专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体装置-CN201980046761.1在审
  • 杉本雅裕;高桥勋;四户孝;雨堤耕史 - 株式会社FLOSFIA
  • 2019-07-10 - 2021-02-26 - H01L29/872
  • 本发明提供一种尤其对功率器件有用且半导体特性优异的半导体装置。一种半导体装置(例如,结势垒肖特基二极管等),在n型半导体层与电极之间设置有多个p型半导体(例如,镁掺杂氧化镓等),所述半导体装置的特征在于,所述n型半导体层包含镓(例如,氧化镓等),设置有三个以上的所述p型半导体,并且所述p型半导体埋入到所述n型半导体层中。
  • 半导体装置
  • [发明专利]半导体集成电路器件和电子器件-CN201610832644.6有效
  • 鹤丸诚;贞方健太 - 瑞萨电子株式会社
  • 2016-09-19 - 2020-07-03 - H02M1/00
  • 本发明涉及一种半导体集成电路器件和电子器件。所述电子器件具有功率半导体器件、第一半导体集成电路器件和第二半导体集成电路器件。所述功率半导体器件具有输出感测电流的端子。所述第一半导体集成电路器件具有基于感测电流来检测过电流的过电流检测电路和检测功率半导体器件的温度的温度检测电路。所述第二半导体集成电路器件具有存储器件,其存储所述功率半导体器件的电流镜比率的温度特性;温度检测单元,其基于所述温度检测电路的输出来计算温度;以及过电流检测控制单元,其基于由所述温度检测单元检测到的温度和所述存储器件中存储的所述电流镜比率的温度特性来控制所述过电流检测电路
  • 半导体集成电路器件电子器件
  • [发明专利]半导体器件的制造方法-CN01124759.2有效
  • 池谷浩司 - 三洋电机株式会社
  • 2001-08-03 - 2002-02-27 - H01L21/66
  • 一种半导体器件的制造方法,可以克服在通过以往的传递模塑制造单独的半导体器件的方法中,由于在传递模塑以后凌乱地分离为一个个半导体器件,因此需要使各个半导体器件对准一定的方向单独地进行特性的测定,增加多余的工艺并且浪费时间的缺点本发明在粘贴在粘合片的状态下测定一个个半导体器件40的特性。这时,一个个半导体器件40沿一定方向对准并排列,进而,用照相机视野53捕捉半导体器件40a进行位置识别,省略与半导体器件40a相邻接的半导体器件40b、40c、40d、40e的位置识别工艺。
  • 半导体器件制造方法
  • [发明专利]半导体器件及其制造方法-CN200610066109.0有效
  • 西乡薰;永井孝一 - 富士通株式会社
  • 2006-03-24 - 2007-01-24 - H01L21/56
  • 本发明提供半导体器件及其制造方法,其能实现微型化且高度集成的FeRAM超薄半导体芯片,其中尽管为薄型封装结构,但铁电电容器的特性退化能够得到抑制。利用其填充剂含量值设定在重量百分比90%- 93%的范围内的密封树脂,将该半导体芯片塑封起来,从而形成封装结构。本发明的半导体器件包括:半导体芯片,包含通过排列多个半导体元件构成的存储器单元,每个半导体元件包含铁电电容器结构,该铁电电容器结构通过将具有铁电特性的铁电膜夹在两个电极之间构成;以及密封树脂,用以覆盖并密封上述半导体芯片,该半导体器件形成具有1.27mm或更低的安装高度的薄型封装结构。
  • 半导体器件及其制造方法
  • [发明专利]半导体装置-CN200810215389.6无效
  • 及川慎 - 三洋电机株式会社;三洋半导体株式会社
  • 2008-09-11 - 2009-03-18 - H01L25/00
  • 本发明提供一种半导体装置。为实现高耐压及大电流容量,一般需要确保增加晶体管单元数量,增大衬底尺寸。至少难以在维持现有特性的状态下实现半导体装置的小型化。本发明的半导体装置通过将具有两个安装区域的矩形头部对折而将两个半导体芯片与相对的安装区域固定,由此,在封装的安装面积维持以往的一个半导体芯片的面积的同时,可实现半导体芯片的积层结构,得到与两个半导体芯片相应的特性因此,与半导体芯片是一个的情况相比,通过增加晶体管数量,能降低接通电阻,实现低电压驱动。另外,能够谋求增大电流。与将两个半导体芯片并排安装在头部上的情况相比,能够实现封装外形的安装面积的小型化。
