专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]形成嵌入式管芯衬底的半导体器件和方法-CN201811092945.5有效
  • 梁悳景;李勋择;金成洙;李喜秀 - 新科金朋私人有限公司
  • 2018-09-14 - 2021-06-08 - H01L21/98
  • 本发明公开了形成嵌入式管芯衬底的半导体器件和方法,以及具有所述嵌入式管芯衬底的系统级封装模块。一种半导体器件具有第一衬底。第一半导体组件被设置在所述第一衬底的第一表面上。第二衬底包括在所述第二衬底的第一表面上的垂直互连结构。第二半导体组件被设置在所述第二衬底的第一表面上。所述第一半导体组件或第二半导体组件是半导体封装。所述第一衬底被设置在所述第二衬底之上,其中所述第一半导体组件和第二半导体组件在所述第一衬底和第二衬底之间。第一密封剂被沉积在所述第一衬底和第二衬底之间。SiP子模块被设置在所述第一衬底或第二衬底之上,与密封剂相对。在SiP子模块之上形成屏蔽层。
  • 形成嵌入式管芯衬底半导体器件方法
  • [发明专利]芯片制造方法及芯片结构-CN201880098299.5在审
  • 王逵 - 北京比特大陆科技有限公司
  • 2018-11-30 - 2021-05-14 - H01L21/98
  • 本公开公开了一种芯片制造方法及芯片结构。所述方法包括:在第一晶圆上制作多个第一掩膜单元,第一掩膜单元包括处理器簇群、第一存储器、存储通道、串行通道、控制器和总线接口模块中的一种或多种;在第一晶圆上制作第一连接点;在第二晶圆上制作多个第二掩膜单元,第二掩膜单元包括第二存储器、扩展模块和总线互联模块中的一种或多种;在第二晶圆上制作第二连接点;将第一晶圆和第二晶圆通过第一连接点和第二连接点键合在一起,对晶圆进行切割,切割得到的芯片尺寸与第二掩膜单元的尺寸相同。本公开技术方案可以大大节省芯片生产时产生的一次性费用,不仅能够节省时间和人力成本,还能够降低每个单一规格或性能产品的生产风险和生产成本。
  • 芯片制造方法结构
  • [发明专利]半导体封装方法、半导体组件以及包含其的电子设备-CN202011559060.9在审
  • 李维平 - 上海易卜半导体有限公司
  • 2020-12-25 - 2021-04-20 - H01L21/98
  • 本申请公开了一种半导体封装方法、半导体组件以及包含该半导体组件的电子设备,其中半导体封装方法包括:提供半导体器件、载板和夹板,其中半导体器件的有源表面上形成有连接端子且在无源表面上形成有第一对准焊接部,且载板上形成有对应的第二对准焊接部,载板和/或夹板上贯穿形成有用于注塑的开口;将半导体器件放置在载板上,使得第一对准焊接部与第二对准焊接部基本对准;通过对第一对准焊接部和第二对准焊接部进行焊接来形成对准焊点,使得半导体器件精确对准并固定至载板;通过开口进行注塑以在载板和预先贴附在有源表面上的夹板之间形成包覆半导体器件的塑封体;移除夹板;和在塑封体暴露连接端子的表面上依次形成互连层和外部端子。
  • 半导体封装方法组件以及包含电子设备
  • [发明专利]半导体器件、半导体器件的制造方法及封装件-CN202011106489.2在审
  • 吴俊毅;余振华;刘重希 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2020-10-16 - 2021-04-20 - H01L21/98
  • 一种制造半导体器件的方法,包括在第一半导体器件的导电焊盘上放置金属芯焊料球,其中,所述金属芯焊料球包括由焊料材料围绕的金属芯;以及形成器件结构,形成所述器件结构包括:在载体衬底上放置所述第一半导体器件;用密封剂密封所述第一半导体器件,其中,所述密封剂覆盖所述金属芯焊料球;在所述密封剂上实施平坦化工艺,其中,所述平坦化工艺暴露所述金属芯焊料球;以及在所述密封剂和所述第一半导体器件上方形成再分布结构,其中,所述再分布结构电连接至所述金属芯焊料球。本申请的实施例还提供半导体器件及封装件。
  • 半导体器件制造方法封装
  • [发明专利]半导体封装方法、半导体封装结构及封装体-CN201910982076.1在审
  • 刘杰;应战 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2019-10-16 - 2021-04-16 - H01L21/98
