[发明专利]沉积装置和沉积方法无效
| 申请号： | 201380033599.2 | 申请日： | 2013-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN104395496A | 公开（公告）日： | 2015-03-04 |
| 发明（设计）人： | 中野弘文 | 申请（专利权）人： | 拉波特株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人： | 徐谦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 沉积装置(100)使材料颗粒(P)沉积，其包括：离子化部(20)，其在被供应材料颗粒(P)的反应室中利用光电效应使材料颗粒(P)离子化；以及电极部(32、34)，其利用库仑力将离子化的材料颗粒(P)向给定的区域引导。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种沉积装置，使材料颗粒沉积，其特征在于，包括：离子化部，其在被供应上述材料颗粒的反应室中利用光电效应使上述材料颗粒离子化；以及电极部，其利用库仑力将离子化的上述材料颗粒向给定的区域引导。
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- 本实用新型属于一种真空离子镀膜设备视窗压紧机构，包括内六角螺钉，视窗前压法兰，视窗防压垫，胶圈，视窗玻璃，弹簧圈，视窗后法兰，螺帽；其特征在于视窗后法兰（7）焊接到视窗管（8）上，视窗后法兰（7）上有胶圈槽，槽内安装胶圈（4），胶圈（4）起到密封作用；在胶圈（4）上方放视窗玻璃（5），在视窗玻璃（5）上方放视窗防压垫（3），在视窗防压垫（3）上面安装视窗前压法兰（2）；安装完成后，用6个内六角螺钉（1）配合弹簧圈（6）穿过视窗前压法兰（2）固定到视窗后法兰（7）上锁紧；使视窗每个位置均匀受力。该实用新型结构简单，拆装方便快捷，有利于节省安装时间和延长视窗使用寿命。
- 一种集成电路pp膜耐湿性控制工艺-201910705643.9
- 刘志勇;谭剑;马路遥 - 南通新江海动力电子有限公司
- 2019-08-01 - 2019-09-27 - C23C14/32
- 本发明公开了一种集成电路pp膜耐湿性控制工艺，步骤一、将带有pp膜的基板的置于升温箱中，并提升温度至58‑69摄氏度，保持300‑450s，步骤二、转至真空箱，采用1500‑2500目的砂纸对pp膜进行表面挤压处理，挤压压强为35‑65pa。本发明中，对pp膜上的铝膜进行58‑69摄氏度温度软化，然后在真空度为25‑30Pa为真空箱内采用2000目的砂纸采用35‑65pa的压强进行挤压处理，pp膜表层形成密布凹坑状，方便后续涂层附着，转至离子涂层箱中，真空度为40Pa，进行SiO2镀膜，或者进行选取Si和SiO2的混合质量比例为1:3进行镀膜，镀膜时间为14s，镀膜完成后的SiO2镀膜的厚度为80μm，Si和SiO2混合膜厚度为80μm，断面检测致密度高，Si和SiO2可提高PP膜的耐腐蚀性和降低吸水性，电性能方面具有低损耗和低耗电。
- 一种阴极真空弧等离子体磁过滤装置及其应用-201810358050.5
- 廖斌;欧阳晓平;张丰收;张旭;吴先映 - 北京师范大学
- 2018-04-20 - 2019-09-27 - C23C14/32
- 本发明公开了一种阴极真空弧等离子体磁过滤装置，包括阳极筒(2)，阳极筒(2)上依次设置有第一强脉冲线包(201)和抑制线包(202)。该阴极真空弧等离子体磁过滤装置弧斑运动速度高，能明显减少因局部温升造成的大颗粒的喷射；沉积速率为现有技术条件下沉积速度的1‑3倍；由传统磁过滤技术的高斯分布变成在束斑直径范围内的均匀分布，厚度差小于10％，可大幅提高膜层的均匀性；在磁场配合下，源靶材尺寸为100mm时，等离子体的束斑可以实现300mm以上尺寸工件镀膜。
