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[发明专利]可检测气体泄漏的密闭腔体-CN201810611239.0有效
发明人：王立聪;颜廷彪;叶日铨;黄志凯 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2018-06-14 - 公布日： 2020-12-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明技术方案公开了一种可检测气体泄漏的密闭腔体，包括：上腔体，在上表面设有进气口和排气口；下腔体，所述下腔体的上表面与所述上腔体下表面贴合设置，形成一个密闭空间；密封圈，设置于所述上腔体与所述下腔体之间；第一沟槽，呈环形，位于所述上腔体下表面边缘，且位于所述密封圈的外侧；第二沟槽，呈环形，位于所述下腔体上表面边缘，且位于所述密封圈的外侧，所述第一沟槽和所述第二沟槽相对设置构成一个环形的闭合隔离结构。采用上述的密闭腔体，通过在密封圈外侧设置闭合隔离结构，形成净化气体屏障，可以及时检测出工艺气体的泄漏。
检测气体泄漏密闭

[实用新型]晶圆冷却装置及涂胶显影设备-CN201920668583.3有效
发明人：张海陆;颜廷彪 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-05-10 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种晶圆冷却装置及涂胶显影设备，所述晶圆冷却装置包括：冷却盘，用于承载晶圆；均流板，设置于所述冷却盘的下方，且均流板上设置有第一路槽；工作流体，设置于所述第一路槽内。本实用新型提供的晶圆冷却装置降低了冷却管破裂的几率，减少设备能耗，节约生产成本，而且避免了在均流板升降过程中冷却管位置的偏移，减少述冷却管破损几率的同时，降低了晶圆重工的几率，提高了产品良率。
冷却装置涂胶显影设备

[实用新型]热板装置-CN201920414386.9有效
发明人：杨军;颜廷彪;黄志凯;叶日铨 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-03-28 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： H05B3/20 文献下载
摘要：本实用新型提供一种热板装置，包括：热板；用于加热热板的加热结构，加热结构包括设置于热板下方的基体及设置于基体内的加热芯体，加热芯体与电极相连接。通过采用加热芯体加热基体，再通过基体加热热板的间接方式加热热板，由于基体在加热芯体的加热下先受热均匀，相当于一个温度均匀的发热体，所以放置在基体上的热板可被均匀加热，从而提高热板的受热均匀性；采用陶瓷作为基体的材料，由于陶瓷材料结构致密且均匀，加热速率快且均匀，从而对热板的加热更均匀。
装置

[实用新型]一种传送过渡单元-CN201920481510.3有效
发明人：张海陆;颜廷彪 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-04-11 - 公布日： 2020-02-04 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种传送过渡单元，可用于光阻涂布机中。当机械手臂将晶圆送到传送过渡单元时，如果第一检测机构没有检测到晶圆，那么就有可能发生掉片或者晶圆破损。此时光阻涂布机中的信号处理器件会接收到来自第一检测机构的异常信号，并给出预警信号，技术人员就可以及时检查设备并发现问题。除此之外，还可以在支撑杆上设置第二检测机构用于检测晶圆的位置。利用本实用新型提出的结构可以降低晶圆重工以及报废甚至污染其它晶圆的概率，还可减少不必要的怠机，从而提高产品的良率，提高设备的正常运行时间。另外，本实用新型提出的结构可以应用在光阻涂布机中的多种传送过渡单元中，如TRS单元、TCP单元、SHU单元、或BUF单元。
晶圆本实用新型过渡单元光阻涂布机传送信号处理器件机械手臂检查设备异常信号预警信号涂布机支撑杆检测怠机掉片可用良率重工破损报废概率污染应用发现

[实用新型]用于放置喷嘴的装置-CN201920450748.X有效
发明人：张海陆;王立聪;颜廷彪 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-04-03 - 公布日： 2020-01-21 - 主分类号： B05B15/555 文献下载
摘要：本实用新型提供一种用于放置喷嘴的装置，其能够对喷嘴进行单独清洗，能够减少清洗液的使用量，避免不同的喷嘴之间的交叉污染，且能够预防多种光刻胶混合后发生反应形成结晶而堵塞排液管的情况发生，降低清洗腔及排液管的清洗频率；同时，喷嘴不需要移动就可以清洗，提高了设备的利用率，降低了生产成本；另外，在喷嘴闲置时，在清洗腔中可存放清洗液，利用清洗液的挥发，保证喷嘴闲置时也能够时刻处于湿润的状态，避免光刻胶在所述喷嘴上结晶，从而避免喷嘴被污染。
喷嘴清洗液光刻胶排液管清洗腔清洗闲置本实用新型交叉污染清洗频率挥发生产成本湿润堵塞移动污染预防保证

