[实用新型]半导体器件有效
申请号: | 201320118515.2 | 申请日: | 2013-03-15 |
公开(公告)号: | CN203250741U | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | O.布兰克;R.西米尼克 | 申请(专利权)人: | 英飞凌科技奥地利有限公司 |
主分类号: | H01L29/40 | 分类号: | H01L29/40;H01L29/78;H01L29/739 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 曲宝壮;李浩 |
地址: | 奥地利*** | 国省代码: | 奥地利;AT |
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摘要: | 本实用新型提供一种半导体器件,包含:位于沟槽中的场板(13);相邻沟槽之间第一导电型的源区(8);相邻沟槽之间源区(8)下方的第二导电型的体区(7);电介质层(17)上的互连层(11),其中互连层(11)经由电介质层(17)中的至少两个接触孔电连接到同一场板(13),其中所述源区和/或体区比体区下面相邻沟槽之间的台面漂移区宽。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 | ||
【主权项】:
一种半导体器件,包含: 位于沟槽中的场板(13);相邻沟槽之间第一导电型的源区(8);相邻沟槽之间源区(8)下方的第二导电型的体区(7);电介质层(17)上的互连层(11),其中互连层(11)经由电介质层(17)中的至少两个接触孔电连接到同一场板(13),其中所述源区和/或体区比体区下面相邻沟槽之间的台面漂移区宽。
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