- 大口径圆台形靶材的高真空电弧稳弧装置及溅射方法-201810008801.0
- 叶伟 - 陕西理工大学
- 2018-01-04 - 2019-09-24 - C23C14/32
- 本发明公开的大口径圆台形靶材的高真空电弧稳弧装置，包括阴极靶、屏蔽板、永久磁铁、聚焦线圈、固定装置和弧电源，固定装置中部竖直固定有靶座，靶座外壁上还安装有屏蔽板支撑基座，屏蔽板支撑基座下面连接有屏蔽板，屏蔽板为圆环形且内部中空，阴极靶为圆台形、上端面开设有一圆柱形凹槽，凹槽内设置有永久磁铁，阴极靶穿过屏蔽板中心安装在靶座上，固定装置的两端向下竖直方向固定有聚焦筒，聚焦筒外壁上均匀缠绕着聚焦线圈，弧电源正、负极分别连接到屏蔽板和阴极靶，溅射时阴极靶的侧面和小端面同时发生弧光放电，均匀溅射出阴极靶材离子，本发明所设计的稳弧装置具有结构简单、镀膜质量高、电弧弧斑稳定性好、工作效率高、易于控制的优点。
- 一种电弧离子镀膜装置-201822141572.8
- 冯森;蹤雪梅;何冰 - 江苏徐工工程机械研究院有限公司
- 2018-12-20 - 2019-09-24 - C23C14/32
- 本实用新型公开了一种电弧离子镀膜装置，包括真空室、霍尔离子源、电弧离子源；电弧离子源采用脉冲放电的形式激发靶材，沉积温度低，涂层表面的光洁度好，能够在低温条件下对弹性体制品进行镀膜。装置有两个或多个电弧离子源，每个离子源与真空室侧壁成一定倾斜角度安装，能够保证镀膜的均匀性以及镀膜速率，满足产业化批量生产的需求。本实用新型具有镀膜温度低、镀膜均匀性好、镀膜速率高等优点。
- 一种超硬纳米复合刀具及其制作方法和应用-201910271748.8
- 郭光宇;陈金海;钟伟强 - 科汇纳米技术(深圳)有限公司
- 2019-04-04 - 2019-09-20 - C23C14/32
- 本发明公开一种超硬纳米复合刀具及其制作方法和应用，包括以下步骤：1）刀具清洗：保证刀具基体表面干燥、清洁；2）抽真空处理：将的刀具基体装夹在镀膜设备的转架上，并将转架放置在由Cr靶材、AlCr靶材组成的闭合镀膜设备中，同时对真空室进行抽真空处理，打开加热器升温，将镀膜设备中的温度控制在420℃至550℃；3）离子清洗：向真空室内通入氩气，对刀具基体的表面进行辉光清洗后，关闭氩气；4）制作结合涂层：开启Cr靶材和电弧，并控制电弧电流量为400A至800A，同时通入氮气，使得在刀具基体的表面沉积CrN结合涂层；5）制作纳米复合涂层：关闭Cr靶材，开启AlCr靶材，并电弧控制电流为400A至800A之间，在CrN结合涂层的表面沉积AlCrN纳米复合涂层。
- 一种具有PVD涂层的钛合金切削刀具材料及其制备方法-201810372099.6
- 刘杰;邓欣;伍尚华;梅海娟;王瑞 - 广东工业大学
- 2018-04-23 - 2019-09-20 - C23C14/32
- 本发明涉及一种具有PVD涂层的钛合金切削刀具材料及其制备方法，采用物理气相沉积PVD中的阴极电弧蒸镀工艺制备多元涂层，包括：对试样刀具进行抛光清洗；制备TiN粘结底层；制备TiCNO及TiCN多元涂层；制备保护涂层，可为TiAlZr/TiAlZrCr涂层，TiAlZr/CrN涂层，TiAlZr/ZrN涂层，TiAl/CrN涂层或TiAl/TiAlCr涂层。本发明中将多种合金元素加入到刀具涂层中，形成多元涂层体系，提高了涂层的硬度，改善了涂层的耐磨性和韧性，降低了与钛合金的粘结倾向和摩擦系数。同时，刀具具有抗机械冲击和良好的热稳定性，综合性能好，有效延长了钛合金切削刀具的使用寿命。
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