专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种发光二极管的制作方法-CN201610775319.0有效
  • 夏章艮;王锋;林素慧;彭康伟;洪灵愿;徐宸科 - 厦门市三安光电科技有限公司
  • 2016-08-31 - 2018-08-31 - H01L33/22
  • 本发明公开了一种发光二极管的制作方法,包括工艺步骤:提供一衬底,外延生长发光外延层,由N型半导体层、发光层以及P型半导体层堆叠而成,定义发光外延层上表面分为P型区域与N型区域;在发光外延层上形成金属膜层;采用快速热退火处理,使得金属膜层发生球聚,形成金属颗粒;在发光外延层及金属颗粒上形成掩膜层,并对掩膜层进行图案化,使得N型区域裸露出来;采用金属颗粒及掩膜层作为掩膜结构,进行蚀刻工艺,使得N型区域蚀刻至N型半导体层裸露出来,并将N型半导体层的上表面粗化;去除掩膜层,并保留P型半导体层上的金属颗粒,进行芯片制程。
  • 一种发光二极管制作方法
  • [发明专利]微元件的巨量转移方法-CN201711153705.7在审
  • 钟志白;李佳恩;郑锦坚;郑建森;徐宸科;康俊勇 - 厦门市三安光电科技有限公司
  • 2017-11-20 - 2018-05-01 - H01L21/68
  • 本发明提供一种微元件的巨量转移方法,包括步骤1)采用整面光敏材料抓取微元件;2)利用微元件作为光刻掩膜版,将光敏材料制作成梯形结构及支撑微柱;3)采用机械力压断支撑微柱,实现所述微元件的巨量转移。本发明采用整面的光敏材料抓取微元件,可以避免微元件抓取对准精度不足的问题;本发明利用微元件作为光刻掩膜版,将光敏材料制作成梯形结构及支撑微柱,有利于微元件的稳定性以及后续分离的简易性;本发明只需要采用机械力压断支撑微柱便可实现微元件的巨量转移,工艺简单,可有效降低工艺成本。
  • 元件巨量转移方法

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