[发明专利]一种封装结构的制作方法有效

专利信息
申请号: 202110455746.1 申请日: 2021-04-26
公开(公告)号: CN113270325B 公开(公告)日: 2023-03-31
发明(设计)人: 徐健;王德信;曹玉媛;王伟;李成祥 申请(专利权)人: 青岛歌尔智能传感器有限公司
主分类号: H01L21/50 分类号: H01L21/50;H01L21/56;H01L21/60;H01L23/367;H01L23/31
代理公司: 北京博雅睿泉专利代理事务所(特殊普通合伙) 11442 代理人: 柳岩
地址: 266100 山东省*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 封装 结构 制作方法
【说明书】:

本申请公开了一种封装结构的制作方法,将多个第一芯片间隔设置于散热板上,每个所述第一芯片上远离所述散热板的一侧设置第一凸点,将所述第一芯片塑封于所述散热板上形成第一封装层,并在每个所述第一凸点上设置RDL层,在所述第一封装层上设置第二芯片和转接板,所述第一芯片和所述第二芯片通过所述RDL层和所述转接板信号连接;将所述第二芯片和所述转接板塑封于所述第一封装层上以形成第二封装层。在本申请实施例中,采用将第一芯片、第二芯片和转接板堆叠设置,使得封装结构的结构更加紧凑,通过将第一芯片直接固定在散热板上,热量能够通过散热板快速散出,实现对封装结构内部的第一芯片和第二芯片进行快速降温的效果。

技术领域

本申请属于半导体封装技术领域,具体地,本申请涉及一种封装结构的制作方法。

背景技术

随着电子产品多功能化和小型化的潮流,高密度微电子组装技术在新一代电子产品上逐渐成为主流。在工业技术水平的发展下,人们对于电子元件的散热性能也提出了更为严格的要求,电子元件散热方式多种多样,需要综合考虑各类因素进行选取。如何选取高效适合的封装结构,是封装设计人员需要着重考虑的因素。

现有技术中对于热耗体积和密度都很高或者高温环境下的电子元件,散热方法一般都选择液体冷却法。对于芯片晶圆工艺,受限于芯片工艺及制作结构,很难在芯片内部增加散热结构,液体冷却法难以实现。所以封装结构无法实现散热功能,导致电子元件发热严重,使用寿命降低,同时使用过程中会产生系统卡顿甚至死机等情况的发生。

因此,有必要对封装结构的制作方法进行改进,解决现有技术中封装结构散热较差的问题。

发明内容

本申请的一个目的是提供一种封装结构的制作方法,以解决现有技术中封装结构散热较差的问题。

根据本申请的一个方面,提供了一种封装结构的制作方法,将多个第一芯片间隔设置于散热板上,每个所述第一芯片上远离所述散热板的一侧设置第一凸点,将所述第一芯片塑封于所述散热板上形成第一封装层,所述第一凸点裸露于所述第一封装层的表面,并在每个所述第一凸点上设置RDL层;

在所述第一封装层上设置第二芯片和转接板,所述第二芯片朝向所述RDL层一侧设置第二凸点,所述转接板上朝向所述RDL层的一侧设置第三凸点,所述第二凸点和所述第三凸点分别连接于所述RDL层上,所述第一芯片和所述第二芯片通过所述RDL层与所述转接板信号连接;

将所述第二芯片和所述转接板塑封于所述第一封装层上以形成第二封装层,所述转接板远离所述RDL层的一侧裸露于所述第二封装层的表面,并在所述转接板远离所述RDL层的一侧设置有第四凸点,所述第二芯片被所述第二封装层包裹。

可选地,形成所述第一封装层时,所述第一凸点被所述第一封装层包裹,研磨所述第一封装层远离所述散热板的一侧,至所述第一凸点裸露于所述第一封装层的表面。

可选地,形成所述第二封装层时,所述转接板被所述第二封装层所完全包裹,研磨所述第二封装层远离所述散热板的一侧,至所述转接板远离所述散热板的一侧裸露于所述第二封装层的表面。

可选地,所述转接板裸露于所述第二封装层的表面时,所述第二芯片均被所述第二封装层包裹。

可选地,所述第一芯片上设置至少两个所述第一凸点,所述第二芯片上设置至少两个所述第二凸点,每个所述第一凸点上均设置有所述RDL层,每个所述RDL层均与所述转接板信号连接,所述第二芯片上的两个所述第二凸点分别和两个不同的所述第一芯片上的任一所述RDL层相连。

可选地,所述第一芯片通过焊接固定于所述散热板上。

可选地,所述第一凸点、所述第二凸点、所述第三凸点和所述第四凸点由金、锡、银、铝或铜中的任意一种或几种导电材料构成。

可选地,第一封装层内,相邻的所述第一芯片之间填充有塑封材料;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于青岛歌尔智能传感器有限公司,未经青岛歌尔智能传感器有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110455746.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top