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[实用新型]一种光刻胶涂布头及涂布装置-CN201220610368.6有效
发明人：李伟;王建峰;刘富军;魏崇喜 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2012-11-16 - 公布日： 2013-04-17 - 主分类号： C03C17/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光刻胶涂布头及涂布装置，以解决现有技术中需要在玻璃基板整面涂布光刻胶，造成光刻胶浪费的问题。本实用新型中提供的光刻胶涂布头具有依次间隔排列的若干光刻胶出口。利用本实用新型中具有间隔排列的若干光刻胶出口进行光刻胶涂布，能够避免在玻璃基板的整面涂布光刻胶，减少光刻胶用量，降低成本。
一种光刻布头装置

[发明专利]一种用于回收涂布机管道内光刻胶的装置-CN201510742091.0在审
发明人：刘幸 -专利权人：刘幸
申请日： 2015-11-05 - 公布日： 2016-02-24 - 主分类号： G03F7/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于回收涂布机管道内光刻胶的装置，包括光刻胶容器，光刻胶管道，光刻胶抽取装置，涂布刮刀，以及涂布机管道，还包括光刻胶回收容器，所述光刻胶回收容器通过光刻胶回收管道与光刻胶抽取装置相连，所述光刻胶收回管道上设置有过滤器和流量计，所述光刻胶抽取装置开设三个端口，第一端口与光刻胶管道连接，第二端口与涂布机管道连接，第三端口与光刻胶回收管道连接。本发明在涂布机定期维护阶段对涂布刮刀和涂布机管道内的光刻胶进行了充分、合理的利用。
一种用于回收涂布机管道光刻装置

[实用新型]一种用于回收涂布机管道内光刻胶的装置-CN201520873578.8有效
发明人：刘幸 -专利权人：刘幸
申请日： 2015-11-05 - 公布日： 2016-05-04 - 主分类号： G03F7/26 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于回收涂布机管道内光刻胶的装置，包括光刻胶容器，光刻胶管道，光刻胶抽取装置，涂布刮刀，以及涂布机管道，还包括光刻胶回收容器，所述光刻胶回收容器通过光刻胶回收管道与光刻胶抽取装置相连，所述光刻胶收回管道上设置有过滤器和流量计，所述光刻胶抽取装置开设三个端口，第一端口与光刻胶管道连接，第二端口与涂布机管道连接，第三端口与光刻胶回收管道连接。本实用新型在涂布机定期维护阶段对涂布刮刀和涂布机管道内的光刻胶进行了充分、合理的利用。
一种用于回收涂布机管道光刻装置

[发明专利]光刻胶涂布喷嘴及具有其的光刻胶涂布设备-CN202010606025.1在审
发明人：金在植;张成根;林锺吉;贺晓彬;李亭亭;杨涛;李俊峰;王文武 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2020-06-29 - 公布日： 2020-10-02 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请属于光刻胶涂布技术领域，具体涉及一种光刻胶涂布喷嘴及具有其的光刻胶涂布设备，该光刻胶涂布喷嘴包括喷嘴本体，喷嘴本体内设置有彼此隔开的有机溶剂管路和光刻胶管路，有机溶剂管路与有机溶剂罐连通，用于向待涂件上喷涂有机溶剂，光刻胶管路与光刻胶瓶连通，用于在有机溶剂喷涂至待涂件上后向待涂件上喷涂光刻胶。根据本申请的光刻胶涂布喷嘴，通过在喷嘴本体内集成有彼此隔开的有机溶剂管路和光刻胶管路，光刻胶涂布喷嘴首先通过有机溶剂管路向待涂件喷涂有机溶剂，然后在原地通过光刻胶管路向待涂件喷涂光刻胶，在喷涂过程中不需要移动光刻胶涂布喷嘴，以此减少光刻胶涂布喷嘴在移动过程中出现光刻胶液滴滴落在待涂件上的现象。
光刻胶涂布喷嘴具有布设

[发明专利]光刻胶涂布方法-CN201810270413.X在审
发明人：王耀增;罗丁硕;杨然富;赵弘文;蔡孟霖 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2018-03-29 - 公布日： 2018-09-04 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻胶涂布方法，包括步骤：步骤一、提供一具有沟槽式结构的衬底；步骤二、将衬底放置在涂胶机台上，根据在衬底上所需要涂布的总光刻胶层的厚度计算出整个光刻胶涂布所需要的光刻胶总喷量；将光刻胶总喷量分解成两次以上的光刻胶喷量；步骤三、根据计算的光刻胶喷量依次进行对应次的光刻胶的涂布并由各次涂布的光刻胶叠加形成总光刻胶层。本发明能提高光刻胶涂布的平坦化效果，节省光刻胶的使用量以及节省工艺时间。
光刻胶光刻胶涂布衬底刻胶层总光沟槽式结构厚度计算平坦化涂胶机叠加分解