[实用新型]涂布装置-CN201822024234.6有效
发明人：郭正军;颜廷彪;黄志凯;叶日铨 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2018-12-04 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： B05C9/02 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种涂布装置，所述涂布装置包括盘体和盖体；所述盖体与所述盘体能够相互贴合以形成涂布腔；所述盖体内设置有进气通道和多个出气通道，所述进气通道通过多个进气口与所述涂布腔连通，各所述出气通道通过多个出气口与所述涂布腔连通。完成涂布后多涂的HMDS可经通过多个出气通道排出涂布腔外，因此解决了现有HMDS涂布装置排气耗时长的问题。进一步的，正由于HDMS通过与所述涂布腔连通的所述出气通道排出涂布腔外，而所述出气通道设置在所述盖体内，因此，多余的HDMS的排出是一个自下至上的过程，排出时不会经过所述盘体和所述盖体的贴合处，故而不会存在现有HMDS涂布装置存在的HDMS扩散到装置的盘体和盖体相贴合处而导致HDMS外漏的风险。
涂布腔出气通道涂布装置盖体排出盘体连通进气通道贴合处进气口体内本实用新型出气口贴合外漏排气耗时扩散

[实用新型]漏液传感器的固定装置-CN201920482663.X有效
发明人：潘展望;颜廷彪;黄志凯 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-04-10 - 公布日： 2019-10-18 - 主分类号： G01M3/40 文献下载
摘要：本实用新型提供一种漏液传感器的固定装置，包括第一固定部件及第二固定部件；第一固定部件包括调节单元，漏液传感器与调节单元相接触，且通过调节单元固定漏液传感器；第二固定部件与机器相连接，且第一固定部件与第二固定部件相连接。本实用新型通过调节单元固定漏液传感器，从而可提高安装及拆卸漏液传感器的次数，提高固定装置的使用便捷性，延长固定装置的使用寿命；通过与机器相连接的第二固定部件实现第一固定部件与机器的连接，方便第一固定部件的安装及拆卸，降低对漏液传感器的拆装频率，从而提高漏液传感器及调节单元的使用寿命；可提高机器的利用率，提高产能，提高产品质量，避免资源的浪费。
固定部件漏液传感器固定装置本实用新型使用寿命拆卸延长固定装置便捷性拆装产能

[实用新型]承载台及采用该承载台的光刻胶涂布设备-CN201920451176.7有效
发明人：王立聪;颜廷彪;叶日铨;黄志凯 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-04-03 - 公布日： 2019-10-15 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本实用新型提供一种承载台及采用该承载台的光刻胶涂布设备，其中，清洗系统能够对内壳体的外侧壁及外壳体的内侧壁进行定期清洗，降低承载台的内壳体及外壳体的替换频率，大大提高了光刻胶涂布设备的工作效率。
承载台光刻胶涂布外壳体本实用新型工作效率清洗系统内侧壁内壳体外侧壁壳体清洗替换

[实用新型]供液系统-CN201920482664.4有效
发明人：刘庆超;徐丽芝;颜廷彪;黄志凯;叶日铨 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-04-10 - 公布日： 2019-10-11 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本实用新型提供一种供液系统，供液系统包括储液装置及液体处理装置，其中，液体处理装置包括：伸缩部件及驱动部件；伸缩部件与储液装置相连通，驱动部件与伸缩部件相连接，通过驱动部件驱动伸缩部件运行。本实用新型的供液系统，通过包括伸缩部件及驱动部件的液体处理装置，采用负压真空吸取方式，可降低伸缩部件中液体的气体溶解率，减少气泡的生成，且可实现自动补液功能；从而有效提高制程稳定性，提高产品质量，减少液体消耗量，降低维护成本，提高设备利用率。
伸缩部件供液系统驱动部件液体处理装置本实用新型储液装置设备利用率液体消耗量气体溶解真空吸取自动补液负压制程驱动维护

[实用新型]一种顶针及涂胶显影设备-CN201920196619.2有效
发明人：张海陆;颜廷彪;黄志凯;叶日铨 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-02-14 - 公布日： 2019-08-23 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种顶针及涂胶显影设备，所述顶针应用于半导体加工设备中，所述顶针包括支撑杆和吸盘；所述支撑杆内设有真空腔室，所述真空腔室沿所述支撑杆的轴向设置；所述吸盘位于所述支撑杆的顶部，所述吸盘包括盘面和相对于所述盘面向上凸出设置的边沿；所述盘面的中央设有通孔，所述通孔与所述真空腔室相连通。所述涂胶显影设备包括上述的顶针。本实用新型可以通过真空腔室内产生的压力差将晶圆牢牢地吸附于吸盘上，此种设计还可以增大晶圆与顶针之间的接触面积，有效避免顶针顶部的磨损，进而有效防止晶圆背面刮伤或破损，从而可以降低晶圆的报废率，提高产品的良率。
顶针吸盘支撑杆涂胶显影设备真空腔室晶圆本实用新型盘面通孔半导体加工设备晶圆背面凸出设置轴向设置报废率压力差真空腔刮伤良率吸附磨损破损室内应用

