[发明专利]薄膜沉积源、沉积装置和使用该沉积装置的沉积方法

摘要

公开了一种薄膜沉积源、一种沉积装置和一种使用该沉积装置的沉积方法。所述沉积装置包括沉积源，该沉积源包括将沉积物质喷射在基板的表面上并被布置为沿第一方向的多个喷嘴；和至少一个快门，该至少一个快门通过打开或遮蔽所述沉积物质的喷射通道的至少一部分来控制所述沉积物质的喷射区域。

主权项

一种薄膜沉积装置，包括：沉积源，该沉积源包括多个喷嘴，该多个喷嘴喷射沉积物质以便在基板的一个表面上形成薄膜并且该多个喷嘴沿平行于所述基板的长侧或短侧的第一方向布置；和至少一个快门，该至少一个快门通过打开或遮蔽所述沉积物质的喷射通道的至少一部分而控制所述沉积物质的喷射区域，其中所述至少一个快门包括：至少一个快门板保持器，该至少一个快门板保持器被形成为沿所述第一方向延伸并被布置为平行于所述多个喷嘴；和至少一个快门板，该至少一个快门板沿朝向所述多个喷嘴的方向从所述至少一个快门板保持器伸出，其中所述至少一个快门板伸出的距离沿朝向所述至少一个快门板保持器的中心的方向减小。