  • 本发明提供一种半导体封装方法、半导体封装结构及封装体,所述封装方法包括如下步骤:提供衬底晶圆,衬底晶圆具有相对设置的第一表面及第二表面,在第一表面具有多个凹槽,在凹槽底部具有多个导电柱,导电柱贯穿凹槽底部至第二表面;提供多个半导体裸片堆叠体;将半导体裸片堆叠体置于凹槽中,半导体裸片堆叠体的上表面低于或者平齐于凹槽的上边缘,半导体裸片堆叠体的底部与导电柱电连接;在凹槽的侧壁与半导体裸片堆叠体之间的间隙内充满绝缘介质,形成绝缘介质层,且绝缘介质层覆盖半导体裸片堆叠体的上表面,以密封半导体裸片堆叠体,形成半导体封装结构。本发明的优点在于,形成的半导体封装结构封装高度低、稳固性高、可靠性高及翘曲度低。
  • 半导体封装方法结构
  • [发明专利]半导体装置的制造方法-CN202010709013.1在审
  • 赤羽隆章 - 铠侠股份有限公司
  • 2020-07-22 - 2021-03-05 - H01L21/98
  • 在基于本实施方式的半导体装置的制造方法中,按照使设置于第1半导体芯片上的多个第1金属端子与设置于第2半导体芯片上且被氧化膜覆盖的多个第2金属端子彼此相接触的方式将第1及第2半导体芯片层叠。执行下述第1工序:在不导入将氧化膜还原的还原气体的情况下,以第2金属端子的熔点以上的第1温度将第1及第2半导体芯片进行热处理。执行下述第2工序:导入还原气体,以使该还原气体活化的温度以上且第2金属端子的熔点以下的第2温度将第1及第2半导体芯片进行热处理。执行下述第3工序:以第2金属端子的熔点以上的第3温度将第1及第2半导体芯片进行热处理。
  • 半导体装置制造方法
  • [发明专利]存储卡及其封装方法-CN202011296647.5在审
  • 赖振楠 - 深圳宏芯宇电子股份有限公司
  • 2020-11-18 - 2021-03-02 - H01L21/98
  • 本申请公开一种存储卡及其封装方法,所述存储卡的封装方法包括:提供牺牲层;将存储芯片和控制芯片固定于所述牺牲层表面;形成覆盖所述存储芯片和控制芯片的塑封层;去除所述牺牲层;在所述塑封层底部形成电连接层,所述电连接层与所述塑封层共同包裹所述存储芯片和所述控制芯片,并且,所述电连接层内形成有电连接结构,与所述存储芯片和所述控制芯片电性连接,实现存储芯片与控制芯片之间的电连接,以及将所述控制芯片电性引出。上述封装方法成本较低。
  • 存储及其封装方法
  • [发明专利]三维堆叠结构及其制备方法-CN201910599721.1在审
  • 蔡汉龙;林正忠 - 中芯长电半导体(江阴)有限公司
  • 2019-07-04 - 2021-01-05 - H01L21/98
  • 本发明提供一种三维堆叠结构及其制备方法,三维堆叠结构包括电连接的多个半导体封装结构,半导体封装结构包括电路板、芯片、金属焊线、封装层主体、第一金属凸块及第二金属凸块;第一金属凸块位于封装层主体的顶面上且与第一金属焊线电连接,第二金属凸块位于封装层主体的侧面上且与第二金属焊线电连接;半导体封装结构的电性引出端包括第一金属凸块、第二金属凸块及电路板第二面,且多个半导体封装结构通过电性引出端的电连接构成三维堆叠结构。本发明制备工艺简单,可以随需求往纵向、横向及侧向电连接半导体封装结构,可提高三维封装的灵活性,扩大三维封装的应用,提高半导体封装结构的密集度。
  • 三维堆叠结构及其制备方法
  • [发明专利]晶片的制造方法和层叠器件芯片的制造方法-CN202010434451.1在审
  • 川合章仁;金永奭 - 株式会社迪思科
  • 2020-05-21 - 2020-12-01 - H01L21/98
  • 提供晶片的制造方法和层叠器件芯片的制造方法,能够抑制层叠器件芯片的成品率降低。该晶片的制造方法具有如下的步骤:晶片准备步骤,准备晶片,该晶片在由相互交叉的多条间隔道划分的多个区域内分别形成有半导体器件;挖除步骤,分别判别形成于晶片的多个半导体器件是良品还是次品,将包含被判别为次品的半导体器件的次品器件区域从晶片挖除;以及嵌入步骤,将具有良品的半导体器件且尺寸能够嵌入至通过挖除次品器件区域而形成的间隙中的器件芯片嵌入至间隙中,该良品的半导体器件具有与被判别为次品的半导体器件相同的功能。
  • 晶片制造方法层叠器件芯片

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