[发明专利]存储器装置以及该存储器装置的操作方法在审

专利信息
申请号: 201811517174.X 申请日: 2018-12-12
公开(公告)号: CN110400588A 公开(公告)日: 2019-11-01
发明(设计)人: 李熙烈;李丙仁;李相宪 申请(专利权)人: 爱思开海力士有限公司
主分类号: G11C16/04 分类号: G11C16/04;G11C16/08;G11C16/10;G11C16/34
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 刘久亮;黄纶伟
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 存储器装置以及该存储器装置的操作方法。一种存储器装置包括:存储器单元阵列,其包括多个串;外围电路,其联接到存储器单元阵列并且被配置用于依次对所述多个串执行编程电压施加操作、编程验证操作和空穴注入操作;以及控制逻辑,其被配置用于控制外围电路的操作,其中,在空穴注入操作期间,控制逻辑控制外围电路的操作以在所述多个串中的每一个的源极选择晶体管下方的沟道处生成栅诱导漏极泄漏GIDL。
搜索关键词: 存储器装置 外围电路 存储器单元阵列 空穴 控制逻辑 源极选择晶体管 编程验证操作 编程电压 操作期间 沟道处 漏极 配置 泄漏 诱导 施加
【主权项】:
1.一种存储器装置,该存储器装置包括:存储器单元阵列,该存储器单元阵列包括多个串;外围电路,该外围电路联接到所述存储器单元阵列并且被配置为依次对所述多个串执行编程电压施加操作、编程验证操作和空穴注入操作;以及控制逻辑,该控制逻辑被配置为控制所述外围电路的操作,其中,在所述空穴注入操作期间,所述控制逻辑控制所述外围电路的操作以在所述多个串中的每一个的源极选择晶体管下方的沟道处生成栅诱导漏极泄漏GIDL。
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