[发明专利]包括贯通电极的半导体芯片以及包括其的半导体封装在审

专利信息
申请号: 202110692578.8 申请日: 2021-06-22
公开(公告)号: CN114551386A 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 孙晧荣;金成圭;李美仙 申请(专利权)人: 爱思开海力士有限公司
主分类号: H01L23/48 分类号: H01L23/48;H01L25/065;H01L25/18
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 刘久亮;黄纶伟
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开涉及包括贯通电极的半导体芯片以及包括其的半导体封装。半导体芯片可以包括:主体部分,主体部分具有前表面和后表面;一对贯通电极,该一对贯通电极穿透主体部分;绝缘层,绝缘层设置在主体部分的后表面和该一对贯通电极上;以及后连接电极,后连接电极设置在绝缘层上并且同时与该一对贯通电极连接,其中,该一对贯通电极之间的距离大于绝缘层的厚度的两倍。
搜索关键词: 包括 贯通 电极 半导体 芯片 以及 封装
【主权项】:
暂无信息
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  • 实施方式的半导体装置具有元件区域和将元件区域包围的外周区域,外周区域包含:半导体层,具有第1面和与第1面对置的第2面;第1环状导电体,相对于半导体层,设置于第1面侧,将元件区域包围;第2环状导电体,相对于半导体层,设置于第1面侧,将第1环状导电体包围;以及至少一个第1连接导电体,设置于第1环状导电体与第2环状导电体之间,与第1环状导电体及第2环状导电体连接。
  • 半导体装置及其制造方法-201910115050.7
  • 久米一平 - 铠侠股份有限公司
  • 2019-02-14 - 2023-10-03 - H01L23/48
  • 实施方式提供一种无论TSV的纵横比如何,都能在TSV的底部获得低且稳定的接触电阻的半导体装置及其制造方法。实施方式的半导体装置具备半导体衬底、金属部、积层膜。半导体衬底具有从第1面至与第1面为相反侧的第2面而设置的贯通孔。金属部设置于贯通孔的内部。积层膜设置于金属部与贯通孔的内侧面之间,包含第1材料膜、第2材料膜及第3材料膜至少三层,且第1材料膜及第3材料膜相对于第2材料膜的加工选择比为10以上,相对介电常数为6.5以下。
  • 半导体模块-202180072944.8
  • 竹内谦介 - 三菱电机株式会社
  • 2021-03-05 - 2023-09-29 - H01L23/48
  • 本发明的半导体模块包括:多个半导体开关元件;树脂模塑,其具有侧面,并包围多个所述半导体开关元件;端子构件,其具有在所述树脂模塑的内部与多个所述半导体开关元件电连接的多个内部端子、以及从所述树脂模塑的所述侧面突出的多个外部端子;以及支承构件,其配置在远离所述树脂模塑的所述侧面的位置,在多个所述外部端子排列的方向上延伸,覆盖多个所述外部端子各自的外周的一部分,并固定多个所述外部端子以使得多个所述外部端子彼此分离。
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