[发明专利]光刻胶回吸装置、光刻胶涂布设备及光刻胶涂布方法-CN202010752075.0在审
发明人：金在植;张成根;林锺吉;贺晓彬;杨涛;李俊峰;王文武 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2020-07-30 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻胶回吸装置、光刻胶涂布设备及光刻胶涂布方法，涉及半导体制造技术领域，其中光刻胶回吸装置包括监测器、通断回吸机构以及控制器，监测器安装在光刻胶涂布设备上，用于监测光刻胶涂布设备中光刻胶喷嘴内的光刻胶液柱；通断回吸机构设置在光刻胶涂布设备的光刻胶管路上，通断回吸机构中的调节组件用于调节光刻胶管路中光刻胶的回吸量，以控制与光刻胶管路连通的光刻胶喷嘴内的光刻胶液柱的位置；控制器分别与监测器和通断回吸机构信号连接本发明公开的光刻胶回吸装置能够避免光刻胶因距离光刻胶喷嘴的开口过近而发生凝结或滴落。
光刻胶回吸装置布设胶涂布方法

[发明专利]一种光刻胶涂布系统及方法-CN201711392363.4在审
发明人：朱治国 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2017-12-21 - 公布日： 2018-04-20 - 主分类号： B05B13/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种光刻胶涂布系统及方法，所述光刻胶喷涂系统包括晶圆承载台、驱动装置、光刻胶存储装置及光刻胶喷头；所述驱动装置与所述晶圆承载台连接以驱动所述晶圆承载台旋转；所述光刻胶喷头位于所述晶圆承载台上方，所述光刻胶喷头的数量为多个，每个所述光刻胶喷头均与所述光刻胶存储装置活动连接。光刻胶喷头位于晶圆承载台上方，光刻胶喷头的数量为多个，每个光刻胶喷头均与光刻胶存储装置活动连接，由此可以根据晶圆的尺寸、光刻胶均匀性设置光刻胶喷头的位置，从而使得光刻胶喷头更好的适应对于晶圆的涂布，由此能够减少光刻胶涂布的时间，减少甩出晶圆的光刻胶量，最后减少了光刻胶使用量，还减少了光刻胶涂布不良。
一种光刻胶涂布系统方法

[发明专利]光刻胶涂布系统以及更换光刻胶的方法-CN202010575946.6在审
发明人：金在植;张成根;林锺吉;贺晓彬;刘金彪;杨涛;李俊峰;王文武 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2020-06-22 - 公布日： 2020-11-06 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本申请属于光刻胶涂布技术领域，具体涉及一种光刻胶涂布系统以及更换光刻胶的方法，光刻胶涂布系统包括：供胶机构，供胶机构包括依次连接的供胶瓶、过滤器和喷嘴；清理机构，清理机构包括真空装置和真空管路，真空装置通过真空管路与过滤器连接根据本申请的光刻胶涂布系统，当需要用新品种的光刻胶替换光刻胶涂布系统内原有的光刻胶时，需要对光刻胶涂布系统进行清洗才能设置新品种的光刻胶，而对过滤器的清洗尤为重要，本申请通过真空装置吹扫清洗过滤器内附着的气泡和杂质颗粒，以此降低光刻胶涂布系统的清洗时间。
光刻胶涂布系统以及更换方法

[发明专利]扫描式光刻胶涂布系统及方法-CN201811055609.3在审
发明人：吴明锋 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2018-09-11 - 公布日： 2020-03-17 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供了一种扫描式光刻胶涂布系统及方法，所述扫描式光刻胶涂布系统包括：用于放置待涂布晶圆的晶圆承载台；多孔式光刻胶涂布头，包括内部设有容纳腔的涂布主体和与容纳腔连通且位于涂布主体下方的喷嘴；用于驱动多孔式光刻胶涂布头在待涂布晶圆的上方沿垂直于涂布主体长度方向的水平方向移动的第一驱动装置本发明所提供的扫描式光刻胶涂布方法通过使用多孔式光刻胶涂布头进行扫描式涂布，并通过匀胶旋转使待涂布晶圆表面的光刻胶厚度分布更为均匀，进而改善光刻特征尺寸在晶圆面内的均匀性，提升产品的良率。
扫描光刻胶涂布系统方法

[实用新型]扫描式光刻胶涂布系统-CN201821480547.6有效
发明人：吴明锋 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2018-09-11 - 公布日： 2019-04-05 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种扫描式光刻胶涂布系统，所述扫描式光刻胶涂布系统包括：用于放置待涂布晶圆的晶圆承载台；多孔式光刻胶涂布头，包括内部设有容纳腔的涂布主体和与容纳腔连通且位于涂布主体下方的喷嘴；用于驱动多孔式光刻胶涂布头在待涂布晶圆的上方沿垂直于涂布主体长度方向的水平方向移动的第一驱动装置本实用新型所提供的扫描式光刻胶涂布系统通过使用多孔式光刻胶涂布头进行扫描式涂布，并通过匀胶旋转使待涂布晶圆表面的光刻胶厚度分布更为均匀，进而改善光刻特征尺寸在晶圆面内的均匀性，提升产品的良率。
光刻胶涂布扫描式涂布主体多孔式本实用新型容纳腔晶圆第一驱动装置水平方向移动晶圆承载台厚度分布晶圆表面喷嘴光刻胶均匀性光刻良率圆面匀胶连通垂直驱动

