直动保持部分别保持衬底下表面周缘部的相互对向的第1及第2区域,且在平行于第1方向的方向往复移动。下表面洗净器在由第1及第2直动保持部保持衬底时洗净衬底下表面中央部,在由旋转保持部将衬底保持及旋转时洗净衬底下表面周缘部。第1直动保持部包含通过吸引而保持衬底的第1区域的多个第1吸附垫;第2直动保持部包含通过吸引而保持衬底的第2区域的多个第2吸附垫。
- 衬底洗净装置
- [发明专利]曝光装置、平板显示器的制造方法、元件制造方法、及曝光方法-CN202110485378.5在审
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青木保夫
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株式会社尼康
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2017-09-29
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2021-08-10
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G03F7/20
- 一种液晶曝光装置,其使由非接触固定器(32)非接触地支撑的基板(P)相对于投影光学系统而相对移动,从而相对于基板(P)进行扫描曝光,所述液晶曝光装置包括:保持垫(10044),保持位于非接触固定器(32)的上方的第1位置的基板(P)的一部分;吸附垫,保持基板(P)的其他部分;第1驱动部,于基板(P)位于第1位置并由吸附垫保持的状态下,使保持垫(10044)自基板(P)的下方朝与上下方向交叉的方向相对移动;以及第2驱动部,使保持基板(P)的第2保持部朝基板(P)非接触地支撑于非接触固定器(32)的第2位置移动;第2驱动部于扫描曝光中,使保持非接触地支撑于非接触固定器(32)的基板(P)的吸附垫相对于投影光学系统而相对移动
- 曝光装置平板显示器制造方法元件
- [发明专利]曝光装置、平板显示器的制造方法、元件制造方法、及曝光方法-CN201780060676.1有效
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青木保夫
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株式会社尼康
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2017-09-29
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2021-05-18
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G03F7/20
- 一种液晶曝光装置,其使由非接触固定器(32)非接触地支撑的基板(P)相对于投影光学系统而相对移动,从而相对于基板(P)进行扫描曝光,所述液晶曝光装置包括:保持垫(10044),保持位于非接触固定器(32)的上方的第1位置的基板(P)的一部分;吸附垫,保持基板(P)的其他部分;第1驱动部,于基板(P)位于第1位置并由吸附垫保持的状态下,使保持垫(10044)自基板(P)的下方朝与上下方向交叉的方向相对移动;以及第2驱动部,使保持基板(P)的第2保持部朝基板(P)非接触地支撑于非接触固定器(32)的第2位置移动;第2驱动部于扫描曝光中,使保持非接触地支撑于非接触固定器(32)的基板(P)的吸附垫相对于投影光学系统而相对移动
- 曝光装置平板显示器制造方法元件
- [实用新型]一种设有新型均压机构的医用PSA制氧设备-CN202122322195.X有效
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蔡利军
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浙江正大空分设备有限公司
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2021-09-25
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2022-01-25
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C01B13/02
- 本实用新型公开了一种设有新型均压机构的医用PSA制氧设备;其特征是还包括设置在吸附器上的均压机构以及设置在吸附器上的便于快速更换吸附剂的换料结构;所述吸附器包含吸附塔A和吸附塔B,所述均压机构包含设置在吸附塔A和吸附塔B之间的均压管路以及与均压管路连接的均压罐。该实用新型通过均压机构的设置使吸附塔A和吸附塔B内的压力通过均压机构保持均衡,当吸附塔A和吸附塔B内压力均过高时,则通过均压管路将其排至均压罐进行缓存,当吸附塔A和吸附塔B内压力过低时,能够在将均压罐内缓冲的气体吸回,保持压力均衡,当压力持续过高时,则通过真空泵将均压罐内的气体排出释放压力,管路少,结构简单,起到压力均衡的同时还能作为备用。
- 一种设有新型机构医用psa设备
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