[发明专利]掩膜图形清洗方法-CN201910458854.7在审
发明人：刘庆超;徐丽芝;沈雪;颜廷彪;黄志凯;叶日铨 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-05-29 - 公布日： 2019-08-20 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：一种掩膜图形清洗方法，包括：提供初始掩膜图形；对所述初始掩膜图形进行显影处理，形成掩膜图形；提供纳米气泡与清洁水的混合液，对所述掩膜图形进行清洗。本发明有助于清除显影处理在所述掩膜图形上形成的反应残留物。
掩膜图形清洗显影处理反应残留物纳米气泡混合液清洁水

[发明专利]光刻胶涂布装置-CN201910399895.3在审
发明人：刘庆超;徐丽芝;颜廷彪;黄志凯;叶日铨 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-05-14 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：一种光刻胶涂布装置，包括腔底座、腔身、腔顶盖，所述腔底座、所述腔身以及所述腔顶盖构成涂布腔室；涂布溅射区，位于所述腔顶盖内壁，且所述涂布溅射区的材料为亲水性润湿材料。亲水性材质可以减小液体与所述亲水性材质表面的接触角，从而使液体不易沾粘在所述涂布溅射区，增大了液体流动性；当进行涂布工艺时，由于离心力而飞出混合液体到达所述涂布溅射区更容易流动排出，避免产生堆积，减少反溅，从而提高所述涂布装置的工作效率。
溅射区光刻胶涂布装置亲水性材质顶盖腔身底座液体流动性顶盖内壁工作效率混合液体润湿材料涂布工艺涂布腔室涂布装置接触角亲水性减小排出堆积流动

[发明专利]光刻胶补液装置及光刻胶补液方法-CN201910303493.9在审
发明人：刘庆超;徐丽芝;颜廷彪;黄志凯;叶日铨 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-04-16 - 公布日： 2019-08-02 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：该发明涉及一种光刻胶补液装置及光刻胶补液方法，其中所述光刻胶补液装置包括：补液管路，用于传输光刻胶至喷嘴，供所述喷嘴喷出；真空泵，输入端和输出端分别通过两段连接管路连通至所述补液管路，所述真空泵、两段连接管路以及两段连接管路之间的补液管路构成一循环回路，所述真空泵用于使光刻胶在所述循环回路内循环流动；温控器，设置在所述循环回路上，用于控制流经所述循环回路的光刻胶的温度；过滤器，安装至所述真空泵，用于滤除流经所述真空泵的光刻胶内的气泡。所述光刻胶补液装置及光刻胶补液方法能够减少光刻胶内的气泡，使光刻胶被喷涂到硅抛光片表面时形成的光刻胶膜的膜厚均匀，能大大的减少晶圆制备过程中的缺陷。
光刻胶真空泵补液装置循环回路补液管路连接管路补液两段过滤器光刻胶膜硅抛光片膜厚均匀制备过程喷嘴传输光内循环喷嘴喷输出端输入端温控器喷涂晶圆连通滤除流动

[发明专利]一种液体管路以及检测液体管路泄露的方法-CN201910261245.2在审
发明人：刘庆超;徐丽芝;唐磊;颜廷彪;黄志凯;叶日铨 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-04-02 - 公布日： 2019-07-16 - 主分类号： F17D5/06 文献下载
摘要：本申请提供一种液体管路以及检测液体管路泄露的方法，所述液体管路包括：管内壁层，所述管内壁层整体上电绝缘；导电件，设置在所述管内壁层形成的空间内；第一导电层，直接设置在所述管内壁层表面，所述第一导电层的电阻率小于管路内传输介质的电阻率；第一绝缘层，设置在所述第一导电层表面；导线层，设置在所述第一绝缘层表面，所述导线层包括一根以上独立排布的金属线，所述金属线互相不导通；第二绝缘层，设置在所述导线层表面；第二导电层，设置在所述第二绝缘层表面，所述第二导电层的电阻率小于管路内传输介质的电阻率。所述液体管路可在管路发生渗漏的初期发现泄漏点，并精确识别发生泄漏的管路，从而及时处理管路泄露问题。
管内壁层液体管路电阻率第一导电层管路泄露导线层绝缘层第二导电层绝缘层表面传输介质检测液体金属线直接设置导电件泄漏点导通排布上电绝缘渗漏泄漏申请发现

[实用新型]边缘曝光装置-CN201821270716.3有效
发明人：潘展望;颜廷彪;黄志凯;叶日铨 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2018-08-07 - 公布日： 2019-05-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种边缘曝光装置。所述边缘曝光装置，包括用于传输光信号的光纤，还包括遮光罩，所述遮光罩套设于所述光纤外部，以避免自所述光纤泄露的光线照射至待曝光的晶圆边缘。本实用新型避免了晶圆边缘多次曝光，提高了机台利用率。
边缘曝光装置本实用新型光纤晶圆边缘遮光罩半导体制造技术机台传输光信号光线照射曝光泄露外部

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