[发明专利]沉积装置及沉积方法

摘要

本发明包括：支撑部，在上面可安装处理物；腔室部，位于所述支撑部上，并且在下面形成处理孔，在所述处理孔与所述处理物之间提供处理空间；源喷射孔，形成在所述处理孔的内周面；源供应部，连接于所述源喷射孔以供应源；激光部，向所述处理空间可照射加工激光；及加热部，为了提高所述加工激光照射区域的周围温度，加热所述加工激光照射区域。并且，在通过化学气象沉积方式在处理物沉积薄膜时，能够抑制或者防止生成异物。

主权项

1.一种沉积装置，其特征在于，包括：支撑部，在上面可安装处理物；腔室部，位于所述支撑部上，并且在下面形成处理孔，在所述处理孔与所述处理物之间提供处理空间；源喷射孔，形成在所述处理孔的内周面；源供应部，连接于所述源喷射孔以供应源；激光部，向所述处理空间可照射加工激光；及加热部，为了提高所述加工激光照射区域的周围温度，加热所述加工激光照射区域，且所述加热部包括：激光单元，将加热激光可照射于所述加工激光照射区域周围，并且照射面积比所述加工激光的照射面积大；或者所述加热部包括：加热灯，使光可照射于所述加工激光照射区域周围，并且照射面积比所述加工激光的照射面积大。