  • 半导体装置
  • [发明专利]包括沟道层的半导体器件的制造方法-CN200710169154.3无效
  • 林钟欣;洪昌基;尹普彦;尹煋圭;崔锡宪;韩相晔 - 三星电子株式会社
  • 2007-12-27 - 2008-09-03 - H01L21/336
  • 本发明公开了一种包含沟道层的半导体器件的制造方法,其包括在半导体衬底上形成单晶半导体层。该单晶半导体层具有从其表面延伸的突起。对单晶半导体层执行第一抛光工艺以除去部分突起,使得单晶半导体层包括突起的保留部分。执行不同于第一抛光工艺的第二抛光工艺以除去突起的保留部分并定义具有基本均匀厚度的大致平坦的单晶半导体层。在单晶半导体层上形成牺牲层并用作第一抛光工艺的抛光停止以定义牺牲层图案,该牺牲层图案可以在第二抛光工艺之前移除。也论述了堆叠半导体存储器件的相关制造方法。根据本发明,形成具有改善表面粗糙特性和大致均匀厚度的硅沟道层,因而,形成在硅沟道层上的晶体管可以具有改善的特性
  • 包括沟道半导体器件制造方法
  • [发明专利]半导体器件及其制造方法-CN200580051335.5有效
  • 田中琢尔 - 富士通株式会社
  • 2005-08-18 - 2008-08-06 - H01L27/08
  • 本发明的课题为,涉及一种适合于半导体器件的稳定特性半导体器件及其制造方法,提供一种谋求具有三阱结构的半导体器件三阱内的晶体管的稳定特性半导体器件及其制造方法。为了解决上述课题,本发明的半导体器件在半导体器件内具有,第一阱区域和第二阱区域、及形成在所述第二阱区域的多个晶体管。而且,半导体器件具有贯通口区域,该贯通口区域贯通所述第一阱区域而形成,而且在所述第二阱的底部,使所述第二阱区域和所述半导体衬底电性导通。而且,所述半导体器件的特征在于,所述贯通口区域的边界配置在所述晶体管之间,而且在平面上观察时,所述贯通口区域的边界从所述晶体管分离而被配置。
  • 半导体器件及其制造方法
  • [发明专利]一种用于光源制备的装置-CN202110875081.X有效
  • 李成宇;韩松林;王朝伟;张洪杰 - 中科稀土(长春)有限责任公司
  • 2021-07-30 - 2023-04-28 - F21V9/32
  • 本发明涉及一种用于光源制备的装置,至少包括:分配模块,其用于将荧光胶体分配至具有360~490nm发射峰值波长的第一半导体芯片和/或700‑800nm发射峰值波长的第二半导体芯片上,和/或获取分配至第一半导体芯片和/或第二半导体芯片上的对应胶点的面积和/或尺寸;用于测量由多个分配有荧光胶体的第一半导体芯片和/或第二半导体芯片所发射光的发光特性的检测模块,控制模块,用于根据检测模块测量的发光特性来计算关于至少一个所述第一半导体芯片和/或第二半导体芯片发光特性的示意值,并基于示意值调整分配模块对荧光胶体的分配量,和/或基于分配模块所获取的胶点面积和/或尺寸来调整分配模块对荧光胶体的分配量以及控制分配模块的移动从而调节点胶间隙。
  • 一种用于光源制备装置
  • [发明专利]半导体装置及其制造方法-CN201911367935.2在审
  • 平田竜也;坂田勇男;清水建树 - 旭化成株式会社
  • 2019-12-26 - 2020-07-07 - H01L23/498
  • 本发明的目的在于提供再布线层中的层间绝缘膜与封装材料的密合性优异且电特性优异的半导体装置及其制造方法。本发明的半导体装置(1)的特征在于,具备半导体芯片(2)、覆盖半导体芯片的封装材料(3)、以及在俯视时面积大于前述半导体芯片的再布线层(4),再布线层的层间绝缘膜(6)在空气气氛下、以10℃/分钟温至700根据本发明,能够提供再布线层中的层间绝缘膜与封装材料的密合性优异且电特性优异的半导体装置及其制造方法。
  • 半导体装置及其制造方法

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