[发明专利]一种薄膜沉积设备、组装方法及减振连接器在审

专利信息
申请号: 202310954890.9 申请日: 2023-07-31
公开(公告)号: CN116949423A 公开(公告)日: 2023-10-27
发明(设计)人: 唐仁鹏;董文惠;路希龙;何吉超 申请(专利权)人: 拓荆科技(上海)有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C23C16/455;F16F13/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 徐迪
地址: 201306 上海市浦东新区中国(上海)*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提供了一种薄膜沉积设备、组装方法及减振连接器。所述薄膜沉积设备包括:主体框架,其上设有至少一个动作机构;工艺腔室,经由减振连接器连接所述主体框架,用于配合所述动作机构对待加工晶圆进行薄膜沉积;以及所述减振连接器,包括连接所述主体框架的第一接头、连接所述工艺腔室的第二接头,以及连接所述第一接头及所述第二接头的阻尼机构。基于这些配置,该薄膜沉积设备能够吸收主体框架上各种阀门及气液管道内部流体的动作产生的微振动,以提升薄膜沉积质量,并减小设备本身由振动带来的危害,以提高设备的工作寿命。
搜索关键词: 一种 薄膜 沉积 设备 组装 方法 连接器
【主权项】:
暂无信息
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