[发明专利]在SRAM设计中使用双栅极晶体管提升读/写边界有效

专利信息
申请号: 200910143857.8 申请日: 2009-05-31
公开(公告)号: CN101770805A 公开(公告)日: 2010-07-07
发明(设计)人: 陈炎辉;吴瑞仁 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: G11C11/40 分类号: G11C11/40;G11C11/412;G11C11/413
代理公司: 北京市德恒律师事务所 11306 代理人: 梁永;马铁良
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种集成电路结构包括静态随机存取存储器(SRAM)单元。SRAM单元包括上拉晶体管和与该上拉晶体管形成反相器的一下拉晶体管。该下拉晶体管包括连接到该上拉晶体管的栅极的前栅极,和与该前栅极解耦的后栅极。
搜索关键词: sram 设计 使用 栅极 晶体管 提升 边界
【主权项】:
一种集成电路结构,包括:静态随机存取存储器(SRAM)单元,包括:第一上拉晶体管;和与所述第一上拉晶体管形成第一反相器的第一下拉晶体管,其中,所述第一下拉晶体管包括一连接到所述第一上拉晶体管的栅极的前栅极,以及一与所述第一前栅极解耦的后栅极。
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