[发明专利]一种光刻胶喷涂设备-CN201510139164.7在审
发明人：张靓 -专利权人：南京市雨花台区知识产权促进中心
申请日： 2015-03-28 - 公布日： 2015-07-29 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻胶喷涂设备，所述的光刻胶喷涂设备包括光刻胶存储器、光刻胶管道、超声波发生器、喷嘴、传输带。在封闭环境中，液态光刻胶储存于光刻胶存储器中，通过输出口进入光刻胶管道内，光刻胶管道附有温度控制器，控制光刻胶的液化状态，光刻胶管道与超声波发生器相连，超声波发生器将光刻胶管道内的液态光刻胶气化后经过喷嘴喷出，受涂布的物品固定在传输带上进行流水式传送，完成整个涂布过程。该系统装备简单易操作，涂布技术先进，涂布效果更均匀，省时省力，为企业节约成本，促进收益增长。
一种光刻喷涂设备

[发明专利]应用于光刻胶收集杯的光刻胶清洗装置和清洗方法-CN201711173572.X在审
发明人：不公告发明人 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2017-11-22 - 公布日： 2019-05-28 - 主分类号： B08B9/093 文献下载
摘要：本发明提供一种应用于光刻胶涂布设备的光刻胶清洗装置和清洗方法，以及应用其的光刻胶涂布设备，其中，光刻胶清洗装置包括至少一个设置于光刻胶收集杯的内壁顶部第一清洗喷嘴，用于向光刻胶收集杯的内壁喷出清洗液。本发明实施例的光刻胶清洗装置和光刻胶涂布设备可以在不拆卸光刻胶收集杯的情况下对光刻胶进行清洗，并且可以清洗全部的残留光刻胶，包括残留在光刻胶收集杯的内壁顶部的光刻胶，从而避免光刻胶反溅问题，提高晶圆的良率，降低光刻时间和成本，提供工作效率。
光刻胶收集杯清洗装置光刻胶涂布清洗内壁顶部残留应用工作效率清洗喷嘴清洗液拆卸光刻晶圆良率内壁喷出

[发明专利]光刻胶的脱泡方法及设备-CN201210288323.6无效
发明人：金铉东;杨海浪 -专利权人：四川虹视显示技术有限公司
申请日： 2012-08-14 - 公布日： 2012-11-14 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明涉及光刻胶的脱泡方法及设备。包括：在涂布光刻胶之前最多1小时内，通过振荡装置将置于容器内的光刻胶产生振动，使光刻胶内的气泡上升直到所述气泡溢出容器。本发明的光刻胶的脱泡方法及设备，能够在除去光刻胶内气泡的时候不需要除泡剂，除泡后能够保持光刻胶的原有特性，使光刻胶涂布的基板表面光滑平整，明显的提高了光刻胶的涂布性能，并且还可以任意调节光刻胶的量，方便生产的需要
光刻脱泡方法设备

[发明专利]一种单向螺旋COF涂布滚轮-CN201910784415.5在审
发明人：叶新智;王健;杨洁;孙彬;沈洪;李晓华 -专利权人：江苏上达电子有限公司
申请日： 2019-08-23 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种单向螺旋COF涂布滚轮，包括将光刻胶带出的下涂布滚轮，以及用于转移下涂布滚轮上的光刻胶、并涂抹在COF基材的上涂布滚轮；所述上涂布滚轮上设有螺旋状沟槽。本发明有益技术效果：当光刻胶黏度降低时，上涂布滚轮上的螺旋状沟槽，实现光刻胶在产品上均匀涂布，降低在涂布光刻胶过程中产生的回流。
涂布滚轮螺旋状沟槽单向螺旋光刻胶光刻胶过程光刻胶黏度技术效果均匀涂布胶带光刻基材涂抹

[发明专利]一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统及工作方法-CN201711140564.5在审
发明人：张煜 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2017-11-16 - 公布日： 2018-04-13 - 主分类号： B05B12/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种实时监控光刻胶喷涂系统及工作方法，包括光刻胶瓶；光刻胶储存罐的入口端连接光刻胶瓶的出口端；光刻胶供应系统包括光刻胶过滤器、光刻胶压缩泵和流量调节阀；光刻胶过滤器安装于光刻胶压缩泵的入口端处；光刻胶储存罐的出口端连接光刻胶过滤器的入口端，光刻胶过滤器的出口端连接光刻胶压缩泵的入口端；流量调节阀的入口端连接光刻胶压缩泵的出口端；喷嘴的入口端连接流量调节阀的出口端；红外线检测器设置于喷嘴上；红外线检测器连接涂布控制单元，涂布控制单元连接机台通信系统，机台通信系统连接机台运行数据整合系统。本发明通过实时检测光刻胶涂布情况可以及时发现涂布不正常的现象。
一种新型实时监控光刻喷涂系统工作方法

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